DE10108069A1 - Hochtemperaturstabile Siliciumborcarbidnitridkeramiken aus Silylalkylborazinen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung - Google Patents
Hochtemperaturstabile Siliciumborcarbidnitridkeramiken aus Silylalkylborazinen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren VerwendungInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Silylalkylboranen mit dem Strukturmerkmal Si-C-B, neue molekulare Silylalkylborane, neue molekulare Silylalkylborazine, neue Oligo- und Polyborocarbosilazane, ein Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung sowie Siliciumborcarbidnitridkeramiken und ein Verfahren zu deren Herstellung.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Silylalkylboranen mit dem Strukturmerkmal Si-C-B, neue molekulare Silyl
alkylborane, neue molekulare Silylalkylborazine, neue Oligo- und
Polyborocarbosilazane, ein Verfahren zu deren Herstellung und deren
Verwendung sowie kohlenstoffreiche Siliciumborcarbidnitridkeramiken und
ein Verfahren zu deren Herstellung.
Die Herstellung nichtoxidischer multinärer Keramiken über die Vernetzung
molekularer Vorläufer ist von herausragender Bedeutung. Keramische
Materialien hoher Reinheit und mit einer homogenen Elementverteilung auf
atomarer Ebene lassen sich derzeit nur über diesen Weg herstellen. Über
herkömmliche Synthesewege, wie z. B. Festkörperreaktion, sind solche
Materialien nicht zugänglich.
Besondere Bedeutung haben die Nitrid- und Carbidnitrid-Keramiken mit Bor
und Silicium erlangt. Sie besitzen eine hohe thermische Stabilität und
Oxidationsbeständigkeit und zeigen eine ausgeprägte Kristallisations
hemmung. Die thermische Beständigkeit der Keramiken in diesem
quaternären System läßt sich durch den zusätzlichen Einbau von
Kohlenstoff in das keramische Netzwerk erhöhen. Solche Materialien sind
hervorragend für den Hochtemperatureinsatz unter atmosphärischen
Bedingungen geeignet und können als Bulkmaterial, als keramische Fasern
in Verbundwerkstoffen, in Form von Beschichtungen zur Anwendung
kommen oder für Mikrostrukturverfahren eingesetzt werden.
In Patent DE 41 07 108 A1 wird die Synthese des Einkomponentenvorläu
fers Trichlorsilylaminodichlorboran (TADB, Cl3Si-NH-BCl2) beschrieben, der
nach Vernetzung mit Methylamin und anschließender Pyrolyse im Inertgas
strom zu einer Keramik der ungefähren Zusammensetzung SiBN3C führt.
Der darin enthaltene Kohlenstoff stammt aus der Methylgruppe des Ver
netzungsreagenz Methylamin.
Ein Nachteil dieses Verfahrens liegt in der geringen Variationsmöglichkeit
des Kohlenstoffgehalts, der hier nur durch eine längere Alkylgruppe im
Vernetzungsreagenz gesteuert werden kann. Diese Alkylgruppe geht jedoch
während der Pyrolyse in Form von flüchtigen Kohlenwasserstoffen verloren
oder führt zu unerwünschten Graphitausscheidungen in der Keramik.
Das Patent WO 98/45302 beschreibt die Herstellung kohlenstoffreicher
Keramiken im Si/B/N/C-System aus einem Einkomponentenvorläufer, der
eine verzweigte Kohlenstoffbrücke zwischen den Elementen Bor und
Silicium besitzt. Auf diese Weise lassen sich kohlenstoffreichere Keramiken
synthetisieren. Ein Nachteil dieses Verfahrens ist, dass die Ein
komponentenvorläufer eine Alkylgruppe an der Kohlenstoffbrücke auf
weisen, die bei der Pyrolyse in Form von flüchtigen Kohlenwasserstoffen
verloren gehen kann.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war die Bereitstellung eines einfachen
Verfahrens, das Einkomponentenvorläufer in hohen Ausbeuten liefert und
die Nachteile des Standes der Technik nicht aufweist. Insbesondere sollen
durch das Verfahren auch Vorläuferverbindungen ohne verzweigte Alkyl
gruppen zugänglich sein, die dann zu amorphen oder teilkristallinen
kohlenstoffreichen Keramiken weiterverarbeitet werden können.
Eine weitere Aufgabe bestand darin, amorphe Si/B/N/C-Keramiken mit
verbesserter Hochtemperatur- und Oxidationsbeständigkeit bereitzustellen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung einer
Verbindung der Formel (I):
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2 (I)
worin jeweils unabhängig R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-
Atomen, Wasserstoff, Halogen, NR'R" oder OR' darstellen, wobei R' und
R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit
1 bis 20 C-Atomen bedeuten und
R1 und R2 unabhängig voneinander einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C- Atomen, Wasserstoff, Halogen, NR'R" oder OR' darstellen, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen.
R1 und R2 unabhängig voneinander einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C- Atomen, Wasserstoff, Halogen, NR'R" oder OR' darstellen, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen.
Bei diesem Verfahren wird ein Silan der allgemeinen Formel (II)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X (II)
worin X Halogen bedeutet, mit einem Metall M, z. B. einem Alkalimetall wie
Na, K und insbesondere Li, einem Erdalkalimetall, insbesondere Mg, oder
einem Übergangsmetall wie etwa Cu, Zn, Cd, Hg umgesetzt. Die Reaktion
erfolgt bei Temperaturen, bei denen im Wesentlichen keine Polymerisation
stattfindet, insbesondere unterhalb 50°C und besonders bevorzugt
zwischen 0°C und 15°C in einem aprotischen organischen Lösemittel und
liefert ein Silan der allgemeinen Formel (III)
(R)3Si-C(R1)(R2)-M(X)w (III)
wobei w = 0 ist, wenn M ein einwertiges Metall ist, und
wobei w eine ganze Zahl ≧ 1 entsprechend der Wertigkeitsstufe von M minus 1 ist, wenn M ein mehrwertiges Metall ist.
wobei w eine ganze Zahl ≧ 1 entsprechend der Wertigkeitsstufe von M minus 1 ist, wenn M ein mehrwertiges Metall ist.
Die Verbindung (III) kann einerseits wie oben beschrieben direkt aus einer
Verbindung der Formel (II) mit einem Metall hergestellt werden, wenn ein
Metall mit ausreichender Reaktivität eingesetzt wird, z. B. Li, Na, K, Mg,
Cu, Zn, Cd, Hg. Andererseits kann die Verbindung (III), worin M ein Metall
ist, das nicht ausreichend reaktiv für eine effiziente direkte Alkylierung ist,
z. B. Sn, auch in zwei Stufen hergestellt werden. In der ersten Stufe wird
eine Verbindung (III) mit einem direkt reaktiven Metall erzeugt, die dann in
einer zweiten Stufe mit dem nicht direkt reaktiven Metall "ummetalliert
wird". Das Metall kann zum Beispiel in Form von Metallspänen oder
bevorzugt als Pulver eingesetzt werden.
Anschließend wird die Verbindung der allgemeinen Formel (III) bei
Temperaturen unterhalb 50°C und bevorzugt bei Temperaturen zwischen
-50°C und 0°C mit einem Boran der allgemeinen Formel
Y-B(R)2
wobei R wie oben definiert ist und Y Halogen, NR'R" oder OR' darstellt,
wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet, umgesetzt.
Es ist auch möglich, den Silylalkylrest der Formel (III) zunächst auf ein
anderes Metall zu übertragen und dann die Umsetzung mit dem Boran
durchzuführen.
In einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens wird eine Chlor
methyl-Silanverbindung der Formel
(R)3Si-CH2Cl
wobei R jeweils unabhängig die für das allgemeine Verfahren angegebenen
Bedeutungen haben kann, in einer Grignard-Reaktion mit Magnesium-Pulver
metalliert und anschließend mit dem Halogenboran umgesetzt.
Die Metallierung der Chlormethyl-alkylchlorsilane der allgemeinen Formel
(Rn)(Cl3-n)Si(CH2Cl) mit n = 0; 1; 2; 3; R = C1-C6 Alkyl, Vinyl, Phenyl,
Wasserstoff, Halogen, Alkylaminogruppen N(R')(R"), Alkyloxygruppen OR'
mit R', R" unabhängig voneinander C1-C6-Alkyl, Vinyl, Phenyl, Wasserstoff
oder Halogen kann z. B. in Diethylether oder Tetrahydrofuran erfolgen.
Bevorzugt wird das Silan der allgemeinen Formel (III) mit mindestens einem
Alkyloxychlorboran YB(R3)(R3') umgesetzt, worin Y Cl bedeutet und R3 und
R3' unabhängig voneinander einen C1-C20-Alkoxy- oder Phenyloxyrest
darstellen.
Die beim erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Halogenborane
YB(R3)(R3') sind besonders bevorzugt Alkoxychlorborane mit Y = Cl, Br und
R3, R3' unabhängig voneinander C1-C6 Alkoxy- oder Phenyloxy-Resten.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher die Um
setzung einer Verbindung der allgemeinen Formel (V)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(OR')(OR") (V)
mit einem Elementhalogenid oder einem organischen Säurehalogenid.
Dabei entsteht eine Verbindung der allgemeinen Formel (IV)
(R)3Si-C(R1)(R2)-BX2 (IV)
Dabei stellen jeweils unabhängig R, R1 und R2 unabhängig voneinander
Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen,
einen Rest N(R')(R") oder einen Rest OR' dar, worin R" und R' unabhängig
voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-
Atomen darstellen, und X Halogen bedeutet.
Bevorzugt bedeuten R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander entweder
Wasserstoff oder Halogen.
In einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens
werden die Zwischenprodukte (R)3Si-C(R1)(R2)-B(OR')(OR") ohne
vorhergehende Abtrennung aus dem Reaktionsgemisch mit
Elementchloriden oder organischen Säurehalogeniden und insbesondere mit
Bortrihalogeniden zu
(R)3Si-C(R1)(R2)-BX2 (IV)
umgesetzt, was den präparativen Aufwand erheblich reduziert.
In einer bevorzugten Ausführungsform wird die Grignard-Reaktion unter
Anwendung des Verdünnungsprinzips bei Temperaturen unterhalb 50°C in
einem aprotischen, organischen Lösemittel, das ein acyclischer oder
cyclischer Ether oder ein C5-C8-Alkan sein kann, durchgeführt.
Zur Isolierung der reinen Substanzen wird das Lösemittel destillativ entfernt
und das Produkt entweder bei vermindertem Druck fraktionierend destilliert
oder durch Umkristallisation gereinigt. Andere Reinigungsmethoden, wie
z. B. die Hochleistungsflüssigchromatographie (HPLC) können ebenfalls
verwendet werden.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sind z. B. auch Silylalkylborane der
Formel (I) zugänglich, die nicht nach dem Verfahren der WO 98/45302
hergestellt werden können.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung sind daher Silylalkylborane der
Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2 (I)
worin R jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR'
bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R1 und R2
jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet,
worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen.
Bevorzugt sind für jedes Auftreten unabhängig R C1-C6-Alkyl, Vinyl, Phenyl,
Wasserstoff, Halogen, Organylaminogruppen N(R')(R"), Organyloxygruppen
OR' mit R', R" unabhängig voneinander C1-C6-Alkyl, Vinyl, Phenyl oder
Wasserstoff und R1, R2 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eines
seiner Isotope oder Halogen.
Bevorzugt wird Silylalkylboran der Formel (I), wobei wenigstens einer der
Reste R Methyl oder/und Cl darstellt. Ebenso bevorzugt wird, dass R1 und
R2 jeweils Wasserstoff sind.
Besonders bevorzugt sind R für jedes Auftreten unabhängig Cl und/oder
CH3 sowie R1 und R2 = H.
Mit Einkomponentenvorläufern dieses Typs, bei denen Bor und Silicium
über eine Brücke C(R1)(R2) verknüpft sind, lassen sich Polymere herstellen,
bei denen Kohlenstoff unabhängig vom Vernetzungsgrad bereits ein fester
Bestandteil des Polymers ist. Damit ist der Einbau von Kohlenstoff in das
keramische Netzwerk begünstigt und die Abspaltung flüchtiger kohlenstoff
haltiger Verbindungen während der Pyrolyse wird drastisch reduziert. Der
C-Anteil in der Keramik läßt sich durch die Wahl eines geeigneten Ver
netzungsreagens in weiten Grenzen variieren, wodurch das Eigenschafts
spektrum der Keramiken gezielt den Anforderungen angepasst werden
kann. Auf diese Weise hergestellte Keramiken besitzen ausgezeichnete
Hochtemperatur- und Oxidationsbeständigkeiten.
Die als Ausgangsprodukte eingesetzten Silane sind wie die Bortrihalogenide
kommerziell erhältlich. Das eingesetzte Boran kann gemäß J. Chem. Soc.
(1957) 501-505 aus kommerziell erhältlichen Boranen hergestellt werden.
Die Erfindung betrifft weiterhin Silylalkylborazine mit der Formel (X):
worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR'
bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R2 und R3
jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeuten,
worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen und R4 jeweils
unabhängig R1, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 darstellt, worin R* jeweils unabhängig
R2 oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
Die in den vorliegenden Silylalkylborazinen bevorzugten bzw. besonders
bevorzugten Reste entsprechen den hierin für die Silylalkylborane als
bevorzugt angegebenen Resten.
Die erfindungsgemäßen Silylalkylborazine eignen sich besonders als
Vorläuferverbindungen und führen nach Polymerisation und Pyrolyse der
Polymere zu neuen amorphen Si/B/N/C-Keramiken mit verbesserten, bisher
in diesem System unerreichten, Hochtemperatur- und
Oxidationsbeständigkeiten. Diese neuen Keramiken zeigen praktisch keinen
Massenverlust bis mindestens 2000°C oder/und sind in reinem Sauerstoff
bis mindestens 1400°C oxidationsstabil.
Die erfindungsgemäßen Silylalkylborane können mit Aminen des Typs
N(R4)3 oder den entsprechenden Ammoniumsalzen HN(R4)3 +A- zu den
beschriebenen Silylalkylborazinen umgesetzt werden, wobei R4 jeweils
unabhängig die oben angegebenen Bedeutungen hat. A stellt ein beliebiges
Anion dar und ist insbesondere ein Halogenid, wie etwa F-, Cl-, Br- oder J-,
eine SO4 2--Gruppe, eine NO3 -Gruppe oder ein Nitrit, Chlorat, Perchlorat,
Carbamat, Tartrat, Phosphat, Pentaborat, Chromat, Citrat, Hydrogencitrat,
Carbonat, Hydrogencarbonat, Triflat, Acetat oder Benzoat. Bevorzugt ist A-
ein Halogenid, besonders bevorzugt Chlorid.
Die Umsetzung der Silylalkylborane mit den Aminen bzw. Ammoniumsalzen
erfolgt bevorzugt mit oder ohne Lösemittel bei Temperaturen zwischen
-100°C und 200°C, mehr bevorzugt bei Temperaturen zwischen 20°C
und 50°C.
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung der Silylalkylborazine geht von
Borazinen des Typs
aus, worin R4 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R"), OR', worin R'
und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest
mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 darstellt, worin R*
jeweils unabhängig dieselben Bedeutungen wie R hat.
Diese Borazine werden in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus
Katalysator, Base und Säurefänger (z. B. ein Zeolith) mit Silanen des Typs
umgesetzt, worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen,
einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR'
bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R2 und R3
jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet,
worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen. X bedeutet
Wasserstoff, Halogen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 worin R* jeweils unabhängig
dieselben Bedeutungen wie R bei den Silylalkylborazinen hat.
Besonders bevorzugt wird bei dieser Umsetzung ein Borazin eingesetzt, bei
dem R4 am Bor Halogen darstellt und R4 am Stickstoff Wasserstoff darstellt
und ein Silan einsetzt, bei dem X = Wasserstoff.
Gegenstand der Erfindung sind zudem Oligo- und Polyborocarbosilazane
erhältlich aus den erfindungsgemäßen molekularen Silylalkylboranen oder
Silylalkylborazinen, dadurch gekennzeichnet, dass in erster
Koordinationssphäre jedes Siliciumatom mindestens ein Kohlenstoffatom
aufweist und dieses an ein Boratom gebunden ist, wobei dieses Boratom
zusätzlich noch an zwei Stickstoffatome gebunden ist.
Gegenstand der Erfindung ist zudem ein Verfahren zur Herstellung eines
solchen Oligo- oder Polyborocarbosilazans, bei dem ein Silylalkylboran der
Formel (I) oder ein Silylalkylborazin der Formel (X) mit einer Verbindung
R'R"NH, worin R', R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlen
wasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, bei Temperaturen von
-100°C bis 300°C umgesetzt wird.
Bevorzugt wird das erfindungsgemäße molekulare Silylalkylboran oder
Silylalkylborazin mit mindestens der n-fachen molaren Menge, insbesondere
mit mindestens der 2n-fachen molaren Menge, wobei n die Zahl der
vernetzungsfähigen Stellen im Molekül bedeutet, mehr bevorzugt einem
Überschuss Ammoniak und/oder einem Organylamin der Formel H2NR oder
HNR2 mit R = H, C1-C6-Alkyl, Vinyl oder Phenyl pro Mol Silylalkylboran mit
oder ohne Lösemittel bei Temperaturen zwischen -100 und 300°C
umgesetzt.
Die Oligo- oder Polyborocarbosilazane können aus den
Vorläuferverbindungen, insbesondereden oben genannten Silylalkylboranen
oder Silylalkylborazinen auch durch direkte Polymerisation der
Einkomponentenvorläufer, insbesondere durch Polykondensation bei
Temperaturen zwischen -100°C und 500°C gebildet werden. Die
Verwendung von Ammoniak oder/und Aminen ist bei der direkten
Polymerisierung nicht erforderlich.
Gegenstand der Erfindung ist zudem ein Verfahren, womit die
rheologischen Eigenschaften der Oligo- oder Polyborocarbosilazane, die in
Form von flüssigen, zähflüssigen oder festen, zum Teil löslichen und
schmelzbaren Polymeren anfallen, mit Ammoniak oder durch
Temperaturbehandlung eingestellt werden können. Durch die Art der
Polymerbildung kann der Vernetzungsgrad der Oligo- oder
Polyborocrbosilazane eingestellt werden. Bei Verwendung von Ammoniak
oder Aminen entstehen hoch quervernetzte Strukturen, während bei der
direkten Polymerisation durch Temperaturbehandlung, z. B. bei ≦ 500°C,
bevorzugt bei ≦ 300°C überwiegend lineare Strukturen erhalten werden.
Somit können Oligo- bzw. Polyborocarbosilazane mit unterschiedlichen,
gewünschten rheologischen Eigenschaften gezielt hergestellt werden bzw.
die rheologischen Eigenschaften von Oligo- oder Polyborocarbosilazanen
durch eine entsprechende Nachbehandlung modifiziert werden.
Die Oligo- oder Polyborocarbosilazane fallen in Form von flüssigen,
zähflüssigen oder festen, zum Teil löslichen und schmelzbaren Polymeren
an, die verschiedenen Formgebungsverfahren unterzogen werden können,
z. B. Formgießen, Verspinnen zu Fasern, Ziehen von Folien, Herstellung
von Beschichtungen durch verschiedene Beschichtungsverfahren wie
Tauch- ("Dip-Coating") oder Fliehkraftbeschichtungen ("SpinCoating"),
bevor diese beispielsweise zu Siliciumborcarbidnitridkeramiken umgesetzt
werden.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung
einer Siliciumborcarbidnitridkeramik, bei dem man ein erfindungsgemäßes
Oligo- oder Polyborocarbosilazan mit dem Strukturelement Si-C-B(N)-N oder
ein Silylalkylboran der Formel (I) oder ein Silylalkylborazin der Formel (X) in
einer inerten oder einer Ammoniak-haltigen Atmosphäre bei Temperaturen
zwischen -200°C und +2000°C pyrolysiert und anschließend in einer
inerten oder Ammoniak-haltigen Atmosphäre bei Temperaturen zwischen
800°C und 2000°C calciniert.
Die inerte Atmosphäre kann ausgewählt werden aus einer Edelgasatmos
phäre, beispielsweise einer Argon- oder Heliumatmosphäre, einer Stick
stoffatmosphäre oder einer Atmosphäre aus einem anderen Inertgas,
welches unter den Reaktionsbedingungen zwischen 800°C und 1700°C
nicht mit den Reaktionspartnern reagiert.
In einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens
werden die Oligo- oder Polyborocarbosilazane mehrere Stunden bei
Temperaturen zwischen 30 und 1000°C getempert. Anschließend werden
diese vorzugsweise zur Entfernung von Wasserstoff bei Temperaturen
zwischen 1200 und 1600°C, mit bevorzugten Aufheizraten von 1-100 K/min.
in Stickstoff- oder Argonatmosphäre calciniert.
Gegenstand der Erfindung sind außerdem durch das oben beschriebene
Verfahren hergestellte Siliciumborcarbidnitridkeramiken aus den
erfindungsgemäßen Oligo- oder Polyborocarbosilazanen.
Bevorzugt enthalten diese Keramiken das N-Si-C-B-N-Strukturelement. Die
erfindungsgemäßen Keramiken können bei der Pyrolyse sowohl kristallin als
auch amorph anfallen. Bevorzugt handelt es sich um ein Siliciumborcarbid
nitridpulver. Wegen der besonders vorteilhaften Eigenschaften werden
Keramiken bevorzugt, bei denen die Elemente N, Si, C und B zu mehr als
93 Gew.-% enthalten sind.
Die Kristallisation des amorphen Materials zu einer Kompositkeramik mit
mindestens einem der Materialien SiC, Si3N4, BN, C und B4C kann durch
Auslagern bei einer Temperatur größer als 1400°C erfolgen. In einer
solchen Kompositkeramik sind die Bestandteile im Nanometermaßstab im
Wesentlichen völlig homogen verteilt, liegen also in monodisperser
Verteilung vor. Die erfindungsgemäßen Kompositkeramiken zeichnen sich
insbesondere durch ihre hohe Temperaturbeständigkeit aus und können
ganz oder teilweise kristallin, insbesondere als Pulver vorliegen.
Die Oligo- oder Polyborocarbosilazane, Keramiken und Kompositkeramiken
können zur Herstellung von keramischen Pulvern, keramischen Beschich
tungen, keramischen Formkörpern, keramischen Folien, keramischen Fasern
oder keramischen Mikrostrukturen verwendet werden.
Die erfindungsgemäßen Silylalkylborane, Oligo- und Polyborocarbosilazane
können in einer chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) oder physika
lischen Gasphasenabscheidung (PVD) eingesetzt werden. Durch die Be
schichtung von Substraten mittels CVD oder PVD können keramische
Überzüge oder Beschichtungen hergestellt werden. Die Gasphasen
abscheidung kann dabei wie im Stand der Technik beschrieben
durchgeführt werden (siehe z. B. DE 196 35 848).
Mikrostrukturen können beispielsweise durch Spritzguss oder litho
graphische Verfahren erzeugt werden. Die Keramiken eignen sich zur
Herstellung von Verbundwerkstoffen. Besonders bevorzugt werden die
Keramiken in Form von Fasern hergestellt, aus denen beispielsweise
Gewebe beziehungsweise Geflechte angefertigt werden, die als Füllstoffe
zur Erhöhung der Festigkeit oder Zähigkeit für andere Keramiken eingesetzt
werden können.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung einer Verbindung der Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2 (I)
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis
20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei
R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasser
stoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinan
der Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-
Atomen bedeuten. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird ein Silan
der allgemeinen Formel (VI)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X (VI)
worin X Wasserstoff, Halogen oder Silylreste bedeuten, mit einem Boran
der allgemeinen Formel (VII)
B(R)3 (VII)
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und
Säurefänger umgesetzt, worin R jeweils unabhängig voneinander einen
Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R")
oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff
oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten.
Noch ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung einer Verbindung der Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2 (I)
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis
20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei
R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasser
stoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinan
der Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-
Atomen bedeuten, dadurch gekennzeichnet
dass man eine CH-acide Verbindung der allgemeinen Formel (VIII)
dass man eine CH-acide Verbindung der allgemeinen Formel (VIII)
(R)3Si-C(R1)(R2)-H (VIII)
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und
Säurefänger umsetzt mit einem Boran der allgemeinen Formel (IX)
X-B(R)2 (IX)
wobei R wie oben definiert ist und X Halogen, NR'R" oder OR' darstellt,
wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen
Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
Als Säurefänger kann bei beiden oben genannten Verfahren insbesondere
ein anorganischer Ionentauscher oder ein Zeolith eingesetzt werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand einiger Beispiele erläutert:
- 1. Cl3Si-CH2-Cl + Mg → Cl3Si-CH2-MgCl
- 2. Cl3Si-CH2-MgCl + Cl-B(OC2H5)2 → Cl3Si-CH2-B(OC2H5)2 + MgCl2
- 3. Cl3Si-CH2-B(OC2H5)2 + 2BCl3 → Cl3Si-CH2-BCl2 + 2Cl2B(OC2H5)
3Cl2B(OC2H5) → 3C2H5Cl + BCl3 + B2O3 [Kat: AlCl3]
Chlormethyltrichlorsilan: 201 mmol, 36,9 g
Magnesium: 288 mmol, 7,0 g
Bis(ethoxy)chlorboran: 224 mmol, 23,3 g
Bortrichlorid: 488 mmol, 57,2 g
Aluminiumtrichlorid: 19 mmol, 0,5 g
7,0 g Magnesiumpulver werden in 150 ml abs. Diethylether suspendiert.
Durch Zugabe einiger Tropfen Chlormethyltrichlorsilan und gegebenenfalls
leichtes Erwärmen wird die Reaktion gestartet. Zu dieser Suspension wird
bei 15°C eine Lösung von 36,9 g Chlormethyltrichlorsilan in 200 ml
Diethylether zugetropft. Nach erfolgter Zugabe wird die Reaktionsmischung
auf -78°C gekühlt und 23,3 g Bis(ethoxy)chlorboran werden in einem
Guss zugegeben. Die Reaktionsmischung wird auf Raumtemperatur
erwärmt, das entstandene Magnesiumchlorid abfiltriert und das Filtrat vom
Lösemittel befreit. Auf den Rückstand werden bei -78°C 57,2 g
Bortrichlorid kondensiert. Zur Entfernung von überschüssigem Bortrichlorid
wird die Mischung auf Raumtemperatur erwärmt und mit 0,5 g
Aluminiumtrichlorid das Nebenprodukt Ethoxydichlorboran katalytisch
zersetzt. Alle flüchtigen Produkte werden in einer Kühlfalle gesammelt und
fraktioniert destilliert.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 1,62. - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 58,61. - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 30,53 (d). - 29Si-NMR (60 MHz, C6D6): δ = 3,13.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 1,62. - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 58,61. - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 30,53 (d). - 29Si-NMR (60 MHz, C6D6): δ = 3,13.
- 1. Cl2(CH3)Si-CH2-Cl + Mg → Cl2(CH3)Si-CH2-MgCl
- 2. Cl2(CH3)Si-CH2-MgCl + Cl-B(OC2H5)2 → Cl2(CH3)Si-CH2-B(OC2H5)2 + MgCl2
- 3. Cl2(CH3)Si-CH2-B(OC2H5)2 + 2BCl3 → Cl2(CH3)Si-CH2-BCl2 + 2Cl2B(OC2H5)
3Cl2B(OC2H5) → 3C2H5Cl + BCl3 + B2O3 [Kat: AlCl3]
Chlormethylmethyldichlorsilan: 197 mmol, 32,3 g
Magnesium: 288 mmol, 7,0 g
Bis(ethoxy)chlorboran: 224 mmol, 23,3 g
Bortrichlorid: 488 mmol, 57,2 g
Aluminiumtrichlorid: 19 mmol, 0,5 g
7,0 g Magnesiumpulver werden in 150 ml abs. Diethylether suspendiert.
Durch Zugabe einiger Tropfen Chlormethylmethyldichlorsilan und
gegebenenfalls leichtes Erwärmen wird die Reaktion gestartet. Zu dieser
Suspension wird bei 15°C eine Lösung von 32,3 g
Chlormethylmethyldichlorsilan in 200 ml Diethylether zugetropft. Nach
erfolgter Zugabe wird die Reaktionsmischung auf -78°C gekühlt und 23,3 g
Bis(ethoxy)chlorboran werden in einem Guss zugegeben. Die
Reaktionsmischung wird auf Raumtemperatur erwärmt, das entstandene
Magnesiumchlorid abfiltriert und das Filtrat vom Lösemittel befreit. Auf den
Rückstand werden bei -78°C 57,2 g Bortrichlorid kondensiert. Zur
Entfernung von überschüssigem Bortrichlorid wird die Mischung auf
Raumtemperatur erwärmt und mit 0,5 g Aluminiumtrichlorid das
Nebenprodukt Ethoxydichlorboran katalytisch zersetzt. Alle flüchtigen
Produkte werden in einer Kühlfalle gesammelt und fraktioniert destilliert.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 1,47 (CH2); 0,47 (CH3). - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 58,61. - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 29,28 (d). - 29Si-NMR (60 MHz, C6D6): δ = 23,85.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 1,47 (CH2); 0,47 (CH3). - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 58,61. - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 29,28 (d). - 29Si-NMR (60 MHz, C6D6): δ = 23,85.
Cl3
Si-CH2
-BCl2
+ 10(CH3
)2
NH → [(CH3
)2
N]3
Si-CH2
-B[N(CH3
)2
]2
+ 5
(CH3
)2
NH2
Cl
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 75 mmol, 17,3 g
Dimethylamin: 3810 mmol, 171,8 g
Dimethylamin: 3810 mmol, 171,8 g
Zu einer Lösung aus 171,8 g Dimethylamin in 200 ml abs. Hexan wird eine
Lösung aus 17,3 g (Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan in 200 ml abs. Hexan
zugetropft. Nach Erwärmen der Reaktionsmischung auf Raumtemperatur
wird das entstandene Dimethylaminhydrochlorid abfiltriert, das Filtrat vom
Lösemittel befreit und der Rückstand fraktionierend destilliert.
1H-NMR(300 MHz, C6D6): δ = 2,45 (SiNCH3); 2,50 (BNCH3).
1H-NMR(300 MHz, C6D6): δ = 2,45 (SiNCH3); 2,50 (BNCH3).
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 37 mmol, 8,5 g
Dimethylamin: 1722 mmol, 53,5 g
Dimethylamin: 1722 mmol, 53,5 g
Zu einer Lösung aus 53,5 g Dimethylamin in 120 ml abs. Hexan wird eine
Lösung aus 8,5 g (Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan in 120 ml abs. Hexan
zugetropft. Nach Erwärmen der Reaktionsmischung auf Raumtemperatur
wird das entstandene Monomethylaminhydrochlorid abfiltriert und das
Filtrat vom Lösemittel befreit. Das Polyborocarbosilazan verbleibt als klarer
zähflüssiger Rückstand.
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 32 mmol, 8,7 g
Ammoniak: 5000 mmol, 85,0 g
Ammoniak: 5000 mmol, 85,0 g
8,7 g Tris(dimethylamino)silyl/bis(dimethylamino)boryl/methan werden bei
-50°C in 85,0 g Ammoniak für 48 h gerührt. Nach Abdestillieren des
Ammoniaks verbleibt das Polyborocarbosilazan als weißer fester
Rückstand.
3Cl3
Si-CH2
-BCl2
+ 3(CH3
)3
Si-NH-SiCl3
→
[Cl3
Si-CH2
-BNH]3
+ 3SiCl3
+ 3(CH3
)3
SiCl
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 36 mmol, 8,4 g
(Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin: 50 mmol, 11,2 g
(Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin: 50 mmol, 11,2 g
Zu einer Lösung aus 11,2 g (Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin in 50 ml
Hexan wird unter Rühren bei Raumtemperatur eine Lösung aus 8,4 g
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan in 20 ml Hexan zugetropft. Nach 18 h
Reaktionszeit werden alle flüchtigen Komponenten bei 10 mbar abdestilliert
und der Rückstand aus Dichlormethan umkristallisiert.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 0,61 (CH2); 4,50 (NH). - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 16,98. - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 32,74.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 0,61 (CH2); 4,50 (NH). - 13C-NMR (75 MHz, C6D6): δ = 16,98. - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 32,74.
3Cl3
Si-CH2
-BCl2
+ 3(CH3
)3
Si-NH-Si(CH3
)3
→ [Cl3
Si-CH2
-BNH]3
+
6(CH3
)3
SiCl
(Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 43 mmol, 9,9 g
Hexamethyldisilazan: 45 mmol, 7,3 g
Hexamethyldisilazan: 45 mmol, 7,3 g
Zu 9,9 g (Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan werden unter Rühren bei
Raumtemperatur 7,3 g Hexamethyldisilazan zugetropft. Nach 12 h werden
alle flüchtigen Komponenten im Hochvakuum abdestilliert und der
Rückstand aus Dichlormethan umkristallisiert.
3Cl2
(CH3
)Si-CH2
-BCl2
+ 3(CH3
)3
Si-NH-SiCl3
→
[Cl2
(CH3
)Si-CH2
-BNH]3
+ 3SiCl3
+ 3(CH3
)3
SiCl
(Methyldichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 62 mmol, 13,0 g
(Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin: 69 mmol, 15,4 g
(Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin: 69 mmol, 15,4 g
Zu einer Lösung aus 15,4 g (Trichlorsilyl)(trimethylsilyl)amin in 70 ml
Hexan wird unter Rühren bei Raumtemperatur eine Lösung aus 13,0 g
(Methyldichlorsilyl)(dichlorboryl)-methan in 30 ml Hexan zugetropft. Nach
18 h Reaktionszeit werden alle flüchtigen Komponenten bei 10 mbar
abdestilliert und der Rückstand aus Dichlormethan umkristallisiert.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 0,48 (CH3); 0,49 (CH2); 4,53 (NH). - 13C- NMR (75 MHz, C6D6): δ = 6,84 (CH3); 14,68 (CH2). - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 33,60.
1H-NMR (300 MHz, C6D6): δ = 0,48 (CH3); 0,49 (CH2); 4,53 (NH). - 13C- NMR (75 MHz, C6D6): δ = 6,84 (CH3); 14,68 (CH2). - 11B-NMR (96 MHz, C6D6): δ = 33,60.
3Cl2
(CH3
)Si-CH2
-BCl2
+ 3(CH3
)3
Si-NH-Si(CH3
)3
→
[Cl2
(CH3
)Si-CH2
-BNH]3
+ 6(CH3
)3
SiCl
(Methyldichlorsilyl)(dichlorboryl)methan: 55 mmol, 11,5 g
Hexamethyldisilazan: 61 mmol, 9,8 g
Hexamethyldisilazan: 61 mmol, 9,8 g
Zu 11,5 g (Methyldichlorsilyl)(dichlorboryl)methan werden unter Rühren bei
Raumtemperatur 9,8 g Hexamethyldisilazan zugetropft. Nach 12 h werden
alle flüchtigen Komponenten im Hochvakuum abdestilliert und der
Rückstand aus Dichlormethan umkristallisiert.
B,B',B"-(Trichlorsilylmethyl)borazin: 26 mmol, 12,0 g
Dimethylamin: 1500 mmol, 46,6 g
Dimethylamin: 1500 mmol, 46,6 g
Zu einer Lösung aus 53,5 g Dimethylamin in 120 ml abs. Hexan wird eine
Lösung aus 8,5 g (Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan in 120 ml abs. Hexan
zugetropft. Nach erwärmen der Reaktionsmischung auf Raumtemperatur
wird das entstandene Monomethylaminhydrochlorid abfiltriert und das
Filtrat vom Lösemittel befreit. Das Polyborocarbosilazan verbleibt als klarer
zähflüssiger Rückstand.
B,B',B"-(Methyldichlorsilylmethyl)borazin: 22 mmol, 11,5 g
Dimethylamin: 1500 mmol, 46,6 g
Dimethylamin: 1500 mmol, 46,6 g
Zu einer Lösung aus 53,5 g Dimethylamin in 120 ml abs. Hexan wird eine
Lösung aus 8,5 g (Trichlorsilyl)(dichlorboryl)methan in 120 ml abs. Hexan
zugetropft. Nach erwärmen der Reaktionsmischung auf Raumtemperatur
wird das entstandene Monomethylaminhydrochlorid abfiltriert und das
Filtrat vom Lösemittel befreit. Das Polyborocarbosilazan verbleibt als klarer
zähflüssiger Rückstand.
Claims (24)
1. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2
worin R jeweils unabhängig einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C- Atomen, Wasserstoff, Halogen, NR'R" oder OR' darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, NR'R" oder OR' dar stellen, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Silan der allgemeinen Formel (II)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X,
worin X Halogen bedeutet, mit einem Metall M bei Temperaturen unterhalb 50°C in einem aprotischen organischen Lösemittel zu einem Silan der allgemeinen Formel (III)
(R)3Si-C(R1)(R2)-M(X)w
wobei w = 0 ist, wenn M ein einwertiges Metall ist, und wobei w eine ganze Zahl ≧ 1 entsprechend der Wertigkeitsstufe von M minus 1 ist, wenn M ein mehrwertiges Metall ist,
umsetzt und die Verbindung der allgemeinen Formel (III) anschließend bei Temperaturen unterhalb 50°C mit einem Boran der allgemeinen Formel
Y-B(R)2
wobei R wie oben definiert ist und Y Halogen, NR'R" oder OR' dar stellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet, umsetzt.
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2
worin R jeweils unabhängig einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C- Atomen, Wasserstoff, Halogen, NR'R" oder OR' darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, NR'R" oder OR' dar stellen, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Silan der allgemeinen Formel (II)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X,
worin X Halogen bedeutet, mit einem Metall M bei Temperaturen unterhalb 50°C in einem aprotischen organischen Lösemittel zu einem Silan der allgemeinen Formel (III)
(R)3Si-C(R1)(R2)-M(X)w
wobei w = 0 ist, wenn M ein einwertiges Metall ist, und wobei w eine ganze Zahl ≧ 1 entsprechend der Wertigkeitsstufe von M minus 1 ist, wenn M ein mehrwertiges Metall ist,
umsetzt und die Verbindung der allgemeinen Formel (III) anschließend bei Temperaturen unterhalb 50°C mit einem Boran der allgemeinen Formel
Y-B(R)2
wobei R wie oben definiert ist und Y Halogen, NR'R" oder OR' dar stellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet, umsetzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass eine Chlormethyl-Silanverbindung der Formel
(R)3Si-CH2Cl
wobei R jeweils unabhängig die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen haben kann, in einer Grignard-Reaktion mit Magnesium-Pulver metalliert wird und anschließend mit dem Halogenboran umgesetzt wird.
(R)3Si-CH2Cl
wobei R jeweils unabhängig die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen haben kann, in einer Grignard-Reaktion mit Magnesium-Pulver metalliert wird und anschließend mit dem Halogenboran umgesetzt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Silan der allgemeinen Formel (III) mit mindestens einem
Alkyloxychlorboran XB(R3)(R3') umgesetzt wird, worin X Cl bedeutet
und R3 und R3' unabhängig voneinander einen C1-C20-Alkoxy- oder
Phenyloxyrest darstellen.
4. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der allgemeinen Formel
(IV)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(X)2,
worin jeweils unabhängig R, R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C- Atomen, einen Rest N(R')(R") oder einen Rest OR' darstellt, worin R" und R' unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlen wasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen, und X Halogen bedeutet,
dadurch gekennzeichnet,
dass man eine Verbindung der allgemeinen Formel (V)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(OR')(OR")
mit einem Elementhalogenid oder einem organischen Säurehalogenid umsetzt.
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(X)2,
worin jeweils unabhängig R, R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C- Atomen, einen Rest N(R')(R") oder einen Rest OR' darstellt, worin R" und R' unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlen wasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen, und X Halogen bedeutet,
dadurch gekennzeichnet,
dass man eine Verbindung der allgemeinen Formel (V)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(OR')(OR")
mit einem Elementhalogenid oder einem organischen Säurehalogenid umsetzt.
5. Verfahren nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
dass R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff oder
Halogen bedeuten.
6. Molekulares Silylalkylboran der allgemeinen Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin R jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R1 und R2 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen.
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin R jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R1 und R2 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen.
7. Molekulares Silylalkylboran nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
dass wenigstens einer der Reste R Methyl oder/und Cl darstellt.
8. Molekulares Silylalkylboran nach Anspruch 6 oder 7,
dadurch gekennzeichnet,
dass R1 und R2 jeweils Wasserstoff sind.
9. Silylalkylborazin mit der Formel (X)
worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R2 und R3 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeuten, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen und R4 R1, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 bedeutet, worin R* jeweils unabhängig R2 oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellt, und R2 und R3 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeuten, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen und R4 R1, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 bedeutet, worin R* jeweils unabhängig R2 oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
10. Verfahren zur Herstellung eines Silylalkylborazins nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Silylalkylboran der Formel (I), wie in einem der
Ansprüche 6 bis 8 definiert, mit einem Amin N(R4)3 oder einem
Ammoniumsalz HN(R4)3 +, worin R4 die in Anspruch 1 angegebene
Bedeutung hat und A- ein Anion darstellt, umsetzt.
11. Verfahren zur Herstellung eines Silylalkylborazins nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Borazin der Formel (XI)
worin R4 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R"), OR', worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 darstellt, worin R* jeweils unabhängig dieselben Bedeutungen wie für R in Anspruch 1 angegeben hat, mit Silanen des Typs
umgesetzt, worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C- Atomen darstellt, und R2 und R3 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen und X Wasserstoff, Halogen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 bedeutet, worin R* jeweils unabhängig dieselben Bedeutungen wie R hat.
worin R4 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R"), OR', worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 darstellt, worin R* jeweils unabhängig dieselben Bedeutungen wie für R in Anspruch 1 angegeben hat, mit Silanen des Typs
umgesetzt, worin R1 jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C- Atomen darstellt, und R2 und R3 jeweils unabhängig Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder OR' bedeutet, worin R' und R" jeweils unabhängig Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-Atomen darstellen und X Wasserstoff, Halogen, Sn(R*)3 oder Si(R*)3 bedeutet, worin R* jeweils unabhängig dieselben Bedeutungen wie R hat.
12. Oligo- oder Polyborocarbosilazan, erhältlich aus einer Verbindung der
Formel (I) gemäß einem der Ansprüche 6 bis 8 oder einer
Verbindung der Formel (X) gemäß Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
dass es das Strukturmerkmal
aufweist.
aufweist.
13. Verfahren zur Herstellung eines Oligo- oder Polyborocarbosilazans
nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Silylalkylboran, erhältlich durch ein Verfahren nach
einem der Ansprüche 1 bis 5, oder ein Silylalkylboran nach einem
der Ansprüche 6 bis 8 oder ein Silylalkylborazin nach Anspruch 9
mit einer Verbindung R'R"NH, worin R', R" jeweils unabhängig
Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 C-
Atomen darstellt, bei Temperaturen von -100°C bis 300°C
umsetzt.
14. Verfahren zur Herstellung einer Siliciumborcarbidnitridkeramik,
dadurch gekennzeichnet,
dass man ein Oligo- oder Polyborocarbosilazan nach Anspruch 12
oder ein Silylalkylboran der Formel (I), erhältlich durch ein Verfahren
nach einem der Ansprüche 1 bis 5 oder ein Silylalkylborazin nach
Anspruch 9, in einer inerten oder einer Ammoniak-haltigen
Atmosphäre bei Temperaturen zwischen -200°C und +2000°C
pyrolysiert und anschließend in einer inerten oder Ammoniak-haltigen
Atmosphäre bei Temperaturen zwischen 800°C und 2000°C
calciniert.
15. Siliciumborcarbidnitridkeramik, erhältlich mit einem Verfahren nach
Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet,
dass in der Keramik N-Si-C-B-N-Struktureinheiten vorliegen.
16. Keramik nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet,
dass es sich um eine amorphe Keramik handelt.
17. Keramik nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Elemente N, Si, C und B zu mehr als 93 Gew.-% enthalten
sind.
18. Verfahren zur Herstellung einer Kompositkeramik aus mindestens
einer der Komponenten SiC, Si3N4, BN, C und B4C,
dadurch gekennzeichnet,
dass man eine Siliciumborcarbidnitridkeramik nach einem der
Ansprüche 15 bis 17 bei Temperaturen größer als 1400°C
auslagert.
19. Kompositkeramik, erhältlich durch ein Verfahren nach Anspruch 15
durch Kristallisation einer Siliciumbornitridkeramik nach einem der
Ansprüche 15 bis 17,
dadurch gekennzeichnet,
dass SiC, Si3N4, BN, C oder/und B4C in molekulardisperser Verteilung
vorliegen.
20. Kompositkeramik nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
dass es sich um eine zumindest teilweise kristalline Keramik handelt.
21. Verwendung von Oligo- oder Polyborocarbosilazanen nach Anspruch
12, von Siliciumborcarbidnitridkeramiken nach Anspruch 15 bis 17
oder von Kompositkeramiken nach Anspruch 19 oder 20 zur
Herstellung von keramischen Pulvern, keramischen Beschichtungen,
keramischen Formkörpern, keramischen Folien, keramischen Fasern
oder keramischen Mikrostrukturen.
22. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, dadurch gekennzeichnet dass man ein Silan der allgemeinen Formel (VI)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X
worin X Wasserstoff, Halogen oder Silylreste bedeuten, mit einem Boran der allgemeinen Formel (VII)
B(R)3
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und Säurefänger umsetzt, worin R jeweils unabhängig voneinander einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten.
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, dadurch gekennzeichnet dass man ein Silan der allgemeinen Formel (VI)
(R)3Si-C(R1)(R2)-X
worin X Wasserstoff, Halogen oder Silylreste bedeuten, mit einem Boran der allgemeinen Formel (VII)
B(R)3
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und Säurefänger umsetzt, worin R jeweils unabhängig voneinander einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten.
23. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der Formel (I)
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten,
dadurch gekennzeichnet
dass man eine CH-acide Verbindung der allgemeinen Formel (VIII)
(R)3Si-C(R1)(R2)-H
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und Säurefänger umsetzt mit einem Boran der allgemeinen Formel (IX)
Y-B(R)2
wobei R wie oben definiert ist und Y Halogen, NR'R" oder OR' dar stellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
(R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2,
worin jeweils unabhängig voneinander R einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen, Wasserstoff, Halogen, N(R')(R") oder O(R') darstellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten und R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten,
dadurch gekennzeichnet
dass man eine CH-acide Verbindung der allgemeinen Formel (VIII)
(R)3Si-C(R1)(R2)-H
in Gegenwart einer geeigneten Kombination aus Katalysator, Base und Säurefänger umsetzt mit einem Boran der allgemeinen Formel (IX)
Y-B(R)2
wobei R wie oben definiert ist und Y Halogen, NR'R" oder OR' dar stellt, wobei R' und R" unabhängig voneinander Wasserstoff oder einen Kohlenwasserstoff mit 1 bis 20 C-Atomen bedeutet.
24. Verfahren nach Anspruch 22 oder 23, wobei als Säurefänger ein
anorganischer Ionentauscher oder ein Zeolith verwendet wird.
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WO2004069768A1 (de) * | 2003-02-03 | 2004-08-19 | Eidgenössische Technische Hochschule Zürich | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER B/N/C/Si-KERAMIK AUS EINEM BORAZINPRECURSOR, NACH DIESEM VERFAHREN HERGESTELLTE KERAMIK SOWIE VERWENDUNG DER NACH DIESEM VERFAHREN HERGESTELLTEN KERAMIK |
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2001
- 2001-02-20 DE DE2001108069 patent/DE10108069A1/de not_active Withdrawn
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