DE10036809A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung und/oder Behandlung von Oberflächen - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung und/oder Behandlung von OberflächenInfo
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Abstract
Es wird eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Reinigung und/oder Behandlung von Oberflächen eines Gegenstandes beschrieben, die eine Arbeitskammer (10, 40, 42) zur Aufnahme des Gegenstandes und ein Mittel (34) zur Erzeugung eines Plasmas in der Arbeitskammer (10, 42) verwenden. Die Arbeitskammer (10, 40) beinhaltet ein weiteres Mittel (21, 22, 24), über das der Arbeitskammer (10, 40) ein Lösungsmittel zuführbar ist.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Ver
fahren zur Reinigung und/oder Behandlung von Oberflächen ei
nes Gegenstandes nach dem Oberbegriff der unabhängigen An
sprüche.
Es ist bekannt, die Oberflächen von Gegenständen durch Spü
lung mit einem Lösungsmittel zu reinigen. Dabei können so
wohl wäßrige Reinigungslösungen unter Zusatz eines entspre
chenden Neutralreinigers oder auch nichtwässrige Reiniger
wie beispielsweise das von der Dow Chemical Company vertrie
bene Dowclene zum Einsatz kommen. Eine Modifizierung der
Oberflächen ist mit diesen Anlagen nicht möglich.
Aus der US-PS 5,773,360 ist bekannt, die Oberfläche eines
Gegenstandes einem Plasma auszusetzen, wobei diese Methode
sowohl zur Reinigung wie auch zur Modifizierung der Oberflä
chen dient; die Reinigungswirkung eines Plasmas ist jedoch
auf den Abtrag dünner und homogener Schichten beschränkt. Um
auch Verunreinigungen größerer Schichtdicke abtragen zu kön
nen, wird ein vorgeschalteter CMP-Prozeß (Chemical-
Mechanical Polishing) vorgeschlagen, bei dem es allerdings
zu einer Schädigung einer empfindlichen Oberfläche kommen
kann.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung und
ein Verfahren bereitzustellen, die eine schonende Reinigung,
Feinreinigung und/oder Modifizierung der Oberflächen auch stär
ker verschmutzter Gegenstände gestatten.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung bzw. das erfindungsgemäße
Verfahren haben den Vorteil, daß eine schonende Reinigung,
Feinreinigung und/oder Modifizierung der Oberflächen eines
Gegenstandes mittels ein und derselben Vorrichtung ermög
licht wird. Dies wird durch die Kombination einer Reini
gungseinheit mit einer plasmaerzeugenden Einheit erreicht,
wobei die Reinigungseinheit ein Mittel für die Zufuhr eines
Lösungsmittels umfaßt und eine Oberflächenreinigung mit Lö
sungsmitteln ermöglicht. Die plasmaerzeugende Einheit umfaßt
ein Mittel zur Erzeugung eines Plasmas und dient der Fein
reinigung und Modifizierung der Oberflächen.
Mit den in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind
vorteilhafte Weiterbildungen möglich.
So kann sowohl das Mittel für die Zufuhr des Lösungsmittels
als auch das plasmaerzeugende Mittel in ein und derselben
Arbeitskammer angeordnet sein, in der sich der zu reinigende
Gegenstand befindet. Die Reinigung mit einem Lösungsmittel
sowie die Plasmabehandlung werden nacheinander ausgeführt.
Andererseits können das Mittel für die Zufuhr des Lösungs
mittels und das plasmaerzeugende Mittel auch in zwei ver
schiedenen Arbeitskammern derselben Vorrichtung angebracht
sein, wobei die Arbeitskammern durch eine Schleuse miteinan
der verbunden sind. Da die Spülung mit einem Lösungsmittel
und die Plasmabehandlung bei unterschiedlichen Luftdrücken
durchgeführt werden, entfällt dabei gegenüber der ersten Va
riante eine Evakuierung der Arbeitskammer zwischen Lösungs
mittelreinigung und Plasmabehandlung.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Spülung mit einem Lö
sungsmittel unter Ultraschalleinwirkung durchgeführt wird,
da die Reinigungswirkung so um ein Vielfaches höher ist.
Zwei Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeich
nung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher
erläutert. Fig. 1 zeigt schematisch eine Vorrichtung mit
einer Arbeitskammer gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel
und Fig. 2 eine Vorrichtung mit zwei Arbeitskammern gemäß
einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung.
In Fig. 1 ist schematisch ein erstes Ausführungsbeispiel
der erfindungsgemäßen Vorrichtung dargestellt. Diese enthält
eine Arbeitskammer 10, in die ein Gegenstand, dessen Ober
flächen behandelt werden sollen, eingebracht werden kann.
Die Arbeitskammer 10 kann dazu eine oder mehrere, hier nicht
dargestellte Beladungsöffnungen sowie Halterungen, Drehtel
ler oder andere dem Fachmann geläufige Mittel zur Befestigung
des Gegenstandes aufweisen. Um der Arbeitskammer 10 ein
Lösungsmittel zuführen zu können, enthält die Vorrichtung
einen Vorratsbehälter 12, der über eine nicht dargestellte
Befülleinheit mit Lösungsmittel versorgt werden kann und der
über eine Rohr- oder Schlauchverbindung 21 mit der Arbeits
kammer 10 in Kontakt steht. Um das Lösungsmittel unter Druck
der Arbeitskammer 10 zuzuführen, kann in der Rohr- oder
Schlauchverbindung 21 eine Pumpe 14a vorgesehen sein.
Die Vorrichtung weist darüber hinaus eine zweite Rohr- oder
Schlauchverbindung 22 auf, über die der Arbeitskammer 10
entnommenes Lösungsmittel mittels eines Filters 16 gereinigt
und unter Druck der Arbeitskammer 10 wieder zugeführt wird.
Die Rohr- oder Schlauchverbindung 22 enthält dazu eine zwei
te Pumpe 14b.
Des weiteren umfaßt die Vorrichtung beispielsweise eine De
stillationsvorrichtung 18, die der Reinigung des in der Ar
beitskammer 10 befindlichen Lösungsmittels dient. Über die
Destillation werden außer Schmutzpartikel auch organische
Verunreinigungen wie Fette und Öle abgetrennt und als De
stillationssumpf entfernt. Das verunreinigte Lösungsmittel
gelangt über eine dritte Rohr- oder Schlauchverbindung 23,
die eine dritte Pumpe 14c beinhaltet, in die Vorlage 18a der
Destillationsvorrichtung 18 und wird verdampft. Das gerei
nigte Lösungsmittel kann in gasförmiger oder kondensierter
Form der Arbeitskammer 10 über eine vierte Rohr- oder
Schlauchverbindung 24 zugeführt oder über eine fünfte Rohr-
oder Schlauchverbindung 25 in kondensierter Form in den Vor
ratsbehälter 12 transferiert werden.
Um eine gleichmäßige Druckverteilung innerhalb der funktio
nellen Komponenten und der Rohr- oder Schlauchverbindungen
der Vorrichtung zu erzielen, weist die Vorrichtung eine oder
mehrere nicht dargestellte, einen Unterdruck erzeugende Einheiten
wie beispielsweise Vakuumpumpen auf, die über sechste
Rohr- oder Schlauchverbindungen 26, 26a, 26b, 26c beispiels
weise mit dem Vorratsbehälter 12, der Destillationsvorrich
tung 18 und/oder der Arbeitskammer 10 verbunden sind. Dabei
werden zwangsläufig mit der Abluft auch Lösungsmitteldämpfe
abgezogen, die je nach Lösungsmittel nicht in die Umwelt ge
langen dürfen. Diese werden in einer der Unterdruck erzeu
genden Einheit vorgeschalteten, in die Rohr- oder Schlauch
verbindung 26 integrierten Tieftemperatureinheit 30 bei ei
ner tiefen Temperatur von vorzugsweise -20°C auskondensiert.
Über eine siebte Rohr- oder Schlaucheinheit 27, die einen
Auffangbehälter 32 für das Kondensat enthalten kann, wird
das abgetrennte Lösungsmittel der Destillationsvorrichtung
18 zugeführt.
Um eine Plasmabehandlung der Oberflächen eines Gegenstandes
in der Arbeitskammer 10 zu ermöglichen, enthält diese eine
Hochfrequenzantenne 34, mit deren Hilfe eine Ionisierung der
in der Kammer befindlichen Gase ermöglicht wird. Die Hoch
frequenzantenne 34 kann Strahlung einer Frequenz im Kilo
hertz-, Megahertz- oder Gigahertzbereich erzeugen, wobei die
Hochfrequenzantenne 34 beim Betrieb im Kilohertz- bzw Mega
hertzbereich innerhalb der Arbeitskammer 10 angeordnet ist,
dagegen bei Betrieb im Gigahertzbereich außerhalb der Ar
beitskammer 10. Die Arbeitskammer weist dann ein für die
hochfrequente Strahlung durchlässiges, hier nicht darge
stelltes Quarzfenster auf.
Die Behandlung des Gegenstandes erfolgt in der Arbeitskammer
10, in die der Gegenstand zunächst eingebracht und fest ver
ankert wird. Daraufhin erfolgt eine Reinigung mit einem oder
mehreren Lösungsmitteln, die entweder druckunterstützt über
die Rohr- oder Schlauchverbindung 22 mit einem Druck von bis
zu 15 bar erfolgt oder über die Zufuhr von Lösungsmittel
dampf über die Rohr- oder Schlauchverbindung 24. Die Spülung
mit einem Lösungsmittel wird über einen Zeitraum von 2 bis
12 Minuten ausgeführt; ihr kann eine vorzugsweise einminüti
ge Dampfentfettung mit Lösungsmitteldampf nachgeschaltet
werden.
Als Lösungsmittel eigenen sich vor allem Isoparaffine und
Alkoxyalkohole, jedoch auch sonstige Kohlenwasserstoffgemi
sche, Glycolether, Polyglycole, Pflanzenölester, Terpene,
oder N-Methylpyrrolidon. Auch wäßrige Reinigungssysteme mit
einem in Wasser gelösten Reiniger sind denkbar. Hier ist je
doch die Aufarbeitung der verunreinigten Reinigungslösung
mittels Destillation unvorteilhaft, da dabei der Reiniger
abgetrennt wird. Darüber hinaus sind auch Kombinationen von
wässrigen Medien und Lösungsmitteln möglich.
Die Spülung mit einem Lösungsmittel wird bei einem verrin
gerten Innendruck von 50 bis 120 mbar durchgeführt, um bei
Verwendung organischer Lösungsmittel die Gefahr einer Ver
puffung zu minimieren. Darüber hinaus wird so die Siedetem
peratur der verwendeten Lösungsmittel deutlich gesenkt und
die Redestillation des Lösungsmittels ist wirtschaftlich
ausführbar. Während der Spülung mit einem Lösungsmittel wird
in der Kammer je nach Lösungsmittel eine Temperatur von 60
bis 150°C eingestellt. Die Beheizung erfolgt aus Sicher
heitsgründen indirekt beispielsweise mittels Heißwasser oder
durch einen keramischen Heizer.
Es können beliebige Gegenstände, deren Geometrie von der
räumlichen Auslegung der Arbeitskammer 10 abhängt, mit be
liebiger Oberflächenausgestaltung hinsichtlich Material und
Profil behandelt werden. Auch Werkstücke mit engen Vertie
fungen und schwierigen Geometrien sind so effektiv zu reini
gen.
Der mittels der Spülung mit Lösungsmittel vorbehandelte und
gereinigte Gegenstand wird zunächst über eine Absenkung des
Innendrucks der Arbeitskammer 10 getrocknet, alternativ kann
die Trocknung auch durch eine zusätzliche Spülung der Ar
beitskammer 10 mit einem trockenen Gasstrom erfolgen.
Der getrocknete Gegenstand wird in derselben Arbeitskammer
10 einer Plasmabehandlung für 5 bis 20 Minuten bei einem In
nendruck von 0.01 bis 1 mbar unterzogen. Die Plasmabehand
lung ermöglicht eine Feinreinigung des Gegenstandes und dar
über hinaus eine Modifizierung seiner Oberflächen. So kann
durch eine Zufuhr von Sauerstoff in die Arbeitskammer 10
nicht nur ein effektiver Abtrag aller organischer Verunrei
nigungen bewirkt werden, sondern darüber hinaus eine Passi
vierung beispielsweise einer Metalloberfläche durch Bildung
der entsprechenden Metalloxide. Dies stellt im Falle von Ge
genständen aus Aluminium oder Silizium einen effektiven Kor
rosionsschutz dar. Wird Wasserstoff verwendet, so kann eine
Reduktion von oxidischen Verunreinigungen auf den Oberflä
chen des Gegenstandes erreicht werden. Eine weitere Möglich
keit stellt die Zufuhr gasförmiger Monomere für eine Polyme
risation dar, da unter der ionisierenden Wirkung der Strah
lung eine radikalische Polymerisation auf den Oberflächen
stattfindet. So führt beispielsweise die Zufuhr von
Hexafluorethan zu einer Polymerschicht auf den zu behandeln
den Oberflächen und somit zu einem sehr wirkungsvollen Ver
schleißschutz. Auch eine Kombination verschiedener Gase in
nerhalb eines oder mehrerer Prozeßschritte ist denkbar.
In Fig. 2 ist ein zweites Ausführungsbeispiel der Vorrich
tung dargestellt, wobei die Bezugszeichen der bereits im er
sten Ausführungsbeispiel beschriebenen Komponenten beibehal
ten werden.
Die in Fig. 2 dargestellte Vorrichtung weist zwei Arbeits
kammern 40, 42 auf, wobei die eine Arbeitskammer 40 die
Rohr- oder Schlauchverbindungen 21, 22, 24 für die Zufuhr
eines Lösungsmittels aufweist und die andere Arbeitskammer
42 die Hochfrequenzantenne 34. Dies ermöglicht eine Entkopp
lung von Lösungsmittel- und Plasmabehandlung des Gegenstan
des. Die Arbeitskammern 40, 42 sind durch eine Schleuse 44
miteinander verbunden, die einen Transfer des Gegenstandes
von der Arbeitskammer 40 in die Arbeitskammer 42 auch bei
voneinander abweichenden Innendrücken der Arbeitskammern 40,
42 ermöglicht.
Die Arbeitskammer 42 kann eine achte Rohr- oder Schlauchver
bindung 28 aufweisen, die eine separate Entlüftung und die
Einstellung eines niedrigen Innendrucks von 0.01 bis 1 mbar
in der Arbeitskammer 42 zuläßt. Der Vorteil dieser Ausfüh
rungsform ist darin zu sehen, daß das in beiden Arbeitskam
mern unterschiedliche Druckniveau dauerhaft gehalten werden
kann und die Taktzeit für die Behandlung eines Gegenstandes
durch das Wegfallen einer Evakuierung der Arbeitskammer nach
der Spülung mit einem Lösungsmittel und vor der Plasmabe
handlung verkürzt wird.
Die Erfindung ist nicht auf das beschriebene Ausführungsbei
spiel beschränkt, sondern es sind je nach Verwendungszweck
neben den beschriebenen auch weitere Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung denkbar. So kann beispielsweise eine
kontinuierliche Beschickung der Arbeitskammern 40, 42 vorge
sehen sein. Des weiteren kann auch eine Anwendung von
Normaldruckplasmaverfahren zum Einsatz kommen.
Bei der Verwendung mehrerer Lösungsmittel bzw. wässriger
Reinigungsmedien zur Lösungsmittelbehandlung eines Gegen
standes kann beispielsweise für jedes Agens ein separater
Vorratstank, ein Filter und/oder eine Destillationsvorrichtung
vorgesehen sein, die über entsprechende Rohr- oder
Schlauchverbindungen mit der Arbeitskammer verbunden sind.
Claims (13)
1. Vorrichtung zur Reinigung und/oder Behandlung von
Oberflächen eines Gegenstandes bei Unterdruck, mit wenig
stens einer Arbeitskammer zur Aufnahme des Gegenstandes und
mit Mitteln zur Erzeugung eines Plasmas in der Arbeitskam
mer, dadurch gekennzeichnet, daß ein weiteres Mittel (21,
22, 24) vorgesehen ist, über das der Arbeitskammer (10, 40)
ein Lösungsmittel zuführbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß durch das weitere Mittel (21) der Arbeitskammer (10, 40)
ein Lösungsmittel aus einem Vorratstank (12) zuführbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß durch das weitere Mittel (22) der Arbeitskam
mer (40) entnommenes und mittels eines Filters (16) gerei
nigtes Lösungsmittel der Arbeitskammer (10, 40) zuführbar
ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß durch das weitere Mittel (24) der Ar
beitskammer (10, 40) entnommenes und mittels einer Destillationsvorrichtung
(18) gereinigtes Lösungsmittel der Arbeits
kammer (10, 40) zuführbar ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel der Arbeitskammer (10,
40) gasförmig zuführbar ist.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß zwei Arbeitskammern (40, 42)
vorgesehen sind, wobei sich in der einen Arbeitskammer (42)
die Mittel zur Erzeugung eines Plasmas befinden und die wei
tere Arbeitskammer (40) das weitere Mittel (21, 22, 24) auf
weist, und daß beide Arbeitskammern (40, 42) über eine
Schleuse (44) miteinander verbunden sind.
7. Verfahren zur Reinigung und/oder Behandlung von Ober
flächen eines Gegenstandes, insbesondere mittels einer Vor
richtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Gegenstand zunächst einer Arbeitskammer
(10, 40) der Vorrichtung zugeführt wird, dann einer Spülung
mit Lösungsmittel unterzogen und getrocknet wird, und daß
der Gegenstand anschließend innerhalb der Vorrichtung einer
Plasmabehandlung unterzogen wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spülung mit Lösungsmittel und die Plasmabehandlung
nacheinander in derselben Arbeitskammer (10) durchgeführt
werden.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß zunächst die Spülung mit Lösungsmittel in einer ersten
Arbeitskammer (40) durchgeführt wird und der Gegenstand an
schließend über eine Schleuse (44) einer weiteren Arbeits
kammer (42) zugeführt und der Plasmabehandlung unterzogen
wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel ein Kohlenwasserstoff
gemisch, ein Glycolether, ein Polyglycol, ein Pflanzenöl
ester, ein Terpen, N-Methylpyrrolidon oder ein Alkoxyalkohol
ist.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Spülung mit Lösungsmittel für 5 bis 10 Mi
nuten bei einem Druck von 0.05 bis 0.5 bar, insbesondere bei 0.1 bar
durchgeführt wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch ge
kennzeichnet, daß während der Spülung mit Lösungsmittel eine Be
handlung mit Ultraschall erfolgt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Plasmabehandlung für 5 bis 20 Minuten bei
einem Druck von 1 . 10-5 bis 1 . 10-3 bar durchgeführt wird.
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DE2000136809 DE10036809B4 (de) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung und/oder Behandlung von Oberflächen |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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