DE102004049111A1

DE102004049111A1 - Verfahren zur Glanzbeschichtung von Substraten sowie glanzbeschichtetes Substrat

Info

Publication number: DE102004049111A1
Application number: DE200410049111
Authority: DE
Inventors: Klaus-Dieter Nauenburg; Peter Fiedler; Holger Kühlthau
Original assignee: Leybold Optics GmbH
Current assignee: Buehler Alzenau GmbH
Priority date: 2004-10-07
Filing date: 2004-10-07
Publication date: 2006-04-13

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Hochglanzbeschichtung von Substraten mit einer glatten Oberfläche, bei welchem nach einer Plasmavorbehandlung des Substrates eine zumindest Silizium, Sauerstoff und Kohlenstoff umfassende Polymerschicht mittels Plasmapolymerisation aufgebracht wird, anschließend eine Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder Metallverbindung mittels Sputtern aufgebracht wird und abschließend eine zumindest teiltransparente, verschleißfeste Lackdeckschicht zum Schutz des beschichteten Substrates aufgebracht wird. Die Erfindung betrifft außerdem ein glanzbeschichtetes Substrat mit einer Basisschicht aus einem zumindest aus 20 at% bis 30 at% Silizium, 15 at% bis 30 at% Kohlenstoff und 35 at% bis 55 at% Sauerstoff umfassenden Polymer, einer Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder einer Metallverbindung und einer zumindest teiltransparenten, verschleißfesten Lackdeckschicht.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Glanzbeschichtung von Substraten, insbesondere zur Beschichtung von KFZ-Rädern bzw. Felgen mit einer hochwertigen metallischen Glanzbeschichtung sowie glanzbeschichtete Substrate, insbesondere glanzbeschichtete KFZ-Räder bzw. Felgen aus Leichtmetall, ist jedoch darauf nicht beschränkt.

Beschichtungen von KFZ-Rädern bzw. Felgen und anderen Gegenständen mit metallisch glänzenden Schichten sind bekannt. Dazu kann, wie beispielsweise in der EP 0 525 867 A1 beschrieben, ein Zweischichtsystem aus Lacken aufgebracht werden. Die erste Schicht besteht dabei aus einem die Grundfarbe enthaltenen Lack und die zweite Schicht besteht aus einem Glimmerpigmente enthaltenen transparenten Lack. Dabei wird zwar ein metallisch anmutender Effekt erzielt, es entsteht jedoch kein optisch ansprechender echter metallischer Glanz.

Weiterhin ist es allgemein bekannt, durch CVD- oder PVD-Verfahren, insbesondere durch Verdampfen von Metallen sowie durch Sputtern von Metalllegierungen oder Metallverbindungen relativ glatte, glänzende metallische Schichten auf Oberflächen abzuscheiden, um verschiedene Farb- und Glanzeffekte auf diesen zu erzielen. Problematisch dabei ist sowohl die Haftung der Schichten auf unterschiedlichsten Substraten, als auch der Korrosionsschutz der metallischen Beschichtungen und eventuell metallischer Substrate sowie der Schutz vor Verschleiß bei mechanischer Beanspruchung derart beschichteter Substrate. Ein weiteres Problem stellen die Oberflächen der Substrate dar, die ausreichend glatt sein müssen, um den Glanzeffekt der metallischen Schichten nicht zu mindern.

Zur Verbesserung der Glanzbeschichtung von Substraten wird in der WO 93/19219 ein Verfahren zum Beschichten eines Substrates mit einem eine Glanzwirkung hervorrufendem Material offenbart, bei dem zur Glättung der Oberfläche des Substrates eine Grundschicht, insbesondere eine Pulverlackschicht, aufgebracht wird, anschließend eine Metallschicht als Glanzschicht mittels Verdampfen aufgebracht wird und eine Deckschicht aus einer Pulverlackschicht aufgebracht wird. Derart beschichtete Substrate weisen zwar eine verbesserte Glanzwirkung sowie erhöhte Verschleißfestigkeit auf, halten jedoch sehr hohen mechanischen und korrosiven Beanspruchungen, denen beispielsweise KFZ-Räder ausgesetzt sind, nur unzureichend Stand.

Zur Glanzbeschichtung von Substraten mit verbesserter Korrosionsbeständigkeit und mechanischer Beanspruchbarkeit, wie dies beispielsweise für Felgen erforderlich ist, wird in der EP 0 822 010 B1 vorgeschlagen, die Oberfläche des Substrates vorab mechanisch zu glätten, dann eine korrosionshemmende, glättende Lackgrundschicht aufzubringen, anschließend eine Hochglanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder einer Metallverbindung mittels Magnetron-Sputtern aufzubringen und abschließend als Deckschicht eine transparente, verschleißfeste Lackschicht aufzubringen. Die Lackgrundschicht dient dabei dem zusätzlichen Korrosionsschutz des Substrates, wodurch ebenfalls die Haftung der Glanzschicht verbessert werden kann. Die hohe Elastizität der Lackschichten ermöglicht eine gute mechanische Beständigkeit der Beschichtung, vor allem gegen extreme mechanische Belastungen wie Abrieb und Steinschlag. Die Deckschicht bietet außerdem Schutz vor Umwelteinflüssen wie z.B. vor Angriffen durch Säuren und Laugen.

Um den Korrosionsschutz noch weiter zu verbessern, sollte auf die mechanisch geglättete Oberfläche außerdem eine Chromatschicht aufgebracht werden und um die Haftung der Glanzschicht weiter zu verbessern, sollte außerdem eine Haftvermittlerschicht zwischen der Lackgrundschicht und der Hochglanzschicht aufgebracht werden.

Beim Aufbringen hochverschleißfester und chemisch resistenter Lackschichten als Deckschicht, insbesondere mittels Einbrennlackieren, wird das beschichtete Substrat jedoch auch hohen thermischen Belastungen bis zu 230°C ausgesetzt. Dabei kommt es zu Spannungen zwischen den Schichten und einer verschlechterten Haftung und Beständigkeit der Beschichtung. Des Weiteren ist die Herstellung einer Beschichtung aus den vorgenannten bis zu fünf unterschiedlichen Einzelschichten, welche mit jeweils unterschiedlichen Verfahren aufgebracht werden, sehr aufwendig.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren bereitzustellen, mit welchem auf einfache und kostengünstige Weise eine hochbeständige, korrosionsfeste, mechanisch stabile und optisch ansprechende Hochglanzbeschichtung unterschiedlichster Substrate erfolgen kann sowie hochbeständige, korrosionsfeste, mechanisch stabile und optisch ansprechende hochglanzbeschichtete Substrate zur Verfügung zu stellen.

Die Lösung der Aufgabe gelingt mit einem Verfahren gemäß Anspruch 1 und einem hochglanzbeschichteten Substrat gemäß Anspruch 14. Weiter vorteilhafte Ausgestaltungen sind in den jeweiligen Unteransprüchen beschrieben.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Hochglanzbeschichtung von Substraten umfasst zumindest das Bereitstellen eines Substrates mit einer glatten Oberfläche, insbesondere mit einer Oberflächenrauhigkeit R_q von höchstens 10 nm (entspricht dem RMS-Wert nach DIN 4762/1 – root mean square roughness value), eine Plasmavorbehandlung des Substrates im Vakuum zur Reinigung und Aktivierung der Oberfläche, das anschließende Aufbringen einer Basisschicht aus einem zumindest Silizium, Sauerstoff und Kohlenstoff umfassenden Polymer mittels Plasmapolymerisation im Vakuum, das Aufbringen einer Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder Metallverbindung mittels Sputtern im Vakuum auf die Basisschicht und das abschließende Aufbringen einer zumindest teiltransparenten, verschleißfesten Lackdeckschicht zum Schutz des beschichteten Substrates.

Das erfindungsgemäße glanzbeschichtete Substrat umfasst zumindest ein Substrat mit einer Oberflächenrauhigkeit R_q von höchstens 10 nm (entspricht dem RMS-Wert nach DIN 4762/1 – root mean square roughness value) eine Basisschicht aus einem Polymer, welches zumindest 20 at% bis 30 at% Silizium, 15 at% bis 30 at% Kohlenstoff und 35 at% bis 55 at% Sauerstoff aufweist (wobei sich bei einer Erhöhung des Anteils von Sauerstoff der Anteil von Kohlenstoff in der Schicht verringert und umgekehrt), eine Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder einer Metallverbindung sowie eine zumindest teiltransparente, verschleißfeste Lackdeckschicht.

Die mittels Plasmapolymerisation bzw. einem Plasma-CVD-Verfahren aufgebrachte Basisschicht hat neben guten Barriere- und damit Korrosionsschutzeigenschaften eine hohe Flexibilität und bewirkt eine gute Haftvermittlung zwischen Substrat und Glanzschicht. Die Basisschicht ist außerdem temperaturstabil bis mindestens 230°C und kann durch ihre hohe Flexibilität Schichtspannungen zwischen Substrat und Glanzschicht ausgleichen, was zu einer erhöhten Beständigkeit und Haftfestigkeit der Beschichtung beiträgt. Auf eine derartige mittels der Basisschicht stabilisierte und haftfeste Glanzbeschichtung sowie insgesamt temperaturstabile Beschichtung kann nun auch ein sogenannter „schwerer Korrosionsschutz" als Lackdeckschicht zum extrem stabilen mechanischen Schutz und Korrosionsschutz aufgebracht werden, welche mittels Verfahren, die hohe Temperaturbelastungen mit sich bringen, wie beispielsweise das Einbrennen von Lacken in Temperaturbereichen bis zu 220°C, ausgeführt werden müssen.

Sowohl die Plasmavorbehandlung des Substrates als auch das Aufbringen der Basis- und der Glanzschicht können ohne großen verfahrenstechnischen und logistischen Aufwand vorzugsweise direkt nacheinander im Vakuum, insbesondere innerhalb einer Vakuum-Beschichtungsanlage, durchgeführt werden. Dies ist beispielsweise in einer Anlage, in der sich sowohl eine Glimmelektrode zur Plasmavorbehandlung und Plasmapolymerisation als auch eine Sputterkathode innerhalb einer Vakuumkammer befinden, möglich.

Das bereitgestellte Substrat kann die mindestens erforderliche Oberflächenrauhigkeit der zu beschichtenden Oberfläche schon herstellungs- und/oder materialbedingt aufweisen und/oder zusätzlich mechanisch geglättet worden sein und/oder bereits eine glättende Oberflächen-(schutz)-schicht aufweisen. Dabei kommen als Substrate verschiedenste Gegenstände, beispielsweise Radfelgen, Blenden, Kappen, Rohre, Wasserhähne, Beschläge etc. in Frage. Derartige Substrate bestehen vorzugsweise aus Kunststoff, Metall, Leichtmetall und/oder Metalllegierungen. Die Substrate aus Metall, Leichtmetall oder Metalllegierungen umfassen vorzugsweise bereits eine korrosionshemmende und glättende Oberflächenschutzschicht aus einem Pulver-Einbrennlack, insbesondere auf der Basis von Acrylaten, Polyurethan oder Epoxidharz.

Die Plasmavorbehandlung zur Reinigung und Aktivierung der Oberfläche des Substrates oder der Oberfläche des bereits eine Oberflächenschutzschichtumfassenden Substrates erfolgt vorzugsweise mit Edelgasen wie Argon und/oder mit Sauerstoff umfassenden Gasen, beispielsweise Luft, N₂O, NO, CO, CO₂ oder Gasmischungen, für ca. 3 bis 60 Sekunden bei einem Druck von ca. 1·10^–2 mbar bis 50·10^–2 mbar.

Die Basisschicht wird vorzugsweise durch Polymerisation bzw. Plasma-CVD (Chemical Vapor Deposition) eines leicht verdampfbaren Siloxans, insbesondere HMDSO (Hexamethyldisiloxan), im Vakuum bei einem Druck von 1·10^–2 mbar bis 50·10^–2 mbar erzeugt. Bei Behandlungszeiten von 10 bis 20 Sekunden können polymere Basisschichten von ausreichender Dicke mit ca. 20 bis 30 nm abgeschieden.

Die Eigenschaften der Basisschicht, insbesondere deren Flexibilität, hängt u.a. von deren Kohlenstoffgehalt ab. Durch Einstellen der Prozessparameter, insbesondere durch zusätzliches Zuführen von Sauerstoff und Variation der zugeführten Sauerstoffmenge kann der Kohlenstoffgehalt der Basisschicht auf den erforderlichen Wert zwischen 15% und 30% eingestellt werden. Dabei ist es auch möglich, dass der Kohlenstoffgehalt innerhalb einer Basisschicht variiert wird, beispielsweise um den Schichtverbund zu optimieren.

Für einen optimalen Schichtverbund kann es beispielsweise bei einem Kunststoffsubstrat oder einem metallischen Substrat mit einer Oberflächenschutzschicht aus einem organischem Material von Vorteil sein, wenn bis zur Glanzschicht ein Übergangsbereich ausgebildet wird, in welchem der Kohlenstoffanteil der Basisschicht graduell abnimmt.

Als besonders geeignet erweisen sich Glanzschichten aus Aluminium, Kupferaluminium, Chrom, Nickelchrom, Titan, Kupfer, Silber oder Gold, welche einfach gesputtert werden können und einen hochwertigen metallischen Glanz auf dem Substrat erzeugen sowie Glanzschichten aus Titan und/oder Aluminium und/oder Zirkon, welche unter Hinzugabe von Stickstoff oder auch einem kohlenstoffhaltigen Gas, wie beispielsweise C₂H₄, C₂H₂, reaktiv gesputtert werden können und als Titan-Nitrid-, Zirkon-Nitrid-, Titan-Aluminium-Nitrid-, Zirkon-Aluminium-Nitrid-, Titan-Zirkon-Nitrid-Schichten bzw. auch entsprechende Varianten als Karbid- oder Karbonitrid-Schicht, metallisch glänzende Farbschichten mit verschiedensten Farbvariationen bilden. Die Glanzschichten weisen vorzugsweise eine Schichtdicke von 10 nm bis 100 nm, besonders bevorzugt von 70 nm auf.

Als besonders vorteilhaft bei der Herstellung von Glanzschichten aus mehreren Komponenten erweist sich dabei das Magnetronsputtern oder gepulstes Magnetronsputtern, wobei einfache Targets der benötigten Metalle oder Metalllegierungen eingesetzt werden können. Außerdem ist damit eine einfache, stabile und reproduzierbare Prozessführung möglich, bei der mit einfachen Mitteln die Schichtzusammensetzung und damit die Farbe der Schicht eingestellt werden kann.

Zum Schutz des Substrates und der Glanzschicht vor Korrosion, mechanischer Beschädigung und vor Umwelteinflüssen wird abschließend eine zumindest teilweise transparente Deckschicht, insbesondere eine organische Schicht auf der Basis von Acrylaten, Polyurethan oder Epoxidharz aufgebracht, welche vorzugsweise aus einer oder mehreren Lackschichten besteht, als Pulverlackschicht aufgebracht und eingebrannt wird. Die Deckschicht weist eine Dicke von ca. 0,5 μm bis 100 μm auf. Durch die hohe Temperaturbeständigkeit der zuvor aufgebrachten Beschichtung aus Basis- und Glanzschicht können dabei auch Deckschichten zur Anwendung kommen, die bei hohen Temperaturen bis 220°C eingebrannt werden müssen, wie beispielsweise ein Valophene-Pulver-Lack, welcher einen besonders hohen Korrosionsschutz bildet.

Bei der Beschichtung von Kunststoffteilen sind die Verfahrensparameter auf deren Temperaturbelastbarkeit abzustellen.

Für die Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es nicht zwingend notwendig, dass Substrat vollständig und allseitig zu beschichten, da es für viele Anwendungsfälle ausreichend ist, das Substrat nur teilweise oder einseitig bzw. im Sichtbereich zu beschichten.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht eine effektive, kostengünstige und hochwertige Glanzbeschichtung von verschiedensten Substraten, insbesondere von KFZ-Rädern bzw. Felgen. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und dem erfindungsgemäßen hochglanzbeschichteten Substrat werden insbesondere optisch ansprechende Substrate mit hohen Anforderungen hinsichtlich ihrer mechanischen Stabilität, Korrosionsbeständigkeit und Verschleißfestigkeit zur Verfügung gestellt.

Die Erfindung soll im Weiteren an Hand der Beschichtung einer Radfelge näher erläutert werden.
Eine Leichtmetall-Radfelge aus einer Leichtmetalllegierung aus Aluminium soll mit einer hellen, chromfarbenen Glanzbeschichtung auf der Sichtfläche der Felge versehen werden. Die Felge weist eine allseitige Lackbeschichtung aus einem Valophene-Lack auf und hat damit eine Oberflächenrauhigkeit R_q von höchstens 10 nm.
Die Felge wird in die Vakuumkammer einer 1-Kammer-Beschichtungsanlage, beispielsweise in einer PylonMet 1V Anlage des Anmelders, in welcher sich Glimmelektroden zum Einspeisen elektromagnetischer Energie und Magnetron-Sputterkathoden mit den Targets aus Aluminium (99%) bzw. aus AlMgSi befinden, eingebracht. Die Felge wird gegenüber den Targets angeordnet, wobei die zu beschichtende Oberfläche der Felge den Targets gegenüberliegt. Die Felge rotiert während der Vorbehandlung und der Beschichtung um eine senkrecht zu den Targets verlaufende Achse.
Plasmavorbehandlung
Die Vakuumkammer wird auf einen Druck von 5·10^–2 mbar evakuiert. Das Argongas wird mit ca. 200 sccm in die Vakuumkammer eingeleitet und mittels elektromagnetischer Energie mit einer Leistung von 5 KW und einer Frequenz von 40 kHz für ca. 20 bis 30 Sekunden ein Plasma gezündet. Dabei wird das Substrat durch das Plasma gereinigt und dessen Lack-Oberfläche zur besseren Haftung der nachfolgenden Polymerschicht aktiviert.
Plasmapolymerisation
Die Vakuumkammer wird auf einen Druck von 8·10^–2 mbar evakuiert, wobei der Druck während der Beschichtung aufrechterhalten wird. Ein monomeres Gas aus Hexamethyldisiloxan (HMDSO) wird mit ca. 70 sccm in die Vakuumkammer eingeleitet und ebenfalls mittels elektromagnetischer Energie mit einer Leistung von 5 KW und einer Frequenz von 40 kHz für ca. 30 Sekunden ein Plasma gezündet, wobei eine polymere Schicht auf dem Substrat abgeschieden wird. Bei einer Beschichtungsrate von ca. 0,6 nm/s wird eine ca. 20 nm ausreichend dicke Polymerschicht abgeschieden. Die Polymerschicht setzt sich zusammen aus ca. 26 at% Silizium, 46 at% Sauerstoff, 19 at% Kohlenstoff und einem Restanteil Wasserstoff.
Sputtern
Die Kammer wird auf einen Startdruck von 1·10^–5 mbar evakuiert. Als Inertgas wird Argon mit ca. 200 sccm in die Vakuumkammer eingeleitet und eine Glimmentladung für ca. 30 Sekunden gezündet. Die Targets werden dabei als Kathoden der Glimmentladung betrieben und über Magnetrons bei einer Leistung von 90 KW gesputtert, wobei eine ca. 70 nm dicke, optisch dichte und sehr glatte Glanzschicht aus Aluminium auf dem Substrat mit der Basisschicht abgeschieden wird.
Nach der Belüftung der Kammer kann das Substrat entnommen werden.
Lackieren
In einem abschließendem Verfahrensschritt wird ein Valophene-Lack aus mehreren Lackschichten auf das Substrat aufgebracht, wobei dabei eine transparente und eine teiltransparente und eingefärbte Lackschicht zum Korrosionsschutz und eine Schicht als zusätzlicher Decklack aufgebracht wird. Die Lackschichten werden bei einer Temperatur von 200°C eingebrannt. Die gesamte Deckschicht hat eine Dicke von ca. 50 μm.

Claims

Verfahren zur Hochglanzbeschichtung von Substraten, zumindest umfassend die Schritte – Bereitstellen eines Substrates mit einer glatten Oberfläche, insbesondere mit einer Oberflächenrauhigkeit R_q von höchstens 10 nm, – Plasmavorbehandlung des Substrates im Vakuum, – Aufbringen einer Basisschicht aus einem zumindest Silizium, Sauerstoff und Kohlenstoff umfassenden Polymer mittels Plasmapolymerisation im Vakuum, – Aufbringen einer Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder Metallverbindung mittels Sputtern im Vakuum und – Aufbringen einer zumindest teiltransparenten, verschleißfesten Lackdeckschicht.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmavorbehandlung, das Aufbringen der Basisschicht und das Aufbringen der Glanzschicht direkt nacheinander im Vakuum durchgeführt werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmavorbehandlung in einem Inert- oder Reaktivgasplasma mit vorzugsweise Edelgas und/oder mit Sauerstoff umfassenden Gasen durchgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmavorbehandlung mit Argon und/oder Luft durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmapolymerisation durch Polymerisation eines Siloxans erfolgt.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmapolymerisation durch Polymerisation von HMDSO oder durch Polymerisation von HMDSO unter Zugabe von Sauerstoff erfolgt.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Plasmapolymerisation durch Einstellung der Prozessparameter der Kohlenstoffgehalt der Basisschicht zwischen 10% und 30% eingestellt wird.
Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Kohlenstoffgehalt innerhalb einer Basisschicht variiert wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zum Aufbringen der Glanzschicht Aluminium, Kupferaluminium, Chrom, Nickelchrom, Titan, Kupfer, Silber oder Gold gesputtert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass zum Aufbringen der Glanzschicht Titan und/oder Aluminium und/oder Zirkon unter Hinzugabe von Stickstoff und/oder kohlenstoffhaltiger Gase reaktiv gesputtert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen der Glanzschicht mittels Magnetronsputtern erfolgt.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zum Aufbringen der Deckschicht zumindest eine Pulverlackschicht eingebrannt wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine organische Schicht auf der Basis von Acrylaten, Polyurethan oder Epoxidharz als Deckschicht aufgebracht wird.
Glanzbeschichtetes Substrat, insbesondere hergestellt mit einem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, zumindest umfassend – ein Substrat mit einer Oberflächenrauhigkeit der zu beschichtenden Fläche R_q von höchstens 10 nm, – eine Basisschicht aus einem zumindest aus 20 at% bis 30 at% Silizium, 15 at% bis 30 at% Kohlenstoff und 35 at% bis 55 at% Sauerstoff umfassenden Polymer, – eine Glanzschicht aus einem Metall, einer Metalllegierung oder einer Metallverbindung und – einer zumindest teiltransparenten, verschleißfesten Lackdeckschicht.
Glanzbeschichtetes Substrat nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat einen Kunststoff umfasst.
Glanzbeschichtetes Substrat nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat ein Metall, ein Leichtmetall oder eine Metalllegierung umfasst.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat mechanisch geglättet ist.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine glättende Oberflächenschutzschicht umfasst.
Glanzbeschichtetes Substrat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine glättende Oberflächenschutzschicht aus einem Pulver-Einbrennlack, insbesondere auf der Basis von Acrylaten, Polyurethan oder Epoxidharz, umfasst.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Basisschicht eine Schichtdicke von 10 nm bis 100 nm, vorzugsweise von 20 nm bis 30 nm, aufweist.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Glanzschicht aus Aluminium, Kupferaluminium, Chrom, Nickelchrom, Titan, Kupfer, Silber oder Gold besteht.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Glanzschicht aus Titan-Nitrid, Zirkon-Nitrid, Titan- Aluminium-Nitrid, Zirkon-Aluminium-Nitrid, Titan-Zirkon-Nitrid bzw. auch aus entsprechenden Varianten als Karbid- oder Karbonitrid-Schichten besteht.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Glanzschicht eine Schichtdicke von 10 nm bis 120 nm, vorzugsweise von 50 nm bis 80 nm aufweist.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht zumindest eine Schicht aus einem Einbrenn-Lack umfasst.
Glanzbeschichtetes Substrat nach einem der Ansprüche 14 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht zumindest eine organische Schicht auf der Basis von Acrylaten, Polyurethan oder Epoxidharz umfasst.