DE10114115A1 - Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum - Google Patents
Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem BehandlungsraumInfo
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Abstract
Bei einer Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum, dem von außen Mikrowellen zugeführt werden, sind die Mikrowellen durch mindestens eine Öffnung in einer den Behandlungsraum mindestens teilweise umgebenden für Mikrowellen wirksamen Abschirmung zuführbar.
Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Erzeugung von
Plasma in einem Behandlungsraum, dem von außen Mikrowellen
zugeführt werden.
Plasma wird unter anderem zur Aktivierung, Reinigung und
Beschichtung von Oberflächen verschiedener Werkstücke und
Materialien benötigt. Dazu wird meist ein mit geeignetem Gas
gefüllter Behandlungsraum, in welchem Unterdruck herrscht,
mit Mikrowellen beaufschlagt. Von manchen Werkstücken oder
Werkstückhalterungen wird jedoch Mikrowellenenergie
absorbiert, die zur Plasmabildung dann nicht mehr zur
Verfügung steht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Anordnung
zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum anzugeben,
bei welcher auch unter den genannten ungünstigen Bedingungen
die zugeführte Mikrowellenenergie weitgehend vollständig zur
Plasmabildung genutzt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Mikrowellen durch mindestens eine Öffnung in einer den
Behandlungsraum mindestens teilweise umgebenden für
Mikrowellen wirksamen Abschirmung zuführbar sind.
Vorzugsweise haben die Öffnungen eine langgestreckte Form.
Die erfindungsgemäße Anordnung hat weiterhin den Vorteil,
daß Plasma dort erzeugt wird, wo es für die Behandlung
jeweils benötigt wird.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Anordnung besteht darin, daß der Behandlungsraum zylindrisch
ist und daß die Abschirmung die Form eines Zylindermantels
aufweist, wobei vorzugsweise die mindestens eine Öffnung in
Umfangsrichtung verläuft. Diese Form der Abschirmung
ermöglicht zylinderförmige Wände des Behandlungsraumes, die
gegen den von außen wirkenden Druck widerstandsfähig sind.
Außerdem verteilt sich innerhalb der runden Abschirmung in
der Ebene, die durch eine Öffnung gebildet wird, das Plasma
relativ gleichmäßig.
Eine Weiterbildung dieser vorteilhaften Ausgestaltung
besteht darin, daß mehrere über die Höhe verteilte Öffnungen
vorgesehen sind. Dadurch ist eine weitgehend unabhängige
Bildung von Plasma in mehreren Ebenen möglich. Dabei können
die Abstände zwischen den Öffnungen gleich sein oder sich
von Ebene zu Ebene ändern.
Aus konstruktiven Gründen ist es vorteilhaft, wenn die
mindestens eine Öffnung von Stegen unterbrochen ist. Es sind
jedoch auch umlaufende Öffnungen denkbar, wobei die
einzelnen Teile der Abschirmung dann über die Wand des
Behandlungsraumes verbunden sein können.
Im Falle von Stegen ist es gemäß einer anderen Weiterbildung
der Erfindung günstig, wenn auf den Stegen Gasleitungen
verlaufen. Damit können sowohl Leitungen für die Zuleitung
als auch für die Ableitung von Gasen in die oder von den
einzelnen Ebenen der Plasmabildungen vorgesehen sein. Diese
Leitungen können ebenso wie die Abschirmung aus Aluminium
bestehen, wobei übliche runde Rohre in Frage kommen oder in
die Abschirmung eingearbeitete und abgedeckte Kanäle.
Eine andere vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Anordnung besteht darin, daß der Behandlungsraum von einem
mikrowellen-transparenten Gefäß gebildet ist und daß die
Abschirmung innen an der Gefäßwand anliegt. Dies hat den
Vorteil, daß die relativ dünnwandige Abschirmung an der
ohnehin wegen der Druckverhältnisse stabilen Gefäßwand
gehalten wird. Dies ist in besonders einfacher Weise
möglich, wenn gemäß einer Weiterbildung dieser Ausgestaltung
die zylinderförmige Abschirmung durch eine achsparallele
Fuge geteilt und derart ausgebildet ist, daß sie federnd an
der Wand des Behandlungsraumes anliegt. Dabei ist
vorzugsweise an der Fuge eine Verzahnung vorgesehen.
Eine andere vorteilhafte Ausgestaltung besteht darin, daß
der Behandlungsraum von einem mikrowellen-transparenten
Gefäß gebildet ist und daß die Abschirmung außen an der
Gefäßwand anliegt.
Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung sieht vor, daß der
Behandlungsraum von einem mikrowellen-transparenten Gefäß
gebildet ist und daß die Abschirmung aus einer auf die
Gefäßwand aufgebrachten metallischen Schicht besteht. Das
Aufbringen der metallischen Schicht kann beispielsweise
durch Galvanisieren oder Aufdampfen erfolgen. Die Schicht
kann außen oder innen aufgebracht sein.
Eine günstige Einleitung von Mikrowellen ist dadurch
möglich, daß die Breite der mindestens einen Öffnung
wesentlich kleiner als die Wellenlänge der Mikrowellen ist
und/oder daß die Abstände von mehreren Öffnungen größer oder
gleich einer halben Wellenlänge der Mikrowellen sind.
Diejenige Weiterbildung, bei welcher Öffnungen in mehreren
Ebenen vorgesehen sind, kann durch eine bewegliche
Werkstückhalterung ergänzt werden, welche mindestens ein zu
behandelndes Werkstück nacheinander in Bereiche mehrerer
Öffnungen transportiert.
Bei dieser Ausführungsform können in vorteilhafter Weise
Mittel zur Erzeugung einer Gasströmung entgegen der
Transportrichtung des mindestens einen Werkstückes
vorgesehen sein.
Dabei ist es vorteilhaft, wenn Mittel zur Steuerung der
Zufuhr und/oder Abfuhr von Gasen in Abhängigkeit von der
Stellung des Werkstückes vorgesehen sind.
Eine möglichst gleichmäßige Verteilung der Plasmabildung in
Umfangsrichtung ergibt sich gemäß einer anderen
vorteilhaften Ausgestaltung dadurch, daß die Abschirmung von
einer Kammer mit mindestens einer Mikrowellen-Zuführung
umgeben ist.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung
anhand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden
Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 einen Längsschnitt eines ersten
Ausführungsbeispiels,
Fig. 2 einen Querschnitt des ersten Ausführungsbeispiels,
Fig. 3 die Abschirmung bei dem ersten Ausführungsbeispiel
in perspektivischer Darstellung und
Fig. 4 einen Längsschnitt durch ein zweites
Ausführungsbeispiel.
Die Ausführungsbeispiele sind schematisch dargestellt, wobei
nicht zum Verständnis der Erfindung erforderliche Teile,
insbesondere Zu- und Ableitungen, Evakuierungseinrichtungen
und Dichtungen, nicht im einzelnen gezeigt werden.
Das Ausführungsbeispiel nach den Fig. 1 und 2 besteht aus
einem mikrowellen-dichten Gehäuse 1, in welchem der
Behandlungsraum aus mikrowellen-durchlässigem Material,
beispielsweise Quarzglas, angeordnet ist. Der
Behandlungsraum wird von einem Zylindermantel 2 und jeweils
oben und unten von einer Scheibe 3 und 4 gebildet. An der
Innenseite der zylindermantelförmigen Wand 2 liegt eine
Abschirmung 5 an. Diese besteht aus Aluminiumblech, wobei
die Blechstärke zum Verständnis der Zeichnung übertrieben
dargestellt ist. In mehreren Ebenen weist die Abschirmung 5
Öffnungen 6, 7, 8, 9 auf, die jeweils von Stegen 10
unterbrochen sind.
Innerhalb des Behandlungsraumes steht die Abschirmung 5 auf
"Füßen" 11, die unterhalb der Abschirmung eine weitere
Öffnung 12 bilden. Ferner ist in dem Ausführungsbeispiel
oberhalb der Abschirmung 5 eine weitere Öffnung 13
vorgesehen.
Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel sind vier Antennen
14, 15, 16, 17 vorgesehen, die jeweils achsparallel
verlaufen und von denen in Fig. 1 nur zwei Anschlüsse 16'
und 17' sichtbar sind.
Damit sich die Abschirmung 5 ohne weitere Maßnahmen an die
Innenseite der Wand 2 fest anlegt und somit von der Wand
gestützt wird, ist die Abschirmung in Längsrichtung bei 18
(Fig. 3) geschlitzt, so daß sie zur Einführung in den
Behandlungsraum zusammengedrückt werden kann und sich dann
aufgrund der Federkraft an die Wand 2 anlegt. Um eine
Verschiebung der beiden Ränder des Schlitzes 18 zu
vermeiden, sind die Ränder mit einer Verzahnung 19, 20
versehen.
Fig. 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem Werkstücke 25
durch mehrere Ebenen der erfindungsgemäßen Anordnung
transportiert werden und dabei verschiedenen Prozessen
unterworfen sind. Dazu ist gegenüber dem ersten
Ausführungsbeispiel der Behandlungsraum 21 jeweils um einen
Bereich 22, 23 zum Be- und Entladen einer Werkstückhalterung
24 erweitert. Die Werkstückhalterung 24 wird mit einer nicht
dargestellten Antriebsvorrichtung in Pfeilrichtung durch den
Behandlungsraum transportiert, so daß die Werkstücke 25 nach
und nach einzelne Ebenen - im folgenden auch
Behandlungszonen 26 bis 29 genannt - durchlaufen. An der
Innenwand der Abschirmung 5 führen Gaszu- und
-ableitungsrohre 30 in die einzelnen Behandlungszonen, wobei
jeweils Gasaustrittsöffnungen oberhalb der Öffnungen 6 bis 9
und Absaugöffnungen unterhalb der Öffnungen 6 bis 9
vorgesehen sind. Die Gasaustrittsöffnungen und die
Absaugöffnungen sind durch Pfeilspitzen gekennzeichnet. Im
Bedarfsfall kann oben an der durch die Pfeilspitze 31
angegebenen Stelle ein Hintergrundgas zugeführt werden, das
von oben nach unten strömt und unten abgesaugt wird. In den
einzelnen Behandlungszonen 26 bis 29 können Prozesse, wie
beispielsweise Reinigung, Aktivierung der Oberflächen und
Beschichtung stattfinden.
Claims (18)
1. Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem
Behandlungsraum, dem von außen Mikrowellen zugeführt werden,
dadurch gekennzeichnet, daß die Mikrowellen durch mindestens
eine Öffnung (6, 7, 8, 9) in einer den Behandlungsraum (2,
3, 4) mindestens teilweise umgebenden für Mikrowellen
wirksamen Abschirmung (5) zuführbar sind.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Öffnung eine langgestreckte Form aufweist.
3. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Behandlungsraum (2, 3, 4)
zylindrisch ist und daß die Abschirmung (5) die Form eines
Zylindermantels aufweist.
4. Anordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die mindestens eine Öffnung (6, 7, 8, 9) in Umfangsrichtung
verläuft.
5. Anordnung nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß mehrere über die Höhe verteilte
Öffnungen (6, 7, 8, 9) vorgesehen sind.
6. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens eine Öffnung (6,
7, 8, 9) von Stegen (10) unterbrochen ist.
7. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
auf den Stegen (10) Gasleitungen (30) verlaufen.
8. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Behandlungsraum von einem
mikrowellen-transparenten Gefäß (2, 3, 4) gebildet ist und
daß die Abschirmung (5) innen an der Gefäßwand anliegt.
9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die zylinderförmige Abschirmung (5) durch eine achsparallele
Fuge (18) geteilt und derart ausgebildet ist, daß sie
federnd an der Wand (2) des Behandlungsraumes anliegt.
10. Anordnung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
an der Fuge (18) eine Verzahnung (19, 20) vorgesehen ist.
11. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Behandlungsraum von einem
mikrowellen-transparenten Gefäß gebildet ist und daß die
Abschirmung außen an der Gefäßwand anliegt.
12. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Behandlungsraum von einem
mikrowellen-transparenten Gefäß gebildet ist und daß die
Abschirmung aus einer auf die Gefäßwand auf gebrachten
metallischen Schicht besteht.
13. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Breite der mindestens einen
Öffnung (6, 7, 8, 9) wesentlich kleiner als die Wellenlänge
der Mikrowellen ist.
14. Anordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abstände von mehreren Öffnungen (6, 7, 8, 9) größer oder
gleich einer halben Wellenlänge der Mikrowellen sind.
15. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet durch eine bewegliche Werkstückhalterung
(24), welche mindestens ein zu behandelndes Werkstück (25)
nacheinander in Bereiche (26, 27, 28, 29) mehrerer Öffnungen
(6, 7, 8, 9) transportiert.
16. Anordnung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß
Mittel zur Erzeugung einer Gasströmung entgegen der
Transportrichtung des mindestens einen Werkstückes (25)
vorgesehen sind.
17. Anordnung nach einem der Ansprüche 14 oder 15, dadurch
gekennzeichnet, daß Mittel zur Steuerung der Zufuhr und/oder
Abfuhr von Gasen in Abhängigkeit von der Stellung des
Werkstückes vorgesehen sind.
18. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmung (5) von einer
Kammer (1) mit mindestens einer Mikrowellen-Zuführung (14,
15, 16, 17) umgeben ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001114115 DE10114115A1 (de) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001114115 DE10114115A1 (de) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10114115A1 true DE10114115A1 (de) | 2002-10-02 |
Family
ID=7678615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2001114115 Ceased DE10114115A1 (de) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | Anordnung zur Erzeugung von Plasma in einem Behandlungsraum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10114115A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9922854B2 (en) | 2010-04-30 | 2018-03-20 | Applied Materials, Inc. | Vertical inline CVD system |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4776918A (en) * | 1986-10-20 | 1988-10-11 | Hitachi, Ltd. | Plasma processing apparatus |
DE4235914A1 (de) * | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Juergen Prof Dr Engemann | Vorrichtung zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen |
DE19608949A1 (de) * | 1996-03-08 | 1997-09-11 | Ralf Dr Spitzl | Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen |
-
2001
- 2001-03-22 DE DE2001114115 patent/DE10114115A1/de not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4776918A (en) * | 1986-10-20 | 1988-10-11 | Hitachi, Ltd. | Plasma processing apparatus |
DE4235914A1 (de) * | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Juergen Prof Dr Engemann | Vorrichtung zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen |
DE19608949A1 (de) * | 1996-03-08 | 1997-09-11 | Ralf Dr Spitzl | Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9922854B2 (en) | 2010-04-30 | 2018-03-20 | Applied Materials, Inc. | Vertical inline CVD system |
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