DE10042123A1 - Vorrichtung zur Durchführung von Messungen im Vakuum - Google Patents
Vorrichtung zur Durchführung von Messungen im VakuumInfo
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Abstract
Zur Durchführung von Messungen im Vakuum, z. B. zur Qualitätskontrolle in der Halbleiterfertigung, werden herkömmlicherweise Stand-Alone-Meßmaschinen eingesetzt. Diese sind sehr kosten-, platz- und zeitintensiv. Um ein prozeßnahes Messen unter bestmöglichen Bedingungen zu erlauben, wird eine Vorrichtung mit zweiteiligem Gehäuse (20, 21) vorgeschlagen, das beweglich in einer Vakuumkammer angeordnet ist, wobei ein Gehäuseteil (21) in die Vakuumkammer hineinragt und der andere Gehäuseteil (20) sich außerhalb der Vakuumkammer befindet. Das Gehäuse (20, 21) kann eine Meßeinrichtung (34) aufnehmen. Außerdem sind eine am Gehäuse (20, 21) angreifende Verstelleinrichtung (25) und eine am zweiten Gehäuseteil (20) angreifende Gegenzugeinrichtung (39) vorgesehen.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Durchführung von
Messungen in einer Vakuumkammer, insbesondere der Messung von dünnen
Schichten, mit einem mindestens ein Meßfenster aufweisenden Gehäuse zur
Aufnahme einer Meßeinrichtung.
Ferner bezieht sich die Erfindung auf einen Vakuumadapter für Vorrichtungen
zur Durchführung optischer Messungen in einer Vakuumkammer.
Messungen im Vakuum, insbesondere zur Qualitätskontrolle, sind
beispielsweise in der Halbleiterfertigung von sehr großer Bedeutung. Die am
häufigsten zu messenden Größen sind beispielsweise die Dicken der dünnen
Funktionsschichten von wenigen Nanometern bis einigen Mikrometern sowie
die Größe und Verteilung von Partikeln. Mit dem Übergang zu kleineren
Strukturen und größeren Waferdurchmessern steigt der Bedarf an
prozeßbegleitender Qualitätskontrolle. Ziel ist die Früherkennung von Fehlern
und die Korrektur der Prozeßparameter, um die Ausbeute und die Produktivität
der Fertigung zu erhöhen. Je höher die Ansprüche der Qualitätskontrolle
werden, desto häufiger müssen die Wafer den Fertigungsprozeß verlassen, um
einer Stichprobenmessung unterzogen zu werden.
Stand der Technik sind sogenannte Stand-Alone-Meßmaschinen, die an
zentralen Punkten der Fabrik installiert werden. Wegen der hohen Kosten
dieser Anlagen und des relativ hohen Platzbedarfs können nur wenige dieser
Anlagen installiert werden. Nachteilig sind auch die zusätzlichem Wege, die
zusätzlichen Lade- und Entladeschritte der Wafer aus Transportboxen und
zurück. Weiterhin vergeht relativ viel Zeit zwischen der Erkennung eines
Defekts und der Reaktion, was bei steigender Prozeßgeschwindigkeit und der
drastischen Erhöhung des Wertes der einzelnen Wafers zu enormen Verlusten
führen kann.
Zur Verbesserung der Ausbeute und Verkürzung von Produktionszyklen gerade
in der Dünnschichtfertigung soll die Messung der Schichteigenschaften von
dünnen Schichten möglichst prozeßnah erfolgen. Eine bevorzugte Methode der
Messung von Brechzahlen und Dicken von dünnen Schichten ist die
Ellipsometrie. Sie nutzt die Veränderung des Polarisationszustandes von Licht
nach der Reflexion an der Probenoberfläche aus. Dazu wird kollimiertes und
vollständig polarisiertes Licht unter einem bestimmten Einfallswinkel auf die
Probe gerichtet. Neben der Reflexion verändert sich der Polarisationszustand
der Strahlung als Funktion der Probeneigenschaften.
Bei ellipsometrischen Messungen zur Bestimmung von
Beschichtungsparametern in Fertigungsprozessen ist neben den Stand-Alone-
Maschinen auch der Ansatz verfolgt worden, die Beschichtungsparameter in-
situ zu messen. In der EP 0 527 150 B1 wird eine Anordnung für
ellipsometrische in-situ Messungen in einer industriellen Beschichtungsanlage
vorgeschlagen. Das Ellipsometer gemäß EP 0 527 150 B1 weist ein
sogenanntes Paddel auf, auf dem sowohl die zu vermessenden Wafer
angeordnet sind als auch die Analysator- und die Polarisatoreinheit sowie
Strahlumlenkvorrichtungen in Form von Prismen. Sowohl für den einfallenden
Strahl als auch für den ausfallenden Strahl ist jeweils ein Rohr als Strahlrohr
vorgesehen. In einer bevorzugten Ausführungsform sind diese beiden Rohre
auch an dem Paddel befestigt.
Diese Ellipsometeranordnung hat gravierende Nachteile. Um die Messung mit
hinreichend gutem Einfallswinkel (üblicherweise zwischen 65 und 75°)
durchführen zu können, ist es aus fertigungstechnischer Sicht von Nachteil,
daß der Beschichtungsofen, der auf hohen Durchsatz optimiert wurde, nicht
voll beschickt werden kann. Denn zwischen dem zu vermessenden Wafer und
seinem Nachbarwafer muß ein Mindestabstand eingehalten werden. Dadurch,
daß der Beschichtungsofen anders aufgefüllt wird, als es dem optimierten
Zustand entspricht, ändern sich die Strömungsverhältnisse in dem Ofen und
damit auch die Qualität der Beschichtung.
Aus meßtechnischer Sicht ist es von großem Nachteil, daß die üblicherweise in
einer Vakuumkammer vorhandenen Pumpen die Rohre und das Paddel zu
Eigenschwingungen anregen, wodurch die Messung verfälscht wird. Die bei
der Fertigung auftretenden hohen Temperaturen und Gase führen zur
Beeinträchtigung der Meßergebnisse, da mit Abscheidungen auf den Wänden
der Prismen sowie mit thermisch bedingten Verspannungen zu rechnen ist.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Durchführung
von Messungen im Vakuum bereitzustellen, die weder die Nachteile der Stand-
Alone-Geräte noch der In-Situ-Meßgeräte aufweist, sondern ein prozeßnahes
Messen unter bestmöglichen Meßbedingungen erlaubt.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung gemäß Anspruch 1.
Außerdem wird die Aufgabe durch einen Vakuumadapter gemäß Anspruch 14
gelöst.
Das Gehäuse der erfindungsgemäßen Vorichtung gliedert sich in zwei Teile,
von denen der erste Teil in eine Vakuumkammer hineinragt oder zumindest mit
einer Fläche an das Vakuum der Vakuumkammer grenzt und der zweite
Gehäuseteil sich außerhalb der Vakuumkammer befindet.
Bei den Vakuumkammern handelt es sich nicht um die
Prozeßvakuumkammern, sondern beispielsweise um Transfer- oder
Schleusenkammern der Fertigungsanlage. In der Fertigungsanlage können auch
spezielle Meßkammern integriert werden, an denen die erfindungsgemäße
Vorrichtung angebracht sein kann. Die zu vermessenden Proben werden durch
die ohnehin in der Fertigungsanlage vorhandenen Transportmittel, wie
beispielsweise Roboter, zwecks Durchführung der Messung zur Vorrichtung
gebracht und in unmittelbarer Nähe des ersten Gehäuseteils positioniert.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist mindestens eine am Gehäuse
angreifende Verstelleinrichtung zur Positionsveränderung relativ zur
Vakuumkammer bzw. relativ zur zu vermessenden Probe auf. Dadurch wird
gewährleistet, daß die Vorrichtung vor jeder Messung einjustiert werden kann.
Dies kann bei manchen Meßmethoden notwendig sein. Es ist insbesondere bei
hohen Anforderungen an die Meßgenauigkeit erforderlich oder, wenn die
Positionierung der Probe durch die in der Prozeßanlage vorhandenen
Transportmittel zu ungenau ist.
Ein Einjustieren der Vorrichtung vor jeder Messung, ohne den
Fertigungsprozeß zu unterbrechen, wird durch Mittel zur abdichtenden und
beweglichen Anordnungen des Gehäuses in der Wand der Vakuumkammer
ermöglicht. Außerdem wird durch diese Mittel ein mechanisches Abkoppeln
der Vorrichtung von der Vakuumkammer erreicht. Weiterhin kann damit die
Vorrichtung unabhängig von der Vakuumkammer aufgebaut und getestet
werden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine am zweiten Gehäuseteil
angreifende Gegenzugeinrichtung auf, um eine Kraft wirken zu lassen, die der
durch den Unterdruck des Vakuums der Vakuumkammer auf die Vorrichtung
wirkenden Kraft entgegenwirkt. Dadurch wird ein kräftefreier und auch
spannungsfreier Zustand der Vorrichtung errreicht, was zu einer besseren
Funktionsweise der einzelnen Komponenten sowie einer höheren
Betriebssicherheit und Meßgenauigkeit führt. Insbesondere wird dadurch das
Einjustieren der Vorrichtung erleichtert. Auch die mechanische Abkopplung
der Vorrichtung von der Vakuumkammer wird dadurch erhöht. Ein besonderer
Vorteil besteht darin, daß durch die Anordnung auf die Verwendung besonders
starker Motoren für die Verstelleinrichtung verzichtet werden kann. Es
genügen kleine Motoren und entsprechend schwach ausgelegte Spindeltriebe,
die lediglich auf die Kompensation etwaiger Rückstellkräfte der Mittel zur
abdichtenden und beweglichen Anordnung des Gehäuses in der Wand der
Vakuumkammer ausgelegt zu sein brauchen.
Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, als Mittel zur abdichtenden und
beweglichen Anordnung des Gehäuses in der Wand der Vakuumkammer unter
anderem einen Faltenbalg einzusetzen. Da der Faltenbalg keine starre
Ausdehnung aufweist, erlaubt er ein Verstellen der Position der Vorrichtung
relativ zur Vakuumkammer bzw. zur zu vermessenden Probe, ohne daß
Einbußen in der abdichtenden Wirkung hingenommen werden müßten.
Außerdem dämpft er mögliche Schwingungen der Vakuumkammer gegenüber
der Vorrichtung ab. Bei geringerem Vakuum und minimalen Verstellwegen
sind auch elastische Dichtungen denkbar.
Um die Gegenkraft anzulegen, sind beispielsweise eine Federaufhängung oder
eine magnetische Aufhängung denkbar. Bevorzugt ist auf der der
Vakuumkammer entgegengesetzten Seite der Vorrichtung eine
Unterdruckkammer ausgebildet, die entweder separat evakuiert wird oder über
eine Vakuumverbindung mit der großen Vakuumkammer der Fertigungsanlage
in Verbindung steht, so daß sich automatisch ein Druckausgleich einstellt. In
diesem zweiten Fall hat die Unterdruckkammer ein variables Volumen.
Vorteilhafterweise ist die Meßeinrichtung im zweiten Gehäuseteil
untergebracht.
In der Meßeinrichtung wird das Eingangssignal zur Verfügung gestellt, das
durch Wechselwirkung mit der Probe in ein Meßsignal umgewandelt werden
wird. Bei dem Eingangssignal kann es sich um beliebige elektromagnetische
Wellen handeln. Das Eingangssignal kann entweder in der Meßeinrichtung
direkt erzeugt werden oder aber von außerhalb der Meßeinrichtung in die
Meßeinrichtung eingeführt werden und dort beispielsweise monochromatisiert
oder moduliert oder anders den Meßbedingungen entsprechend modifiziert
werden.
Außerdem enthält die Meßeinrichtung mindestens einen Detektor, der der
Erfassung des Meßsignales dient. Die Auswertung des Meßsignals kann noch
in der Meßeinrichtung stattfinden. Das Detektionssignal kann aber auch zu
Zwecken der Auswertung aus der Meßeinrichtung abgeführt werden oder
innerhalb oder außerhalb der Meßeinrichtung abgespeichert werden.
Der erste Gehäuseteil dient dazu, die Grenze zwischen dem Vakuum in der
Fertigungsanlage und der Atmosphäre in der Meßeinrichtung im zweiten
Gehäuseteil, d. h. in der Regel Luft, zu bilden. Die Grenzfläche kann
beispielsweise als vakuumtaugliches oder hochvakuumtaugliches Fenster
ausgebildet sein, das für das Eingangssignal und das Meßsignal transparent ist.
Vorzugsweise ist die Meßeinrichtung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
derart ausgebildet, daß sie neben dem mindestens einen Detektor mindestens
eine Lichtquelle oder Lichtzuführung wie beispielsweise Glasfaserkabel
aufweist. Dadurch können mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung optische
Messungen im Vakuum durchgeführt werden. Diese Ausführungsform der
erfindungsgemäßen Vorrichtung eignet sich insbesondere für Messungen an der
Probenoberfläche wie beispielsweise ellipsometrische Messungen zur
Bestimmung der Dicke und des Brechungsindexes von Beschichtungen oder
auch zur Bestimmung der vorhandenen Partikel durch Messung des Streulichtes
bzw. Messung des Verlustes an direkter Reflektion an der Probe oder in einem
Volumen. Diese Anwendungen eignen sich insbesondere - aber nicht nur - für
die Qualitätskontrolle bei Fertigungsprozessen in der Halbleiterindustrie.
Für die Durchführung von optischen Messungen im Vakuum ist der erste
Gehäuseteil als Vakuumadapter ausgebildet und weist ein Strahlrohr auf, durch
das der eintretende Strahl als Eingangssignal, der von der Lichtquelle in der
Meßeinrichtung erzeugt wurde, und der austretende Strahl des Meßsignals
geleitet werden. Der eintretende Strahl muß nicht zwingend von einer
Lichtquelle innerhalb der Meßeinrichtung erzeugt worden sein, sondern kann
auch außerhalb der Meßeinrichtung erzeugt worden sein und beispielsweise
über Lichtleiterkabel der Meßeinrichtung zugeführt worden sein und dort als
Lichtstrahl austreten. Das Strahlrohr des Vakuumadapters ist mit einem Ende
an dem die Meßeinrichtung beinhaltenden Gehäuseteil befestigt. Über den
Vakuumadapter können z. B. ein Ellipsometer, ein Reflektometer und/oder ein
FTIR-Spektrometer eingekoppelt werden.
Damit am Ort der Messung die gewünschte Meßkonfiguration bzw.
Meßgeometrie gegeben ist, weist der Vakuumadapter vorteilhafterweise an dem
der Vakuumkammer zugewandten Ende des Strahlrohres ein Prismen- und/oder
ein Linsensystem auf. Strahleigenschaften wie Divergenz, Dispersion und
Winkel relativ zur Probe können dadurch unmittelbar vor der Messung und
unmittelbar nach der Messung an die spezifischen Gegebenheiten angepaßt
werden. Bei geringerem Vakuum ist es möglich, das Prismen- bzw. das
Linsensystem vakuumdicht mit dem Strahlrohr abzudichten, so daß diese
optischen Elemente als Grenzfläche zwischen der Atmosphäre im Strahlrohr
bzw. der Meßeinrichtung und dem Vakuum außerhalb der Vorrichtung
fungieren.
Wenn sehr hohe Meßgenauigkeiten erreicht werden sollen, wird allerdings die
Lösung bevorzugt, bei der sich die optischen Elemente wie Prismen bzw.
Linsen vollständig im Vakuum befinden, da ansonsten innerhalb dieser
optischen Elemente Spannungen auftreten können. An dem der
Meßeinrichtung zugewandten Ende des Strahlrohres ist vorteilhafterweise ein
für Licht der jeweiligen Wellenlänge durchlässiges, vakuumtaugliches Fenster
angeordnet. Dieses Vakuumfenster trennt die Atmosphäre in der
Meßeinrichtung vom Vakuum des Strahlrohrs bzw. der Vakuumkammer.
Innerhalb des Strahlrohres herrscht Vakuum.
Insbesondere bei ellipsometrischen Anwendungen der Vorrichtung ist es von
Vorteil, den Polarisator nicht unbedingt in der Meßeinrichtung anzuordnen,
sondern einen Polarisator auf der Strahlrohrinnen- oder der
Strahlrohraußenseite des Prismensystems des Vakuumadapters anzubringen.
Wenn es auf einen sehr hohen Polarisationsgrad ankommt, wird der Polarisator
vorzugsweise auf der Strahlrohraußenseite des Prismensystems angebracht. Bei
Anwendungen im Hochvakuum allerdings kann es vorkommen, daß, falls es
sich um Polarisatorfolie handelt oder der Polarisator durch Kleben an dem
Prismensystem befestigt wurde, das Vakuum negativ beeinträchtigt wird. In
diesem Falle wird der Polarisator vorzugsweise auf der Strahlrohrinnenseite
des Prismensystems angebracht.
Je nach den geometrischen Gegebenheiten der Vakuumkammer kann es
notwendig sein, das Strahlrohr des Vakuumadapters mit einem möglichst
geringen Querschnitt oder gekrümmt auszuführen. Für diese Fälle sind im
Strahlrohr des Vakuumadapters vorteilhafterweise Umlenkprismen für die
Strahlführung vorgesehen.
Für die Qualität der Meßergebnisse ist die genaue Feststellung der
Probenposition in Bezug auf den Meßstrahl von Vorteil. Zu diesem Zweck
weist die in der erfindungsgemäßen Vorrichtung angeordnete Meßeinrichtung
neben einer Meßeinheit, die beispielsweise ein Ellipsometer, ein Reflektometer
oder FTIR-Spektrometer sein kann, auch eine Justiereinheit auf. Die
Justiereinheit besteht mindestens aus einer Lichtquelle und mindestens einem
positionsempfindlichen Detektor. Vorzugsweise wird als Lichtquelle ein
Justierlaser eingesetzt. Durch den Einsatz von beispielsweise Strahlteilern kann
auch eine ggf. in der Meßeinheit vorhandene Lichtquelle gleichzeitig für die
Justiereinheit genutzt werden. Die Strahlebene der Justiereinheit ist gegenüber
der Meßgeometrie der Meßeinheit parallel versetzt, so daß der Justierzustand
des Systems möglichst richtig wiedergegeben werden kann.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Justiereinheit eine
Triangulationsanordnung verwendet. Damit kann automatisch sowohl der
Probenabstand als auch die Verkippung gemessen werden. In diesem Fall
besteht die Justiereinheit aus einem Justierlaser, einem Strahlteiler und zwei
positionsempfindlichen Detektoren. Der Laserstrahl aus dem Justierlaser wird
mittels des Strahlteilers in zwei parallel versetzte Strahlen aufgespalten. Der
eine Strahl wird zur Feststellung des Probenabstandes genutzt. Bei Änderung
des Probenabstandes verschiebt sich der Auftreffpunkt auf der
Probenoberfläche und damit auch der Auftreffpunkt des reflektierten Strahls
auf einem der positionsempfindlichen Detektoren. Die Abweichung von
Sollwert kann elektronisch festgestellt werden und ggf. zur automatischen
Korrektur über die Stellmotoren benutzt werden. Zur Feststellung der
Probenverkippung wird der zweite Teilstrahl verwendet. Beim Verkippen der
Probe wandert dieser Strahl auf dem zweiten positionsempfindlichen Detektor,
was wiederum elektronisch festgestellt werden kann. Es kann eine mechanische
Korrektur der Probenverkippung erfolgen oder auch der Verkippungswinkel
quantitativ erfaßt werden und bei der Auswertung der Messung berücksichtigt
werden.
Für Untersuchungen, bei dem nicht nur ein sondern mehrere Punkte auf der
Probe vermessen werden müssen, hat es sich als vorteilhaft erwiesen,
rotierende Probentische zu verwenden. Zwischen zwei Messungen kann mittels
des Rotationstisches die Probe um einen bestimmten Winkel weitergedreht
werden. Vorzugsweise wird der Rotationstisch auf einem Lineartisch
angeordnet. Die Bewegungsrichtung des Lineartisches ist dabei in radialer
Richtung des Rotationstisches. Über die Kombination von Translations- und
Rotationsbewegungen kann dadurch eine noch größere Menge von Meßpunkten
auf der Probenoberfläche angefahren werden. Besonders platzsparend ist dabei
eine Variante, bei der nicht der Rotationstisch auf einem Lineartisch
angeordnet ist, sondern in einem gewissen Abstand von dem Rotationstisch
Umlenkprismen oder Spiegel derart angeordnet sind, daß sie in radialer
Richtung des Rotationstisches linear bewegbar sind. Durch Kombination der
Linearbewegungen der um den Prismen oder Spiegel und Rotationsbewegungen
des Rotationstisches können ebenso viele Meßpunkte angefahren werden wie in
der zuvor beschriebenen Ausführungsform.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist viele Vorteile auf. Dadurch, daß die
erfindungsgemäße Vorrichtung es erlaubt, die Messung in den
Herstellungsprozeß zu integrieren, in dem sie zwischen zwei Prozeßschritten
durchgeführt wird und selbst zu Justierzwecken nicht in die Funktionsweise der
Fertigungsanlage eingegriffen werden muß, wird einerseits erreicht, die Proben
äußerst prozeßnah zu vermessen und andererseits die Messung derart
durchzuführen, daß Fertigung und Messung sich nicht gegenseitig negativ
beeinflussen. Es ist nunmehr möglich, bei ungestörter Fertigung beliebige
Proben zu vermessen und dabei eine möglichst hohe Meßgenauigkeit zu
erreichen. Es entfallen kostenintensive Zwischenwege zwischen einzelnen
Prozeßschritten und der Messung und vor allem die langen Reaktionszeiten
zwischen der Detektion von Fertigungsfehlern und der Reaktion auf diese.
Dadurch, daß über den Vakuumadapter die Meßkonfiguration beziehungsweise
die Meßgeometrie von der Ausgestaltung der Meßeinrichtung abgekoppelt ist,
kann die Meßeinrichtung in Bezug auf höhere Meßgenauigkeit bei
kostengünstiger Ausgestaltung optimiert werden. Außerdem läßt sich die
gesamte Vorrichtung einfach an die in bereits vorhandenen Fertigungsanlagen
gegebenen Platzverhältnisse anpassen. Um bereits vorhandenen
Fertigungsanlagen aufzurüsten, genügt es, den Vakuumadapter durch eine
Öffnung in der jeweiligen Vakuumkammer in das Vakuum einzubringen.
Da sich die Meßeinrichtung nicht unter Vakuum befindet, können Wartungs-
und Umbauarbeiten an der Meßeinrichtung stattfinden, ohne daß die
Prozeßstraße oder die jeweilige Vakuumkammer belüftet werden müßte. Auch
der konstruktive Aufwand für die Meßeinrichtung verringert sich, da es nicht
nötig ist, vakuumtaugliche Komponenten wie beispielsweise
Kabeldurchführungen zu verwenden. Außerdem wird verhindert, daß
beispielsweise durch elektrische Komponenten das Volumen in der Proben-
bzw. Meßumgebung verschlechtert wird.
Angepaßt an den Fertigungsprozeß des jeweiligen Produktes können mehrere
erfindungsgemäße Vorrichtungen an diversen Stellen des Fertigungsprozesses
integriert werden. Da das Aufrüsten von Fertigungsanlagen mit der
erfindungsgemäßen Vorrichtung mit wenig Aufwand verbunden ist und die
erfindungsgemäße Vorrichtung selbst durch den einfachen Aufbau
kostengünstig ist, bietet sich die Möglichkeit, bei geringen Investitionskosten
ein umfassendes Qualitätskontrollsystem innerhalb des Fertigungsprozesses
einzurichten.
Die Erfindung soll anhand des Beispiels der ellipsometrischen Vermessung von
Waferoberflächen näher erläutert werden. Dazu zeigen die
Fig. 1a, 1b, 1c mögliche Positionen in der Vorrichtung innerhalb einer
Waferfertigunganlage,
Fig. 2a, 2b zwei mögliche Ausführungsformen der
erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 3a, 3b, 3c drei mögliche Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen
Vakuumadapters,
Fig. 4a, 4b eine Vorrichtung mit Justiereinheit und
Fig. 5a, 5b Vorrichtungen mit rotierendem Probentisch.
Fig. 1a zeigt eine Waferfertigungsanlage 1. Sie ist modular aus
Prozeßkammern 10, einer Schleusenkammer 11 und einer Transferkammer 13
aufgebaut. Derartige Waferfertigungsanlagen werden auch Clusteranlagen
genannt.
Die Wafer 6 werden durch die Schleusenkammer 11 in das Vakuum der
Clusteranlage 1 eingebracht. Mittels eines Roboters 14, der im wesentlichen
aus einem Roboterarm 15 besteht, der sich um die Roboterachse 16 dreht, und
in der Transferkammer 13 angeordnet ist, werden die Wafer 6 aus der
Schleusenkammer 11 in die verschiedenen Prozeßkammern 10 transportiert.
In Fig. 1a weist die Clusteranlage 1 außer den zwei Prozeßkammern 10 auch
eine Meßkammer 12 auf. An dieser Meßkammer 12 ist die erfindungsgemäße
Vorrichtung 2 angebracht. Dort wird der Wafer 6 vermessen, bevor er in einer
Prozeßkammer 10 beschichtet wird. Nach dem Beschichtungsschritt wird die
Messung wiederholt und durch die mittels der Vorrichtungskammer
durchgeführten Messungen die Schichtdicke und der Brechungsindex der
Schicht bestimmt. Anhand dieser Daten kann festgestellt werden, ob der
Beschichtungsprozeß korrekt abgelaufen ist. Nach der Messung wird der Wafer
6 vom Roboter 14 in die nächste Prozeßkammer 10 transportiert und der
Fertigungsprozeß fortgesetzt. Gegebenenfalls wird auch nach der im zweiten
Beschichtungsschritt der Wafer wieder in der Meßkammer 12 vermessen.
In den Fig. 1b und 1c sind zwei weitere Clusteranlagen 1 dargestellt. Diese
beiden Clusteranlagen 1 weisen drei Prozeßkammern 10 auf. Es ist also keine
separate Meßkammer für die Vermessung der Wafer 6 vorgesehen. In der
Fig. 1b ist die erfindungsgemäße Vorrichtung an der Schleusenkammer 11
angebracht. Die Wafer 6 werden beim Eintritt in die Clusteranlage 1
vermessen und nach Durchlaufen der drei Prozeßschritte, die in den drei
Prozeßkammern 10 ablaufen, erneut vermessen.
In Fig. 1c ist die dritte Möglichkeit der Positionierung der Vorrichtung 2
dargestellt. Hier ist die Vorrichtung 2 in der Transferkammer 13 angebracht.
Dort können die Wafer 6 nach Belieben vor bzw. nach jedem Prozeßschritt
vermessen werden.
Fig. 2a zeigt eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung. Die Herzstücke der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind der als
Vakuumadapter ausgebildete erste Gehäuseteil 21 und die Meßeinrichtung 34
im zweiten Gehäuseteil 20.
Die Meßeinrichtung 34 umfaßt eine Lichtquelle 30, eine Polarisatoreinheit 31
und eine Analysatoreinheit 32. Bei der Lichtquelle 30 handelt es sich um eine
Photodiode, die einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 635 nm erzeugt.
Sie bilden zusammen ein Ellipsometer, das auf der Ellipsometergrundplatte 33
angeordnet ist. Um das Ellipsometer ist der zweite Gehäuseteil 20 angeordnet.
An dem Gehäuseteil 20, genauer gesagt an die Ellipsometergrundplatte 33 ist
der Vakuumadapter 21 angeflanscht. Der Vakuumadapter 21 weist ein
Strahlrohr 40 auf, in dem der von der Lichtquelle 30 erzeugte Lichtstrahl
sowie der Meßstrahl 5 verlaufen. Den Übergang zwischen Meßeinrichtung 34
bzw. zweitem Gehäuseteil 20 und Vakuumadapter 21 bildet ein Vakuumfenster
42. Es ist für die Lichtstrahlen durchlässig, dichtet aber das Vakuum im ersten
Gehäuseteil 21 wirksam ab. Beide Gehäuseteile 20, 21 beinhalten jeweils
voneinander abgetrennte Kammern, wobei die Trennung durch das
Vakuumfenster 42 gewährleistet wird.
Am anderen Ende des Strahlrohres 40 ist ein als Prismensystem 41
ausgebildetes Meßfenster 45 angeordnet. Dies ist nicht vakuumdicht mit dem
Strahlrohr 40 verbunden, so daß innerhalb des Strahlrohres 40 das gleiche
Vakuum wie in der Vakuumkammer herrscht. Das Prismensystem 41 ist derart
ausgestaltet, daß sich ein Einfallswinkel zwischen 65° und 75° ergibt, der für
ellipsometrische Messungen am günstigsten ist.
Der die Meßeinrichtung 34 enthaltende Gehäuseteil 20 und der Vakuumadapter
21 sind über einen Faltenbalg 28 und einen Flansch 29 an der Deckplatte 24
der Vakuumkammer befestigt. Dabei umgibt der Flansch 28 den
Vakuumadapter 40 und steht senkrecht auf der Wand 24 der Vakuumkammer.
Durch den Faltenbalg 28 sind die Ellipsometergrundplatte 33 und die
Deckplatte 24 der Vakuumkammer voneinander mechanisch entkoppelt.
Schwingungen der Deckplatte 24 der Vakuumkammer werden nicht auf die
Ellipsometergrundplatte 33 übertragen. Daher wird die Messung nicht durch
etwaige Schwingungen verfälscht.
Zur Vermessung der Oberfläche eines Wafers 6 wird der Wafer 6 mittels der
Probenzuführung 17, die an einen Roboter angeschlossen ist, unter das
Prismensystem 41 des Vakuumadapters 21 der Vorrichtung geschoben. Die
Probenzuführung 17 ist derart ausgebildet, daß die Oberfläche des Wafers 6
über die gesamte Oberfläche abgescannt werden kann.
Bei der in Fig. 2 dargestellten Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung wird vor der Messung die Höhe der Vorrichtung relativ zur
Waferoberfläche eingestellt. Zu diesem Zweck sind auf beiden Seiten der
Meßeinrichtung 34 ein Motor 25 mit Spindeltrieb vorgesehen. In einer nicht
dargestellten Ausführungsform der Vorrichtung weist die Meßeinrichtung 20
eine weitere Lichtquelle und einen weiteren Detektor auf, mit der die Position
der Waferoberfläche relativ zur Meßeinrichtung 20 gemessen wird. Im in
Fig. 2a dargestellten Fall wird die Soll-Position dadurch festgelegt, daß der
Meßstrahl 5 auf eine bestimmte Stelle der detektierenden Fläche des Detektors 4
32 trifft und dort ein Intensitätsmaximum vorliegt.
Um das Höhenverstellen kräftefrei zu gestalten, ist über dem Gehäuseteil 20
(der Meßeinrichtung 34) ein weiterer Faltenbalg 28 angeordnet, der mittels
eines Flansches 29 mit einer Deckplatte 22 verbunden ist. Die Deckplatte 22
liegt auf Stützen 23 auf. Zusammen mit der Deckplatte des Gehäuseteils 20
bilden die Deckplatte 22 und der Faltenbalg 28 eine Unterdruckkammer 39 mit
variablen Volumen.
Die Unterdruckkammer 39 ist über Vakuumanschlüsse 27 und eine
Vakuumverbindung 26 mit der Vakuumkammer in der Clusteranlage
verbunden. Dadurch herrscht in der Unterdruckkammer 39 das gleiche
Vakuum wie in der Vakuumkammer. Der Unterdruck in der Kammer 39 mit
variablen Volumen wirkt dem Unterdruck entgegen, der von der
Vakuumkammer aus auf den Vakuumadapter 21 und den die Meßeinrichtung
34 enthaltenden Gehäuseteil 20 wirkt. Daher müssen die Motoren 25 weniger
Kraft aufbringen, um die Höhe der Meßeinrichtung 34 und des
Vakuumadapters 21 zu verstellen. Während des Verstehens wird das Volumen
der Unterdruckkammer 39 verändert und findet über die Vakuumverbindung
26 automatisch ein Druckausgleich statt. Dadurch wird gewährleistet, daß sich
die Vorrichtung immer im Zustand minimaler oder verschwindender Kräfte
befindet.
Die Motoren 25 wie auch die Meßeinrichtung 34 befinden sich nicht im
Vakuum. Es können also ganz normale Komponenten verwendet werden, die
nicht vakuumtauglich sein müssen. Sie können auch keinen negativen Einfluß
auf das Vakuum in der Proben- oder Meßumgebung ausführen. Falls an der
Meßeinrichtung 34 oder den Motoren 25 irgendetwas verändert oder umgestellt
werden muß, kann dies geschehen, ohne daß Vakuumkammern belüftet werden
müßten. Der Fertigungsprozeß kann daher ungestört weitergehen.
In Fig. 2b ist eine Abwandlung der Ausführungsform aus Fig. 2a
dargestellt. Statt nur eines Vakuumfensters 42 weist der Vakuumadapter 21
zwei Vakuumfenster 42a und b auf. Durch das Vakuumfenster 42a tritt der
einfallende Strahl von der Meßeinrichtung 34 in den Vakuumadapter 23 ein,
durch das Vakuumfenster 42b tritt der Meßstrahl 5 von dem Vakuumadapter in
die Meßeinrichtung 34 ein. Da die Fensterflächen kleiner sind, sind die durch
den Unterdruck entstehenden Kräfte auf die Fenster kleiner und folglich
entstehen geringere mechanische Spannungen im Glas, welche die
Meßergebnisse verfälschen würden.
In Fig. 3a ist das in die Vakuumkammer hineinragende Ende des
erfindungsgemäßen Vakuumadapters 21 dargestellt. Am Ende des Strahlrohres
40 ist ein Prismensystem 41 eingebracht, das den Strahl auf einen
Einfallswinkel von etwa 70° umlenkt. Nach Reflektion an der Oberfläche des
Wafers 6 wird durch das Prismensystem 41 der Meßstrahl 5 senkrecht nach
oben gelenkt.
Der für das Ellipsometer erforderliche Eingangspolarisator 43 kann an
verschiedenen Stellen des Systems angebracht werden. In Fig. 2a befindet er
sich in der Polarisatoreinheit 31. In Fig. 3a ist er dagegen auf der
Strahlrohrinnenseite angebracht. Der Strahl wird also unmittelbar vor dem
Durchgang durch das Prismensystem 41 polarisiert. Dadurch wird verhindert,
daß beim Durchgang durch das Vakuumfenster die Polarisation des Strahles zu
stark modifiziert wird. Beim Durchgang durch das Prismensystem 41 kann die
Polarisation des Strahls auch etwas verändert werden, insbesondere wenn
innerhalb des Prismensystems irgendwelche Spannungen auftreten.
Daher ist in Fig. 3b der Polarisator auf der Strahlrohraußenseite des
Prismensystems 41 angebracht und polarisiert den Strahl unmittelbar vor dem
Auftreffen auf die Oberfläche des Wafers 6. Dabei können allerdings vor allem
im Hochvakuum Probleme auftreten, wenn es sich bei den Polarisator 43 um
eine Polarisationsfolie handelt oder der Polarisator 43 aufgeklebt wurde. Denn
in diesem Falle können Ausgasungen auftreten, die das Vakuum
beeinträchtigen. Es können auch Partikel entstehen, die sich auf der
Waferoberfläche ablagern und damit den Wafer unbrauchbar machen. Wo der
Polarisator angeordnet werden soll, muß also je nach Anwendungsfall
entschieden werden.
In dem Vakuumadapter, der in Fig. 3c dargestellt ist, ist vor dem
Prismensystem 41 ein weiteres Prismensystem 44 angeordnet, das dazu dient,
die enge Strahlführung innerhalb des Strahlrohres 40 des Vakuumadapters 21
derart aufzuweiten, daß an der Probenoberfläche eine ideale Meßgeometrie
erreicht wird. Umlenkprismen 44 können auch eingesetzt werden, wenn
innerhalb des Strahlrohres 40 die Strahlen um eine Ecke gelenkt werden
müssen.
Für die Qualität der Meßergebnisse ist die genaue Feststellung der
Probenposition in Bezug auf den Strahl erforderlich, und zwar im Bezug auf
den Probenabstand und die Probenkippung. Zur automatischen Feststellung von
Probenabstand und -verkippung wird eine Triangulationsanordnung wie in
Fig. 4a beschrieben vorgeschlagen. Die Strahlebene der Justiereinheit 53 ist
gegenüber der Strahlebene der Meßeinheit 52 parallel versetzt (Fig. 4b,
seitliche Ansicht der Anordnung aus Fig. 4a), so daß beide Strahlen das
Prisma in gleicher Weise durchqueren. Dadurch ist gewährleistet, daß die
Lagesensorstrahlen 50, 51 den Justierzustand des Systems immer richtig
wiedergeben.
Die Meßeinheit besteht im Fall einer ellipsometrischen Anordnung aus der
Lichtquelle 30, Polarisatoreinheit 31 und der Analysatoreinheit 32 in Fig. 2b.
Die Meßeinheit kann aber auch an einem Reflektormeter oder einem FTIR-
Spektrometer bestehen.
Die Justiereinheit besteht aus dem Justierlaser 48, dem Strahlteiler 49 und den
beiden positionsempfindlichen Detektoren 46 und 47. Der Strahl aus dem
Justierlaser 48 wird mittels Strahlteiler 49 in zwei parallel versetzte Strahlen
aufgespalten. Ein Strahl 50 durchquert den Prismenblock 45 und berührt dabei
die Probe unter demselben Winkel wie der Meßstrahl und trifft dann auf einen
positionsempfindlichen Detektor 46. Bei Änderung des Proben-Prismenabstands
verschiebt sich der Auftreffpunkt auf der Probenoberfläche lateral und damit
auch der Auftreffpunkt des Strahls auf dem positionsempfindlichen Detektor
46. Die Abweichung vom Sollwert kann somit elektronisch festgestellt werden
und ggf. zur automatischen Korrektur über dei Stellmotoren 25 benutzt
werden.
Zur Feststellung der Verkippung wird der zweite Teilstrahl 51 verwendet. Er
wird quasi senkrecht durch das Prisma 45 auf die Probenoberfläche geleitet
und von dort auf den zweiten positionsempfindlichen Detektor 47 gerichtet. Bei
Verkippung der Probe wandert der Strahl auf dem positionsempfindlichen
Detektor 47, was wiederum elektronisch festgestellt werden kann. Eine
mechanische Korrektur der festgestellten Verkippung ist sehr aufwendig.
Einfacher ist es, aus der bekannten Geometrie der Anordnung die
Verkippungswinkel quantitativ zu erfassen und rechnerisch bei der Auswertung
der ellipsometrischen Messung zu berücksichtigen.
Fig. 5a zeigt einen Ausschnitt aus einer weiteren bevorzugten
Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung. Als Meßeinheit ist ein
Infrarotspektrometer 58 eingesetzt. Daran schließt sich ein Vakuumadapter 1
an, der mit einem Vakuumfenster 42 versehen ist, das durchlässig für
Infrarotstrahlung ist. Der Meßstrahl S wird derart in den Vakuumadapter
gelenkt, daß er unter einem sehr kleinen Einfallswinkel auf der Oberfläche der
Probe 6 aufkommt. Die Probe 6 ist auf einem Probentisch abgelegt, der als
Rotationstisch 54 ausgebildet ist. Der Rotationstisch 54 seinerseits ist auf
einem Lineartisch 55 angeordnet. Die Bewegungsrichtung des Lineartisches 55
ist radial zur Rotationsachse des Rotationstisches 54. Der Rotationstisch 54 und
der Lineartisch 55 sind so dimensioniert, daß über eine Kombination von
Rotations- und Translationsbewegungenn der beiden Tische 54, 55 jeder
beliebige Punkt auf der Oberfläche der Probe 6 so unter dem Vakuumadapter
21 positioniert werden kann, daß er von dem Meßstrahl getroffen wird.
Der in Fig. 5b gezeigte Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
weist ebenfalls einen Rotationstisch 54 als Probentisch für die Probe 6 auf.
Allerdings ist in diesem Falle der Rotationstisch 54 nicht auf einem Lineartisch
55 angeordnet. Sowohl im Strahlrohr 40 als auch außerhalb sind
Umlenkspiegel 56 zur Strahlführung vorgesehen. Die außerhalb des
Strahlrohres 40 befindlichen Umlenkspiegel 56 sind auf einem Umlenkblock 59
befestigt, der seinerseits mit einem linearen Motor 57 verbunden ist. Die
Bewegungsrichtung des Linearmotors 57 ist radial zur Drehachse des
Rotationstisches 54. Über den Linearmotor 57 wird der Umlenkblock 59 und
damit auch die Umlenkspiegel 56 radial zur Probenoberfläche bewegt. Dadurch
ändert sich auch der Auftreffpunkt des Meßstrahles 5 auf der Oberfläche der
Probe 6. Durch die Kombination von Rotationsbewegung der Probe und
translatorischen Bewegungen des Meßstrahls wird erreicht, daß jeder Punkt auf
der Oberfläche der Probe 6 vermessen werden kann.
1
Clusteranlage
2
Vorrichtung
5
Meßstrahl
6
Wafer
10
Prozeßkammer
11
Schleusenkammer
12
Meßkammer
13
Transferkammer
14
Roboter
15
Roboterarm
16
Roboterachse
17
Probenzuführung
20
zweiter Gehäuseteil
21
Vakuumadapter
22
Deckplatte der Vorrichtung
23
Stützen
24
Deckplatte in der Vakuumkammer
25
Schrittmotor mit Spindeltrieb
26
Vakuumverbindung
27
Vakuumanschluß
28
Faltenbalg
29
Flansch
30
Lichtquelle
31
Polarisatoreinheit
32
Analysatoreinheit
33
Ellipsometergrundplatte
34
Meßeinrichtung
39
Unterdruckkammer
40
Strahlrohr
41
Prismensystem
42
Vakuumfenster
43
Polarisator
44
Umlenkprisma
45
Meßfenster
46
positionsempfindlicher Detektor zur Bestimmung der Probenhöhe
47
positionsempfindlicher Detektor zur Bestimmung der Probenverkippung
48
Justierlaser
49
Strahlteiler
50
Justagestrahl zur Bestimmung der Probenhöhe
51
Justagestrahl zur Bestimmung der Probenverkippung
52
Justiereinheit
53
Meßeinheit
54
Rotationstisch
55
Lineartisch
56
Umlenkkspiegel
57
Linearmotor
58
IR-Spektrometer
59
Umlenkblock
Claims (21)
1. Vorrichtung zur Durchführung von Messungen in einer
Vakuumkammer, insbesondere zur Messung von dünnen Schichten, mit
einem mindestens ein Meßfenster aufweisenden Gehäuse zur Aufnahme
einer Meßeinrichtung, gekennzeichnet durch
ein zweiteiliges Gehäuse mit einem in die Vakuumkammer (11, 12, 13) ragenden erste Gehäuseteil (21) und einem sich außerhalb der Vakuumkammer (11, 12, 13) befindlichen zweiten Gehäuseteil (20),
Mittel (28, 29) zur abdichtenden und beweglichen Anordnung des Gehäuses (20, 21) in der Wand der Vakuumkammer (11, 12, 13),
einer am Gehäuse (20, 21) angreifenden Verstelleinrichtung (25) und
einer am zweiten Gehäuseteil (20) angreifenden Gegenzugeinrichtung (39).
ein zweiteiliges Gehäuse mit einem in die Vakuumkammer (11, 12, 13) ragenden erste Gehäuseteil (21) und einem sich außerhalb der Vakuumkammer (11, 12, 13) befindlichen zweiten Gehäuseteil (20),
Mittel (28, 29) zur abdichtenden und beweglichen Anordnung des Gehäuses (20, 21) in der Wand der Vakuumkammer (11, 12, 13),
einer am Gehäuse (20, 21) angreifenden Verstelleinrichtung (25) und
einer am zweiten Gehäuseteil (20) angreifenden Gegenzugeinrichtung (39).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel
(28, 29) zur abdichtenden und beweglichen Anordnung des Gehäuses
(20, 21) einen sich auf der Außenseite der Wand der Vakuumkammer
(11, 12, 13) abstützenden Faltenbalg (28) umfassen.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Gegenzugeinrichtung eine an das zweite Gehäuseteil (20) angrenzende
Unterdruckkammer (39) ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Unterdruckkammer (39) druckmäßig mit der Vakuumkammer
(11, 12, 13) verbunden ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Leistung der Verstelleinrichtung (25) auf das Gewicht von Gehäuse
(20, 21) und Meßeinrichtung (34) ausgelegt ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (34) im zweiten Gehäuseteil
(20) angeordnet ist, der vom ersten Gehäuseteil (21) druckmäßig
getrennt ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß der erste Gehäuseteil (21) ein Vakuumadapter (21)
ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (34) aus mindestens einer
Lichtquelle (30) oder Lichtzuführung und mindestens einem Detektor
(32) besteht.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der erste
Gehäuseteil als Vakuumadapter (21) ausgebildet ist und ein
gemeinsames Strahlrohr (40) für mindestens einen eintretenden und
mindestens einen austretenden Strahl (5) aufweist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das
Meßfenster (45) ein Prismen- und/oder Linsensystem (41) umfaßt.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß der
Vakuumadapter (21) an dem der Meßeinrichtung (34) zugewandten
Ende des Strahlrohrs (40) mit mindestens einem Vakuumfenster (42)
abschließt.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß auf der
Strahlrohrinnen- oder Strahlrohraußenseite des Prismensystems (41) des
Vakuumadapters (21) ein Polarisator (43) angebracht ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß im Strahlrohr (40) des Vakuumadapters (21)
Umlenkprismen (44) oder Spiegel (56) zur Strahlführung innerhalb des
Vakuumadapters (21) angeordnet sind.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (34) eine Meßeinheit (53) und
eine Justiereinheit (52) aus mindestens einer Lichtquelle (48) und
mindestens einem positionsempfindlichen Detektor (46, 47) aufweist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die
Justiereinheit (52) einen Justierlaser (48), einen Strahlteiler (49) und
zwei positionsempfindlichen Detektoren (46, 47) aufweist.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß sie als Probentisch einen Rotationstisch (54)
aufweist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der
Rotationstisch (54) auf einem Lineartisch (55) angeordnet ist, dessen
Bewegungsrichtung radial zum Rotationstisch (54) verläuft.
18. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß
beabstandet von dem Rotationstisch (54) Umlenkprismen (44) oder
Spiegel (56) deart angeordnet sind, daß sie in radialer Richtung des
Rotationstisches (54) linear bewegbar sind.
19. Vakuumadapter für Vorrichtungen zur Durchführung optischer
Messungen in einer Vakuumkammer, der ein gemeinsames Strahlrohr
(40) für mindestens einen eintretenden und einen austretenden Strahl (5)
aufweist, das an einer Seite mit mindestens einem Vakuumfenster (42)
und auf der anderen Seite mit einem Prismen- und/oder Linsensystem
(41) abschließt und der Mittel (29) zur Befestigung an der Vorrichtung
aufweist.
20. Vakuumadapter nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß auf
der Strahlrohrinnen- oder Strahlrohraußenseite des Prismensystems (41)
ein Polarisator (43) angebracht ist.
21. Vakuumadapter nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet,
daß im Strahlrohr (40) zusätzliche Umlenkprismen (44) angeordnet
sind.
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