DE102004017129A1 - Elektronisches Lasermaskenabbildungssystem - Google Patents

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laser
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David A. Cincinnati Grewell
Donald C. Shelton Lovett
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Branson Ultrasonics Corp
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Abstract

Eine Laserabbildungsvorrichtung (10) mit einer einen Laserstrahl ausgebenden Laserquelle (18) und mit einer elektronischen Anzeigevorrichtung (32). Die elektronische Anzeigevorrichtung (32) ist zur Laserquelle (18) an der Auslaufseite nachgeschaltet positioniert. Die elektronische Anzeigevorrichtung (32) dient dazu, einen einzelnen Abschnitt des Laserstrahls zu polarisieren, um einen modifizierten und einen unmodifizierten Abschnitt (40, 42) zu definieren. Ein Polarisationsfilter (34) ist der Anzeigevorrichtung (32) nachgeschaltet angeordnet, um so durch diesen den Durchlass von entweder des modifizierten Abschnitts (40) oder des unmodifizierten Abschnitts (42) des Laserstrahls zu verhindern, damit ein Abbildungsstrahl mit einem vorbestimmten Profilmuster definiert wird.

Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Laserschweißen, auf eine Laserschweißvorrichtung sowie auf ein Verfahren zur Laserabbildung.
  • Laser(strahl)schweißen wird häufig angewendet, um kunststoff- oder harzhaltige Teile, wie beispielsweise thermoplastische Kunststoffformteile, mit einer Schweißnahtzone zusammenzufügen. Ein Ausführungsbeispiel für eine solche Laseranwendung kann in dem US-Patent No. 4 636 609 festgestellt werden, welches hierin durch Bezugnahme darstellend aufgenommen ist.
  • Wie allgemein bekannt ist, liefern Laser aus einer elektromagnetischen Strahlung bei einer bestimmten Frequenz (d. h. bei einer kohärenten, monochromatischen Strahlung) einen Fokussierstrahl. Es steht eine Vielzahl von Laserarten zur Verfügung, jedoch bieten die Infrarotlaser oder nichtkohärenten Laserquellen eine relativ ökonomische Strahlungsenergiequelle für die Anwendung des Erwärmens in einer Schweißzone. Ein spezielles Beispiel für das Infrarotschweißen ist als Through-Transmission Infrared Welding (auch als TTIR-Schweißen = Durchstrahlinfrarotschweißen) bekannt. Das TTIR-Schweißen setzt einen Infrarotlaser ein, der in der Lage ist, eine Infrarotstrahlung herzustellen, die mittels Glasfaseroptik, Wellenhohlleiter oder Lichtwellenleiter über ein erstes Kunststoffformteil in ein zweites Kunststoffformteil gerichtet wird. Dieses erste Kunststoffformteil wird häufig als transmittierendes Teil oder Durchlichtstück bezeichnet, da es im Allgemeinen zulässt, dass der Laserstrahl aus dem Laser ihn passieren darf. Das zweite Kunststoffformteil wird hingegen oft als Absorptionsstück bezeichnet, da dieses Stück in der Regel die Strahlungsenergie des Laserstrahls absorbiert, um Wärme in der Schweißzone erzeugen zu können. Die Wärme in der Schweißzone bewirkt, dass das Durchlichtstück und das Absorptionsstück aufgeschmolzen und – durch den innigen Kontakt – zusammengeschweißt werden.
  • Es sollen oft Wärmeverteilungsbilder und/oder Schweißnähte mit vielfältigen Formmustern hergestellt werden. Dies kann unter Verwendung von Metallmasken ausgeführt werden. Die Masken bestehen allgemein aus Metalltafeln, die maschinell bearbeitet, geätzt, mit Laser zugeschnitten oder anderweitig modifiziert werden, um nur einer bestimmten Strahlungsenergieform das Passieren zu erlauben, wobei die restliche Strahlungsenergie entweder zurückreflektiert oder absorbiert wird. Die Herstellung dieser Metallmasken ist oftmals arbeitsintensiv, zeitraubend und kostspielig. Hinzu kommt, dass diese Metallmasken auch nicht leicht modifiziert werden können, wodurch deren Nützlichkeit eingeschränkt ist.
  • Die Metallmasken schränken ferner die Bandbreite der Wärmeverteilungsbilder und/oder der Schweißnahtformen ein, die hergestellt werden könnten. Das heißt, in einigen Fällen von physikalischen Einschränkungen bei den Metallmasken ist es erforderlich, dass jeder Maskenabschnitt, der nicht zu dem ursprünglichen Metalltafelmaterial hinzugefügt werden soll, unter Zuhilfenahme von externen Unterstützungen zurückgehalten wird. Ähnlich wie bei den Schablonen würde es der Buchstabe O erfordern, dass der mittlere Abschnitt an den äußeren Abschnitt über ein Brückenglied gekoppelt wird, oder dass eine separate Glasscheibe verwendet wird, um dessen korrekte Ausrichtung aufrechtzuerhalten. Wie ganz offensichtlich ist, verhindern diese physikalischen Einschränkungen, dass für das Laserschweißen vielfältige Formgebungen zur Anwendung kommen können.
    •
  • Demzufolge besteht in der einschlägigen Technik eine Notwendigkeit, eine Vorrichtung zur Verfügung zu stellen, die in der Lage ist, schnell und praktisch eine während des Laserschweißen verwendete Maske zu definieren. Außerdem besteht in der einschlägigen Technik ein Bedarf, eine Maskenvorrichtung bereitzustellen, die leicht zu modifizieren ist. Des Weiteren besteht in der einschlägigen Technik ein Bedarf, eine Maskenvorrichtung vorzusehen, die in der Lage ist, komplexe Formen herzustellen, ohne dass dabei externe Unterstützungen notwendig sind, die in das herzustellende Schweißmuster störend eingreifen können. Schließlich besteht in der einschlägigen Technik ein Bedarf, eine Maskenvorrichtung zur Verfügung zu stellen, die in der Lage ist, die Nachteile des bisherigen Stands der Technik zu bewältigen.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Gemäß den Grundsätzen der vorliegenden Erfindung wird eine Laserabbildungsvorrichtung mit einem vorteilhaften Aufbau und Verfahren für deren Einsatz bereitgestellt. Die Laserabbildungsvorrichtung besitzt eine Laserquelle, die einen Laserstrahl abgibt, sowie eine elektronische Anzeigevorrichtung. Die elektronische Anzeigevorrichtung ist an der Auslaufseite der Laserquelle nachgeschaltet positioniert und dient dazu, einen einzelnen Abschnitt des Laserstrahls zum Definieren eines modifizierten Abschnitts und eines unmodifizierten Abschnitts selektiv zu polarisieren. Danach ist ein Polarisationsfilter zur Anzeigevorrichtung an der Auslaufseite nachgeschaltet positioniert, um durch diesen den Durchlass von entweder des modifizierten Abschnitts oder des unmodifizierten Abschnitts des Laserstrahls zu verhindern, um so einen Abbildungsstrahl mit einem bestimmten Profilmuster zu definieren.
  • Weitere Anwendungsgebiete für die vorliegende Erfindung gehen aus der Beschreibung in den Einzelheiten hervor, die nachfolgend bereitgestellt wird. Es ist davon auszugehen, dass die detaillierte Beschreibung und die speziellen Ausführungsbeispiele, die während der Darstellung der bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung erfolgen, lediglich zum Zwecke der Veranschaulichung dienen sollen, wobei nicht beabsichtigt ist, den Schutzumfang der Erfindung einzuschränken.
    •
  • Die vorliegende Erfindung wird aus der Beschreibung in den Einzelheiten und der zugehörigen Zeichnungen insgesamt besser verstanden, welche zeigen:
  • 1 eine schematische Ansicht, die ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem gemäß den Grundsätzen der vorliegenden Erfindung veranschaulicht, welches ein optionales Sonderzubehör umfasst,
  • 2 eine schematische Perspektivenansicht eines elektronischen Lasermaskenabbildungssystems für die Anwendung mit einem polarisierten Laserstrahl – wobei des einfacheren Verständnisses wegen Teile weggelassen sind – gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und
  • 3 eine schematische Perspektivenansicht eines elektronischen Lasermaskenabbildungssystems für die Anwendung mit einem unpolarisierten Laserstrahl – wobei des einfacheren Verständnisses wegen Teile weggelassen sind – gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
  • Die folgende Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen ist rein exemplarischer Natur, und es ist in keinster Weise beabsichtigt, die Erfindung, deren Anwendung oder Verwertung einzuschränken. Des Weiteren darf davon ausgegangen werden, dass, wenngleich die vorliegende Erfindung in Zusammenhang mit dem TTIR-Schweißen beschrieben ist, diese Erfindung auch für andere Formen des Schweißens und/oder der Randschichterwärmung unter Einsatz von Lichtenenergie gleichermaßen anwendbar ist. Außerdem kann die vorliegende Erfindung auf einem weiten Gebiet der unterschiedlichsten Abbildungsanwendungen von Nutzen sein, die nicht mit dem Schweißen in Verbindung stehen, wie zum Beispiel in der Lithographie, die häufig zum Formen der IC- Chips angewendet wird, in mikro-elektro-mechanischen Systemen (MEMS), meistens in Mikroapparaten, und dergleichen mehr. Daher ist die vorliegende Erfindung nicht auf die spezielle Schweißanwendung, die nachstehend beschrieben wird, einschränkend anzusehen.
  • Mit Bezug zu den Zeichnungen wird ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10 in Übereinstimmung mit den Grundsätzen der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. Gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10 für die Anwendung in einem TTIR-Schweißsystem [Durchstrahlinfrarotschweißsystem] 12 ausgelegt. Wie in 1 zu ersehen ist, kann das TTIR-Schweißsystem 12 ein optionales Lichtwellenleiterbündel 14 aufweisen, das aus einer Mehrzahl von Lichtwellenleitern besteht, die allgemein in einem ringförmigen Profil ausgerichtet und in der Lage sind, Strahlungsenergie in Form eines Laserstrahles durchgehend zu befördern oder zu transmittieren. Das Lichtwellenleiterbündel 14 ist mit einer Laserquelle 18 funktional gekoppelt, wie zum Beispiel mit einem Infrarotlaser, gemäß den allgemein bekannten Grundsätzen. Alternativ dazu kann das TTIR-Schweißsystem 12 ein Lichtwellenleiterelement aufweisen, das aus Silikon-, Polycarbonat- oder Glasplatten gebildet ist. Außerdem kann eine optionale Linsenanordnung 20 eingesetzt werden, um die Strahlungsenergie in ein vorher festgelegtes Profil abzustimmen. Das heißt, die Linsenanordnung 20 kann angewendet werden, um entweder Laserenergie zu fokussieren oder zu streuen, und zwar durch den Einsatz von optischen Prinzipien an der zum elektronischen Lasermaskenabbildungssystem 10 vorgeordneten Einlaufseite oder an der nachgeordneten Auslaufseite.
  • Während des Betriebes gibt die Laserquelle 18 einen Laserstrahl aus, der von dem Lichtwellenleiterbündel 14 befördert wird. Dieser Laserstrahl passiert die Linsenanordnung 20 und tritt von dort bei Bezugszeichen 22 aus. Der Laserstrahl tritt dann in das elektronische Lasermaskenabbildungssystem 10 ein und wird dabei zur Herstellung eines vorbestimmten Maskenprofilmusters 24 gesteuert, welches nachstehend in den Einzelheiten erläutert wird. Der Laserstrahl, der von dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem 10 bearbeitet worden ist, tritt dann aus dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem 10 als vorbestimmtes Maskenprofil 24 aus und führt durch ein erstes Kunststoffformteil 26 hindurch, das auch als transmittierendes Teil oder Durchlichtstück bekannt ist. Das Durchlichtstück 26 erlaubt im Wesentlichen, dass der Laserstrahl ohne nennenswerte Absorption oder Reflexion durchtreten bzw. passieren kann. Der Laserstrahl wird dann von einem zweiten Kunststoffformteil 28 absorbiert, das auch als Absorptionsstück bekannt ist. Das Absorptionsstück 28 absorbiert im Wesentlichen die Strahlungsenergie des Laserstrahls zur Erzeugung von Wärme in der Schweißnahtzone 30. Diese Wärme verursacht, dass das Durchlichtstück 26 und das Absorptionsstück 28 an der Schweißnahtzone 30 verschmolzen werden, und somit nach dem Abkühlen zusammengeschweißt sind. Es darf davon ausgegangen werden, dass das elektronische Lasermaskenabbildungssystem 10 auch zwischen der Laserquelle 18 und der optionalen Linsenanordnung 20 positioniert werden kann, oder alternativ dazu können verschiedene Elemente des elektronischen Lasermaskenabbildungssystems 10 auf den sich gegenüberliegenden Seiten der optionalen Linsenanordnung 20 angeordnet werden.
  • Mit speziellem Bezug zu den 2 und 3 wird ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10 in Relation zu alternativen Laserquellen beschrieben. Das heißt, 2 veranschaulicht ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10' für die Anwendung in Verbindung mit einer polarisierten Laserquelle 18'. Definitionsgemäß gibt die polarisierte Laserquelle 18' einen polarisierten Laserstrahl aus, worin die Schwingung der Lichtenergie im Wesentlichen in einer einzigen Ebene vorhanden ist. In dieser Hinsicht passiert der polarisierte Laserstrahl die optionale Linsenanordnung 20 (ist in dieser Figur nicht dargestellt) und tritt auch als polarisierter Laserstrahl 22' aus. Es sei darauf hingewiesen, dass bei dieser Ausführungsform das optionale Lichtwellenleiterbündel 14 nicht zugelassen werden darf, um zu gewährleisten, dass der polarisierte Laserstrahl polarisiert bleibt, ohne dass ein weiterer Bearbeitungsprozess erforderlich wird, denn es ist allgemein bekannt, dass, falls ein polarisierter Laserstrahl über ein Lichtwellenleiterbündel übertragen wird, der polarisierte Laserstrahl als ein "unpolarisierter" Laserstrahl aus dem Lichtwellenleiterbündel auf Grund der physikalischen Eigenschaften des Lichtwellenleiterbündels austritt.
  • Weiter mit Bezug zu 2 besitzt das elektronische Lasermaskenabbildungssystem 10' ein LCD-Anzeigefeld 32 Liquid Crystal Display] und einen Polarisationsfilter 34, der zum LCD-Anzeigefeld 32 nachgeschaltet an der Auslaufstrecke in Bezug auf die Laufrichtung des polarisierten Laserstrahls 22' angeordnet ist. Das LCD-Anzeigefeld 32 kann aus einer beliebigen, herkömmlichen Designausführung hergestellt sein, welche jedoch in der Lage sein sollte, die Polarisation des polarisierten Laserstrahls 22' abzuändern. Das heißt, das LCD-Anzeigefeld 32 kann aus jeder herkömmlichen Konstruktion bestehen, welche in der Lage ist, ausgewählte Abschnitte des polarisierten Laserstrahls 22' um 90° (oder einen anderweitigen, gewünschten Winkel) in Bezug auf dessen ursprüngliche Ausrichtung zu polarisieren. Der Polarisationsfilter 34 ist bevorzugt ein MICORWIRESTM – Polarisator, der von der Firma PROFLUX erhältlich ist. Während des Betriebs werden die Selektionsabschnitte 38 des LCD-Anzeigefeldes 32 über eine Steuervorrichtung 36 mit Energie versorgt oder anderweitig aktiviert, so dass die Selektionsabschnitte 38 den Laserstrahl 22' polarisieren. In dieser Hinsicht wird die Schwingungsebene des Laserstrahls 22', der die Selektionsabschnitte 38 des LCD-Anzeigefeldes 32 passiert, um 90° in Bezug auf die ursprüngliche Schwingungsebene gedreht (die generell mit Bezugszeichen 40 dargestellt ist). Des Weiteren mit Bezug zu 2 passieren unmodifizierte Abschnitte des Laserstrahls 22' in einfacher Weise das LCD-Anzeigefeld 32 und behalten deren ursprüngliche Schwingungsebene bei (die generell mit Bezugszeichen 42 dargestellt ist).
  • Der modifizierte Abschnitt 40 und der unmodifizierte Abschnitt 42 des Laserstrahls 22' stoßen dann auf den Polarisationsfilter 34. Daraufhin absorbiert, reflektiert oder verhindert der Polarisationsfilter 34 anderweitig den Durchlass eines jeden Abschnitts des Laserstrahls 22', dessen Schwingungsebene anders als die von dem Polarisationsfilter 34 zugelassene ist. Mit anderen Worten, der Polarisationsfilter 34 ist so ausgerichtet, dass nur einem selektierten Abschnitt des Laserstrahls 22' zu erlaubt ist, durch ihn hindurchzutreten. Demzufolge kann in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel dem modifizierten Abschnitt 40 des Laserstrahls 20 erlaubt werden, den Polarisationsfilter 34 zu passieren, wogegen der unmodifizierte Abschnitt 42 absorbiert, reflektiert oder anderweitig am Durchlass gehindert wird. Es ist davon auszugehen, dass die Ausrichtung des Polarisationsfilters 34 so geändert werden kann, dass eine „negative" Abbildung erzeugt wird, worin dem unmodifizierten Abschnitt 42 des Laserstrahls 22' erlaubt wird, den Polarisationsfilter 34 zu passieren, wogegen der modifizierte Abschnitt 42 absorbiert, reflektiert oder anderweitig am Durchlass gehindert wird. In der Tat erlaubt der Arbeitsprozess des Modifizierens der Schwingungsebene von selektierten Abschnitten des Laserstrahls 22' nur einzelnen Bereichen des Laserstrahls 22' das Passieren des Polarisationsfilters 34 und dann auf die Schweißzone 30 einzuwirken. Durch die Handhabungsmöglichkeit des LCD-Anzeigefeldes 32 können diese einzelnen Bereiche in der Tat so konfiguriert werden, dass sie jede beliebige Zweidimensionalform repräsentieren.
  • Mit Bezug nun zu 3 wird ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10 für die Anwendung in Verbindung mit einer unpolarisierten Laserquelle 18'' bereitgestellt. Definitionsgemäß gibt die unpolarisierte Laserquelle 18'' einen unpolarisierten Laserstrahl aus, worin die Schwingung der Lichtenergie generell in vielfachen Ebenen vorhanden ist. In dieser Hinsicht passiert der polarisierte Laserstrahl die optionale Linsenanordnung 20 (die in dieser Figur nicht dargestellt ist) und tritt als unpolarisierter Laserstrahl 50 aus.
  • Des Weiteren mit Bezug zu 3 besitzt ein elektronisches Lasermaskenabbildungssystem 10' ein LCD-Anzeigefeld 32 [Liquid Crystal Display], einen Polarisationsfilter 34, der zum LCD-Anzeigefeld 32 "nachgeschaltet" an der Auslaufstrecke in Bezug auf die Laufrichtung des unpolarisierten Laserstrahls 50' angeordnet ist, sowie einen Polarisationsfilter 42, der zum LCD-Anzeigefeld 32 „vorgeschaltet" an der Einlaufstrecke positioniert ist. Bei dieser Anordnung stößt der unpolarisierte Laserstrahl 50 auf den vorgeschalteten Polarisationsfilter 52 an der Einlaufstrecke. Der vorgeschaltete Polarisationsfilter 50 polarisiert den unpolarisierten Laserstrahl 40, so dass der unpolarisierte Laserstrahl 50 aus dem vorgeschalteten Polarisationsfilter 52 als polarisierter Laserstrahl 22' austritt (und weist eine einzige Schwingungsebene auf). Sobald der unpolarisierte Laserstrahl 50 in einen polarisierten Laserstrahl 22' umgewandelt ist, funktionieren das LCD-Anzeigefeld 32 und der nachgeschaltete Polarisationsfilter 34 wie vorstehend beschrieben ist, um ein Maskenprofil 24 herzustellen. Im Interesse einer Kurzfassung wird der Betriebsvorgang des LCD-Anzeigefeldes 32 mit dem nachgeschalteten Polarisationsfilter 34 nicht näher erläutert.
  • Mit Bezug nun zu dem Betriebsvorgang der Steuervorrichtung 36 mit dem LCD-Anzeigefeld 32 wird davon ausgegangen, dass die Steuervorrichtung 36 ein Computer ist, wie zum Beispiel ein Desktop-Rechner, der eine Bildbearbeitungssoftware [Grafikprogramm], wie zum Beispiel POWERPOINT®, PHOTOSHOP®, PAINTSHOP®, PRO®, VISIO®, AUTOCAD® und dergleichen aufweist. Aber die Steuervorrichtung 36 kann auch nur ein ganz einfacher Computer sein, der in der Lage ist, auf ein gespeichertes Bild zuzugreifen und das gespeicherte Bild auf dem LCD-Anzeigefeld 32 anzuzeigen. Zu diesem Zweck kann irgendeines aus einer Vielzahl von Schweißnahtdesigns schnell und praktisch erzeugt, modifiziert, abgespeichert, geöffnet usw. werden, um so zu erlauben, dass das Maskenprofil 24 abgeändert wird. Diese Designs werden dann aus der Steuervorrichtung 36 über eine Leitung 54 an das LCD-Anzeigefeld 32 ausgegeben und auf dem LCD 32 „angezeigt". Die „Anzeige" der ausgewählten Abbildung verursacht, dass die korrespondierenden Selektionsabschnitte des polarisierten Laserstrahls 22' um 90° zu dessen ursprünglicher Ausrichtung polarisiert werden, und dass somit das Maskenprofil 24 gebildet wird, nachdem es den Polarisationsfilter 34 passiert hat. Gemäß den Grundsätzen der vorliegenden Erfindung können die Steuervorrichtung 36 und das LCD-Anzeigefeld 32 das Maskenprofil 24 konfigurieren, um so irgendeine aus einer Vielzahl von zweidimensionalen oder dreidimensionalen Abbildungen zu definieren. Im Gegensatz zu den herkömmlichen Metallmaskentechniken erlaubt die vorliegende Erfindung, dass das Maskenprofil 24 „keine unterstützende" Besonderheiten aufweist, wie sie zum Beispiel für den mittleren Abschnitt der Buchstaben a, b, d, g, o, p und q erforderlich wären. Diese mittleren Abschnitte benötigten herkömmlich kleine Unterstützungsträger, um sie mit dem Hauptabschnitt der Metallmaske zu verbinden, wie dies bei Schablonen üblich ist. Die vorliegende Erfindung erlaubt jedoch, dass solche mittleren Abschnitte geformt werden können, ohne dass eine Notwendigkeit für unterstützende Träger besteht.
  • Die Beschreibung der Erfindung ist rein exemplarischer Natur, und infolgedessen weichen Varianten nicht vom Kern der Erfindung ab, sondern fallen unter den Schutzumfang der Erfindung. Solche Varianten sind daher nicht als eine Abweichung vom Gedankeninhalt und Schutzumfang der Erfindung anzusehen.

Claims (18)

  1. Verfahren zum Laserschweißen eines ersten Teils an einem zweiten Teil, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Abgeben eines Laserstrahls; Führen des Laserstrahls durch eine Flüssigkristallanzeige, wobei die Flüssigkristallanzeige ein vorbestimmtes Profilmuster definiert und das vorbestimmte Profilmuster bewirkt, dass ein einzelner Abschnitt des Laserstrahls polarisiert wird, um einen modifizierten Abschnitt des Laserstrahls sowie einen unmodifizierten Abschnitt des Laserstrahls zu definieren; Aussetzen des modifizierten Abschnitts und des unmodifizierten Abschnitts des Laserstrahls einem nachgeschalteten Polarisationsfilter an der Auslaufseite dergestalt, dass nur ein Abschnitt des modifizierten oder des unmodifizierten Abschnitts des Laserstrahls das Polarisationsfilter passieren darf, um einen Schweißstrahl zu definieren, der im Wesentlichen der Form des vorbestimmten Profilmusters ähnelt; und Erwärmen von mindestens einem Teil des ersten oder/und zweiten Teils mit dem Schweißstrahl, um zwischen diesen Teilen eine Schweißverbindung herzustellen.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl ein polarisierter Laserstrahl ist.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl ein unpolarisierter Laserstrahl ist, und das Verfahren ferner den folgenden Schritt aufweist: Aussetzen des unpolarisierten Laserstrahls einem vorgeschalteten Polarisationsfilter an der Einlaufseite zur Flüssigkristallanzeige, wobei der vorgeschaltete Polarisationsfilter den unpolarisierten Laserstrahl polarisiert.
  4. Verfahren nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, welches ferner den folgenden Schritt aufweist: Koppeln einer Steuervorrichtung mit der Flüssigkristallanzeige, wobei die Steuervorrichtung ein Signal an die Flüssigkristallanzeige abgibt, um ein vorbestimmtes Profilmuster zu definieren.
  5. Laserschweißvorrichtung mit: einer Laserquelle (18), die einen Laserstrahl abgibt und einem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem (10), das zur Laserquelle (18) nachgeschaltet positioniert ist, wobei das elektronische Lasermaskenabbildungssystem (10) dazu dient, einen einzelnen Abschnitt des Laserstrahls selektiv zu polarisieren, um einen Schweißstrahl mit einem vorbestimmten Profilmuster zu definieren.
  6. Laserschweißvorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das elektronische Lasermaskenabbildungssystem (10) folgendes aufweist: eine Steuervorrichtung (36), die ein Signal ausgibt; eine Flüssigkristallanzeige (32), die mit der Steuervorrichtung (36) gekoppelt ist, wobei die Flüssigkristallanzeige (32) dazu dient, darin ein vorbestimmtes Profilmuster in Reaktion auf das Signal zu definieren, und einen Abschnitt des Laserstrahls polarisiert, um einen modifizierten Abschnitt (40) und einen unmodifizierten Abschnitt (42) zu definieren; und einen ersten Polarisationsfilter (36), der zur Flüssigkristallanzeige (32) an der Auslaufseite nachgeschaltet positioniert ist, wobei der erste Polarisationsfilter (34) dazu dient, durch diesen den Durchlass entweder des modifizierten Abschnitts (40) oder des unmodifizierten Abschnitts (42) des Laserstrahls zu verhindern.
  7. Laserschweißvorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, gekennzeichnet ferner durch einen zweiten Polarisationsfilter (52), der zur Flüssigkristallanzeige (32) an der Einlaufseite vorgeschaltet positioniert ist, wobei der zweite Polarisationsfilter (52) dazu dient, den Laserstrahl zu polarisieren.
  8. Laserschweißvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 7, gekennzeichnet ferner durch: einen Lichtwellenleiter (14), der zwischen der Laserquelle (18) und dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem (10) gekoppelt ist, wobei der Lichtwellenleiter (14) den Laserstrahl an das elektronische Lasermaskenabbildungssystem (10) transmittiert.
  9. Laserschweißvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 8, gekennzeichnet ferner durch eine Linsenanordnung (20), die mit dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem (10) angrenzend verbunden ist.
  10. Laserschweißvorrichtung, mit: einer Laserquelle, die einen Laserstrahl abgibt; einer Anzeigevorrichtung (32), die zu der Laserquelle nachgeschaltet positioniert ist, wobei die Anzeigevorrichtung (32) dazu dient, einen einzelnen Abschnitt des Laserstrahls in einen modifizierten und einen unmodifizierten Abschnitt (40, 42) zu definieren; und einen ersten Polarisationsfilter (34), der zur Anzeigevorrichtung (32) an der Auslaufseite nachgeschaltet positioniert ist, wobei der erste Polarisationsfilter (34) dazu dient, durch diesen den Durchlass entweder des modifizierten Abschnitts (40) oder des unmodifizierten Abschnitts (42) des Laserstrahls zu verhindern, um einen Schweißstrahl zu definieren.
  11. Laserschweißvorrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet ferner durch: einen zweiten Polarisationsfilter (52), der an der Einlaufseite zur Anzeigevorrichtung (32) vorgeschaltet positioniert ist, wobei der zweite Polarisationsfilter (52) dazu dient, den Laserstrahl zu polarisieren.
  12. Laserschweißvorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzeigevorrichtung eine Flüssigkristallanzeige (32) ist.
  13. Laserschweißvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 12, gekennzeichnet ferner durch: einen Lichtwellenleiter (14), der zwischen der Laserquelle (18) und dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem (10) gekoppelt ist, wobei der Lichtwellenleiter (14) den Laserstrahl an das elektronische Lasermaskenabbildungssystem (10) transmittiert.
  14. Laserschweißvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 13, gekennzeichnet ferner durch: eine Linsenanordnung (20), die mit dem elektronischen Lasermaskenabbildungssystem (10) angrenzend verbunden ist.
  15. Verfahren zur Laserabbildung, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Abgeben eines Laserstrahls; Führen des Laserstrahls durch eine Flüssigkristallanzeige, wobei die Flüssigkristallanzeige ein vorbestimmtes Profilmuster definiert, wobei das vorbestimmte Profilmuster bewirkt, dass ein einzelner Abschnitt des Laserstrahls polarisiert wird, um einen modifizierten Abschnitt des Laserstrahls und einen unmodifizierten Abschnitt des Laserstrahls zu definieren; und Aussetzen des modifizierten Abschnitts und des unmodifizierten Abschnitts des Laserstrahls einem nachgeschalteten Polarisationsfilter an der Auslaufseite dergestalt, dass nur ein Abschnitt des modifizierten oder des unmodifizierten Abschnitts des Laserstrahls durch den Polarisationsfilter passieren darf, um einen Abbildungsstrahl zu definieren, der im Wesentlichen der Form des vorbestimmten Profilmusters ähnelt.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl ein polarisierter Laserstrahl ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl ein unpolarisierter Laserstrahl ist und das Verfahren ferner den folgenden Schritt aufweist: Aussetzen des unpolarisierten Laserstrahls einem vorgeschalteten Polarisationsfilter an der Einlaufseite zur Flüssigkristallanzeige, wobei der vorgeschaltete Polarisationsfilter den unpolarisierten Laserstrahl polarisiert.
  18. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 15 bis 17 gekennzeichnet ferner durch den folgenden Schritt: Koppeln einer Steuervorrichtung mit der Flüssigkristallanzeige, wobei die Steuervorrichtung ein Signal an die Flüssigkristallanzeige ausgibt, um ein vorbestimmtes Profilmuster zu definieren.
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