DE10032414C1 - Feldeffekttransistor - Google Patents
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Abstract
Der Feldeffekttransistor weist einen Nanodraht auf, der Source, Kanal und Drain des Feldeffekttransistors bildet. Auf dem Nanodraht ist eine Nanoröhre aufgebracht, die einen elektrisch isolierenden Bereich und einen halbleitenden Bereich oder einen metallisch leitenden Bereich aufweist. Der isolierende Bereich bildet den Isolator und der leitende Bereich das Gate des Feldeffekttransistors.
Description
Die Erfindung betrifft einen Feldeffekttransistor.
Aus [1] sind eine Vielzahl unterschiedlicher
Feldeffekttransistoren bekannt.
Ein Beispiel eines solchen Feldeffekttransistors ist der
sogenannte MOS-Feldeffekttransistor.
Ein MOS-Feldeffekttransistor weist gemäß heutiger Technologie
noch eine Chipfläche von mindestens ungefähr 0,16 µm2 auf.
Weiterhin sind Grundlagen über sogenannte Carbon-Nanoröhren,
die im weiteren als Kohlenstoff-Nanoröhren bezeichnet werden,
aus [4] bekannt.
Ein Verfahren zum Herstellen von Kohlenstoff-Nanoröhren
mittels Aufwachsen derselben auf einem Substrat, ist aus [2]
und [3] bekannt.
Weitere Verfahren, mit denen Kohlenstoff-Nanoröhren
hergestellt werden können wie Laserablation oder
Lichtbogenentladung sind in [4] beschrieben.
Weiterhin ist aus [5] ein Verfahren bekannt, bei dem eine
elektrisch halbleitende Kohlenstoff-Nanoröhre oder eine
metallisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhre mittels Dotierung
von Bor-Atomen und Stickstoff-Atomen umgewandelt wird in eine
Bor-Nitrid-Nanoröhre, die elektrisch isolierend wirken.
Weiterhin ist aus [6] ein Feldeffekttransistor mit einer
Kohlenstoff-Nanoröhre bekannt, die zwei Goldelektroden
miteinander über ein Siliziumdioxid-Substrat elektrisch
steuerbar kuppelt. In diesem Fall bilden die Goldelektroden
den Source-Bereich bzw. den Drain-Bereich des
Feldeffekttransistors und der gesteuerte Kanalbereich des
Feldeffekttransistors wird von der Kohlenstoff-Nanoröhre
gebildet. Über eine sich unterhalb der Siliziumdioxid-Schicht
befindenden Silizium-Schicht, die als Gate-Bereich des
Feldeffekttransistors verwendet wird, wird die den
Kanalbereich bildende Kohlenstoff-Nanoröhre in ihren
elektrischen Eigenschaften, insbesondere in ihrer
elektrischen Leitfähigkeit gesteuert.
Aus [7] ist ferner ein Verfahren zum Herstellen eines
Silizium-Nanodrahts bekannt.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, einen
Feldeffekttransistor mit gegenüber den bekannten
Feldeffekttransistoren verringertem Platzbedarf anzugeben.
Das Problem wird durch die Feldeffekttransistoren mit den
Merkmalen gemäß den unabhängigen Patentansprüchen gelöst.
Ein Feldeffekttransistor weist einen Nanodraht auf, der einen
Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-Bereich
des Feldeffekttransistors bildet. Auf dem Nanodraht ist eine
Nanoröhre aufgebracht, die einen isolierenden Bereich und
einen halbleitenden Bereich oder einen metallisch leitenden
Bereich aufweist. Der isolierende Bereich der Nanoröhre ist
auf dem Kanalbereich des Nanodrahts derart aufgebracht, dass
der isolierende Bereich der Nanoröhre einen Isolator des
Feldeffekttransistors bildet. Ferner ist die Nanoröhre derart
auf den Nanodraht aufgebracht, dass der halbleitende Bereich
der Nanoröhre oder der metallisch leitende Bereich der
Nanoröhre einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors
bildet.
Der Nanodraht kann ein Silizium-Nanodraht sein.
Gemäß einer alternativen Ausgestaltung der Erfindung kann der
Nanodraht eine weitere Nanoröhre sein, beispielsweise eine
Kohlenstoff-Nanoröhre.
Ein Vorteil dieser Ausgestaltung ist insbesondere in der
Kompaktheit der Lösung zu sehen, d. h. darin, dass beide
Elemente des Feldeffekttransistors, sowohl das steuernde
Element (Gate) als auch das gesteuerte Element (Kanal) durch
jeweils eine Kohlenstoff-Nanoröhre gebildet wird mit den
damit verbunden vorteilhaften Materialeigenschaften.
Die weitere Kohlenstoff-Nanoröhre kann mindestens einen
halbleitenden Bereich sowie mindestens einen metallisch
leitenden Bereich aufweisen, wobei der halbleitende Bereich
zwischen zwei metallisch leitenden Bereichen angeordnet sein
kann.
In diesem Fall bildet vorzugsweise der halbleitende Bereich
der weiteren Kohlenstoff-Nanoröhre den Kanalbereich des
Feldeffekttransistors und die zwei metallisch leitenden
Bereiche den Source-Bereich bzw. den Drain-Bereich des
Feldeffekttransistors.
Die Nanoröhre kann aus mehreren einzelnen Nanoröhren
zusammengesetzt sein, beispielsweise aus einer elektrisch
isolierenden Nanoröhre, gemäß einer Ausgestaltung der
Erfindung einer Bor-Nitrid-Nanoröhre und einer oder mehreren
halbleitenden oder metallisch leitenden Kohlenstoff-
Nanoröhren.
Der isolierende Bereich der Nanoröhre kann durch eine Bor-
Nitrid-Nanoröhre gebildet werden.
Allgemein ist in diesem Zusammenhang anzumerken, dass
Kohlenstoff-Nanoröhren eine von den Röhrenparametern
abhängige elektrische Leitfähigkeit aufweisen.
So gibt es abhängig von den Röhrenparametern elektrisch
halbleitende Kohlenstoff-Nanoröhren und metallisch leitende
Kohlenstoff-Nanoröhren.
Strukturell gleich aufgebaute Bor-Nitrid-Nanoröhren sind
dagegen elektrisch isolierend, da diese eine energetische
Bandlücke von 4 eV aufweisen.
Der halbleitende Bereich oder der metallisch leitende Bereich
der Nanoröhre kann eine Kohlenstoff-Nanoröhre, d. h. eine
halbleitende Kohlenstoff-Nanoröhre oder eine metallisch
leitende Kohlenstoff-Nanoröhre sein.
Es ist somit möglich, beide üblicherweise entstehenden Arten
von Kohlenstoff-Nanoröhren einzusetzen, womit die relativ
aufwendige Überprüfung der elektrischen Eigenschaften der
jeweils hergestellten Kohlenstoff-Nanoröhren sogar entfallen
könnte, wenn dies gewünscht ist und beispielsweise die
Transistorparameter nicht unbedingt bekannt sein müssen.
Es können im Rahmen der Erfindung sowohl einwandige als auch
mehrwandige (Kohlenstoff-)Nanoröhren eingesetzt werden.
Ein weiterer Feldeffekttransistor weist einen Nanodraht auf,
der einen Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-
Bereich des Feldeffekttransistors bildet. Auf dem Nanodraht
ist mindestens eine elektrisch isolierende Nanoröhre, die
einen Isolator des Feldeffekttransistors bildet, aufgebracht.
Weiterhin weist der Feldeffekttransistor mindestens eine auf
der isolierenden Nanoröhre aufgebrachten elektrisch
halbleitende oder metallisch leitende Nanoröhre auf, die
einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors bildet.
Anschaulich ist die elektrisch isolierende Nanoröhre bzw. der
isolierende Bereich einer Nanoröhre derart auf den Nanodraht
aufgebracht, dass es mittels der den Gate-Bereich bildenden
halbleitenden oder metallisch leitenden Nanoröhre möglich ist
mittels eines sich ausbildenden Feldeffekts in dem
Kanalbereich des Feldeffekttransistors, d. h. in dem
Nanodraht, die Dichte der elektrischen Ladungsträger zu
steuern und somit den Feldeffekttransistor zwischen zwei
Transistorzuständen, einem leitenden Transistorzustand und
einem nicht leitenden Transistorzustand umzuschalten.
Die Steuerung der Kanalleitfähigkeit des erfindungsgemäßen
Feldeffekttransistors erfolgt somit wie bei üblichen
Feldeffekttransistoren mittels eines elektrischen Feldes
durch eine an eine Gate-Elektrode angelegte elektrische
Spannung, d. h. durch eine an den Gate-Bereich des
Feldeffekttransistors angelegte elektrische Spannung.
Ein erheblicher Vorteil der Erfindung darin zu sehen, dass
der angegebene Feldeffekttransistor sehr klein ist, d. h.
seine Größe kann in einer Dimensionierung von bis zu 100 nm2
und kleiner hergestellt werden.
Weiterhin ist aufgrund der Tatsache, dass ein einmolekularer,
d. h. einstückiger Feldeffekttransistor aus Nanoröhren,
allgemein aus einem Nanodraht und einer Nanoröhre gebildet
wird, das elektronische Bauelement sehr einfach in
Leiterbahnen einer elektrischen Schaltung integrierbar ist.
Ferner ist ein weiterer Vorteil der Erfindung in der
Kompatibilität der Feldeffekttransistoren zu üblicherweise in
Halbleiter-Schaltungen verwendetem Silizium-Material zu
sehen.
Allgemein kann die Erfindung darin gesehen werden, dass auf
einem Nanodraht, beispielsweise einer Kohlenstoff-Nanoröhre
eine weitere Nanoröhre aufgebracht ist derart, dass das
dadurch gebildete einstückige, d. h. einmolekulare Element als
Feldeffekttransistor ein separates elektronisches,
einmolekulares Bauelement darstellt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren
dargestellt und werden im weiteren näher erläutert.
Es zeigen
Fig. 1A und 1B einen Querschnitt eines
Feldeffekttransistors gemäß einem ersten
Ausführungsbeispiel der Erfindung, wobei in Fig. 1A
dessen Materialverlauf und in Fig. 1B dessen
Wandverlauf dargestellt ist;
Fig. 2A und 2B einen Querschnitt eines
Feldeffekttransistors gemäß einem zweiten
Ausführungsbeispiel der Erfindung, wobei in Fig. 2A
dessen Materialverlauf und in Fig. 2B dessen
Wandverlauf dargestellt ist;
Fig. 3A und 3B einen Querschnitt eines
Feldeffekttransistors gemäß einem dritten
Ausführungsbeispiel der Erfindung, wobei in Fig. 3A
dessen Materialverlauf und in Fig. 3B dessen
Wandverlauf dargestellt ist;
Fig. 4A und 4B einen Querschnitt eines
Feldeffekttransistors gemäß einem vierten
Ausführungsbeispiel der Erfindung, wobei in Fig. 4A
dessen Materialverlauf und in Fig. 4B dessen
Wandverlauf dargestellt ist.
Den im weiteren dargestellten Ausführungsbeispielen ist
gemein, dass durch Anlegen einer elektrischen Spannung an den
Gate-Bereich des jeweiligen Feldeffekttransistors der
Stromfluss elektrischer Ladungsträger in dem Kanalbereich des
gesteuerten Nanodrahts mittels des erzeugten elektrischen
Feldes an dem Gate-Bereich mittels des auftretenden
Feldeffekts gesteuert wird.
Fig. 1A zeigt einen Querschnitt eines Feldeffekttransistors
100 gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Der Feldeffekttransistor 100 weist eine halbleitende erste
Kohlenstoff-Nanoröhre 101 auf, die eine Source-Kanal-Drain-
Struktur des Feldeffekttransistors 100 bildet, d. h. die
halbleitende erste Kohlenstoff-Nanoröhre bildet einen Source-
Bereich 102, einen Kanalbereich 103 sowie einen Drain-Bereich
104 des Feldeffekttransistors 100.
Die halbleitende erste Kohlenstoff-Nanoröhre 101 wird mittels
des in [2] oder [3] beschriebenen Abscheideverfahrens
hergestellt.
Auf der halbleitenden ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 101 ist
eine zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 105 aufgebracht.
Gemäß diesem Ausführungsbeispiel wird die zweite Kohlenstoff-
Nanoröhre 105 mittels des in [2] oder [3] beschriebenen
Abscheideverfahrens aus der Gasphase auf der ersten
Kohlenstoff-Nanoröhre 101 abgeschieden.
Alternativ können bereits hergestellte Nanoröhren mit drei
Endbereichen, d. h. Anschlüssen, verwendet werden, wie sie
beispielsweise in [8] beschrieben sind als T-förmige oder Y-
förmige Nanoröhren.
Die nach dem Aufwachsen bzw. Abscheiden elektrisch metallisch
leitende zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 105 wird in einem
vorgegebenen Bereich 108, der sich erstreckt von einem
Kontaktbereich 106 zwischen der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre
101 und der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105 entlang der
zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105 mit einer vorgegebenen
Länge, umgewandelt in eine Bor-Nitrid-Nanoröhre 107.
Anders ausgedrückt bedeutet dies, dass die zweite
Kohlenstoff-Nanoröhre in einem vorgegebenen Bereich gemäß dem
in [6] beschriebenen Verfahren mit Boratomen und
Stickstoffatomen dotiert wird, so dass der vorgegebene
Bereich 108 eine elektrisch isolierende Struktur bekommt.
Der restliche Bereich der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105
bleibt weiterhin eine elektrisch metallisch leitende oder
halbleitende Kohlenstoff-Nanoröhre, die gemäß diesem
Ausführungsbeispiel mit dem Bezugszeichen 109 bezeichnet
wird.
Der mit den Bor-Atomen und den Stickstoff-Atomen dotierte,
elektrisch isolierende Bereich 108 des Feldeffekttransistors
100 wirkt im Rahmen des gebildeten Feldeffekttransistors 100
als Isolator zwischen dem Kanalbereich 103, auf dem die
zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 105 aufgebracht ist, und dem als
Gate-Bereich fungierenden weiterhin metallisch leitenden
Bereich 109 der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105.
Auf diese Weise kann durch elektrisches Ansteuern des
Feldeffekttransistors 100, insbesondere durch Anlegen einer
elektrischen Spannung an den Gate-Bereich 109 der zweiten
Kohlenstoff-Nanoröhre 105, die Ladungsdichte der elektrischen
Ladungsträger in dem Kanalbereich 103 und damit die
elektrische Leitfähigkeit des Kanalbereichs 103 des
Feldeffekttransistors 100 gesteuert werden.
Somit ist ein Feldeffekttransistor gebildet, bei dem eine
erste Kohlenstoff-Nanoröhre 101 in ihrem elektrischen
Verhalten über eine zweite Kohlenstoff-Nanoröhre durch
Anlegen einer elektrischen Spannung an die zweite
Kohlenstoff-Nanoröhre 105 gesteuert werden kann.
Fig. 1B zeigt den zugehörigen Verlauf der Wände der ersten
Kohlenstoff-Nanoröhre 101 bzw. der zweiten Kohlenstoff-
Nanoröhre 105 des Feldeffekttransistors 100.
Wie Fig. 1B zu entnehmen ist, ist die zweite Kohlenstoff-
Nanoröhre 105 derart auf der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 101
aufgebracht, dass in dem Kontaktbereich 106 die Wände 110,
111 der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre unmittelbar mit der Wand
112 der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105 gekuppelt sind.
Es ist in diesem Zusammenhang anzumerken, dass gemäß allen
Ausführungsbeispielen der Erfindung sowohl einwandige als
auch mehrwandige Kohlenstoff-Nanoröhren verwendet werden
können.
In Fig. 2A ist ein Feldeffekttransistor 200 gemäß einem
zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt.
Der Feldeffekttransistor 200 weist eine erste Kohlenstoff-
Nanoröhre 201 auf, die, in gleicher Weise wie die erste
Kohlenstoff-Nanoröhre 101 des Feldeffekttransistors 100 gemäß
dem ersten Ausführungsbeispiel die Source-Kanal-Drain-
Struktur des Feldeffekttransistors 200 bildet.
Ein erster Bereich der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 201 ist
ein Bereich einer elektrisch metallisch leitenden
Kohlenstoff-Nanoröhre 202, die den Source-Bereich des
Feldeffekttransistors 200 bildet.
Ein elektrisch halbleitender Kohlenstoff-Nanoröhren-Bereich
203 bildet den Kanalbereich 203 des Feldeffekttransistors
200.
Ein sich an dem Kanalbereich 203 anschließender metallisch
leitender Kohlenstoff-Nanoröhren-Bereich 204 bildet den
Drain-Bereich des Feldeffekttransistors.
In gleicher Weise wie gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel
ist auf der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 201 eine zweite
Kohlenstoff-Nanoröhre 205 auf dem Kanalbereich 203 der ersten
Kohlenstoff-Nanoröhre 201 aufgebracht.
Es bildet sich somit ein Kontaktbereich 206 zwischen der
ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 201 und der zweiten Kohlenstoff-
Nanoröhre 205.
Die zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 205 wird in einem Bereich
vorgegebener Größe 208 mit Boratomen oder Stickstoffatomen
dotiert, so dass ein isolierender Bereich 207 unmittelbar auf
der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 201 gebildet wird.
Der restliche Bereich der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 205
ist weiterhin elektrisch metallisch leitend und bildet den
Gate-Bereich 209 des Feldeffekttransistors 200.
Fig. 2B zeigt den Wandverlauf des Feldeffekttransistors 200,
bei dem wiederum gezeigt ist, dass die Wände 210, 211 der
ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 201 anschaulich eine Basis
bildet, auf der die zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 205
aufgebracht ist, und wobei die Wände 212 der zweiten
Kohlenstoff-Nanoröhre 205 auf der ersten Kohlenstoff-
Nanoröhre 201 unmittelbar aufgebracht sind, d. h. an
Kontaktstellen 213, 214, der gemäß diesem Ausführungsbeispiel
bei zylinderförmiger zweiter Kohlenstoff-Nanoröhre eine
kreisförmige Struktur aufweist, gekuppelt ist.
Fig. 3A zeigt einen Feldeffekttransistor 300 gemäß einem
dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Auf einem Silizium-Nanodraht 301, der die Source-Kanal-Drain-
Struktur des Feldeffekttransistors 300 bildet, und der
elektrisch halbleitend ist, ist in den Kanalbereich 303, der
zwischen dem Source-Bereich 302 und dem Drain-Bereich 304 des
Feldeffekttransistors 300 angeordnet ist, eine erste
Kohlenstoff-Nanoröhre 305 als Bor-Nitrid-Nanoröhre
aufgebracht, so dass ein Kontaktbereich 309 zwischen dem
Silizium-Nanodraht 301 und der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre
305 gebildet wird.
Auf der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 305 ist eine zweite
Kohlenstoff-Nanoröhre 306 aufgebracht, d. h. angeschlossen,
wobei die zweite Kohlenstoff-Nanoröhre 306 den Gate-Bereich
des Feldeffekttransistors 300 bildet und als elektrisch
metallisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhre ausgestaltet ist.
Fig. 3B zeigt den Wandverlauf des Feldeffekttransistors 300.
Wiederum ist auf dem Silizium-Nanodraht 301, d. h. auf dessen
oberer Wand 307 der erste Kohlenstoff-Nanodraht 305 und der
zweite Kohlenstoff-Nanodraht 306, die eine gemeinsame Einheit
bilden, aufgebracht, so dass dessen Seitenwände 308 in dem
Kontaktbereich 306 gekuppelt sind.
Fig. 4A zeigt einen Feldeffekttransistor 400 gemäß einem
vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Wiederum ist eine erste Kohlenstoff-Nanoröhre 401, gemäß
diesem Ausführungsbeispiel eine durchgängig halbleitende
Kohlenstoff-Nanoröhre, alternativ auch ein halbleitender
Silizium-Nanodraht oder eine wie gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel aus mehreren Kohlenstoff-Nanoröhren mit
unterschiedlichen elektrischen Eigenschaften gebildete
Source-Kanal-Drain-Struktur des Feldeffekttransistors 400
vorgesehen.
Die erste Kohlenstoff-Nanoröhre 401 bildet somit wiederum
einen Source-Bereich 402, einen Kanalbereich 403 sowie einen
Drain-Bereich 404.
Auf dem Kanalbereich 403 ist eine mehrwandige zweite
Kohlenstoff-Nanoröhre 405 aufgebracht, gemäß diesem
Ausführungsbeispiel eine elektrisch isolierende Bor-Nitrid-
Nanoröhre.
Die mehrwandige Bor-Nitrid-Nanoröhre 405 dient als Isolator
im Rahmen des Feldeffekttransistors 400.
Auf der Bor-Nitrid-Nanoröhre 405 ist eine weitere, elektrisch
metallisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhre 406 aufgebracht,
die als Gate des Feldeffekttransistors 400 verwendet wird.
Fig. 4B zeigt den zu dem Feldeffekttransistor 400
korrespondierenden Wandverlauf, in der die Wände 407 der
ersten Kohlenstoff-Nanoröhre 401, die Wände 408 der
mehrwandigen Bor-Nitrid-Nanoröhre 405 und die Wände 409 der
zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 406 dargestellt sind.
Die oben dargestellten Feldeffekttransistoren können ferner
auch gebildet werden, indem der elektrische isolierend
wirkende Bereich 108 der zweiten Kohlenstoff-Nanoröhre 105,
205, 306 lokal durch eine Bor-Nitrid-Nanoröhre ersetzt wird.
Weiterhin kann eine kontrollierte Gasphasenepitaxie unter
Verwendung von Katalysatoren zum Aufwachsen der Bor-Nitrid-
Nanoröhre bzw. der metallisch leitenden Kohlenstoff-Nanoröhre
auf der entsprechenden Bor-Nitrid-Nanoröhre gemäß dem in [3]
beschriebenen Verfahren erzeugt werden.
In einer weiteren alternativen Vorgehensweise können die
einzelnen Elemente des Feldeffekttransistors unter Verwendung
von Nano-Manipulatoren zusammengebaut werden.
Weiterhin ist es gemäß einer alternativen Ausgestaltung der
Erfindung vorgesehen, auf dem ersten Nanodraht, d. h.
beispielsweise der ersten Kohlenstoff-Nanoröhre in dem
Kanalbereich des gebildeten Feldeffekttransistors gemäß dem
in [3] beschriebenen Verfahren eine Kohlenstoff-Nanoröhre mit
der Länge des gewünschten Bereichs 108 aufzuwachsen, diese
gebildete Kohlenstoff-Nanoröhre mit Boratomen und
Stickstoffatomen zu dotieren, so dass eine Bor-Nitrid-
Nanoröhre entsteht, und auf dieser Bor-Nitrid-Nanoröhre die
metallisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhre aufzuwachsen.
In diesem Dokument sind folgende Veröffentlichungen zitiert:
[1] U. Tietze, Ch. Schenk, Halbleiterschaltungstechnik, 11. Auflage, Springer Verlag, ISBN 3-540-64192-0, S. 187- 218, 1999.
[2] Z. F. Ren et al, Synthesis of Large Arrays of Well- Aligned Carbon Nanotubes an Glass, SIENCE, Volume 282. S. 1105-1107, November 1998
[3] Young Sang Suh und Yin Seong Lee, Highly-Ordered Two- Dimensional Carbon-Nanotubes Areas, Applied Physics Letters, Volume 75, Nr. 14, S. 2047-2049, Oktober 1991
[4] T. Dekker, Carbon-Nanotubes as Molecular Quantum Wires, Physics Today, S. 22-28, Mai 1999
[5] W. Han et al, Synthesis of Boron Nitride Nanotubes From Carbon Nanotubes by a substitution Reaction, Applied Physics Letters, Volume 73, Number 21, S. 3085-3087, November 1998
[6] R. Martel et al, Single- and Multi-Wall Carbon Nanotube Field-Effect Transistors, Applied Physics Letters, Volume 73, Number 17, S. 2447-2449, October 1998
[7] A. M. Morales und C. M. Lieber, A Laser Ablation Method for the Synthesis of Crystalline Semiconductor Nanowires, SCIENCE, Vol. 279, S. 208-211, in Reports, January 1998
[8] A. S. Vedeneev et al, Molecular-Scale Rectifying Diodes Based on Y-Junction Carbon Nanotubes, Proceedings of the IEDM Conference, Washington, 1999
[1] U. Tietze, Ch. Schenk, Halbleiterschaltungstechnik, 11. Auflage, Springer Verlag, ISBN 3-540-64192-0, S. 187- 218, 1999.
[2] Z. F. Ren et al, Synthesis of Large Arrays of Well- Aligned Carbon Nanotubes an Glass, SIENCE, Volume 282. S. 1105-1107, November 1998
[3] Young Sang Suh und Yin Seong Lee, Highly-Ordered Two- Dimensional Carbon-Nanotubes Areas, Applied Physics Letters, Volume 75, Nr. 14, S. 2047-2049, Oktober 1991
[4] T. Dekker, Carbon-Nanotubes as Molecular Quantum Wires, Physics Today, S. 22-28, Mai 1999
[5] W. Han et al, Synthesis of Boron Nitride Nanotubes From Carbon Nanotubes by a substitution Reaction, Applied Physics Letters, Volume 73, Number 21, S. 3085-3087, November 1998
[6] R. Martel et al, Single- and Multi-Wall Carbon Nanotube Field-Effect Transistors, Applied Physics Letters, Volume 73, Number 17, S. 2447-2449, October 1998
[7] A. M. Morales und C. M. Lieber, A Laser Ablation Method for the Synthesis of Crystalline Semiconductor Nanowires, SCIENCE, Vol. 279, S. 208-211, in Reports, January 1998
[8] A. S. Vedeneev et al, Molecular-Scale Rectifying Diodes Based on Y-Junction Carbon Nanotubes, Proceedings of the IEDM Conference, Washington, 1999
100
Feldeffekttransistor
101
Erste Kohlenstoff-Nanoröhre
102
Source-Bereich
103
Kanalbereich
104
Drain-Bereich
105
Zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
106
Kontaktbereich
107
Bor-Nitrid-Nanoröhre
108
Vorgegebener Bereich
109
Bereich metallisch leitende oder halbleitende
Kohlenstoff-Nanoröhre
110
Wand erste Kohlenstoff-Nanoröhre
111
Wand erste Kohlenstoff-Nanoröhre
112
Wand zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
200
Feldeffekttransistor
201
Erste Kohlenstoff-Nanoröhre
202
Source-Bereich
203
Kanalbereich
204
Drain-Bereich
205
Zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
206
Kontaktbereich
207
Bor-Nitrid-Nanoröhre
208
Vorgegebener Bereich
209
Bereich metallisch leitende oder halbleitende
Kohlenstoff-Nanoröhre
210
Wand erste Kohlenstoff-Nanoröhre
211
Wand erste Kohlenstoff-Nanoröhre
212
Wand zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
213
Kontaktstelle
214
Kontaktstelle
300
Feldeffekttransistor
301
Silizium-Nanodraht
302
Source-Bereich
303
Kanalbereich
304
Drain-Bereich
305
Bor-Nitrid-Nanoröhre
306
Zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
307
Oberer Wand Silizium-Nanodraht
308
Seitenwand Kohlenstoff-Nanoröhre
309
Kontaktbereich
400
Feldeffekttransistor
401
Erste Kohlenstoff-Nanoröhre
402
Source-Bereich
403
Kanalbereich
404
Drain-Bereich
405
Mehrwandige zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
406
Metallisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhre
407
Wand erste Kohlenstoff-Nanoröhre
408
Wand mehrwandige Bor-Nitrid-Nanoröhre
409
Wand zweite Kohlenstoff-Nanoröhre
Claims (12)
1. Feldeffekttransistor, mit
einem Nanodraht, der einen Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-Bereich des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf dem Nanodraht aufgebrachten Nanoröhre, die einen elektrisch isolierenden Bereich und einen halbleitenden Bereich oder einen metallisch leitenden Bereich aufweist,
wobei der isolierende Bereich der Nanoröhre auf dem Kanalbereich des Nanodrahts aufgebracht ist derart, dass der isolierende Bereich der Nanoröhre einen Isolator des Feldeffekttransistors bildet, und
dass der halbleitende Bereich oder der metallisch leitende Bereich der Nanoröhre einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors bildet.
einem Nanodraht, der einen Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-Bereich des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf dem Nanodraht aufgebrachten Nanoröhre, die einen elektrisch isolierenden Bereich und einen halbleitenden Bereich oder einen metallisch leitenden Bereich aufweist,
wobei der isolierende Bereich der Nanoröhre auf dem Kanalbereich des Nanodrahts aufgebracht ist derart, dass der isolierende Bereich der Nanoröhre einen Isolator des Feldeffekttransistors bildet, und
dass der halbleitende Bereich oder der metallisch leitende Bereich der Nanoröhre einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors bildet.
2. Feldeffekttransistor, mit
einem Nanodraht, der einen Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-Bereich des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf dem Nanodraht aufgebrachten elektrisch isolierenden Nanoröhre, die einen Isolator des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf der isolierenden Nanoröhre aufgebrachten elektrisch halbleitenden oder metallisch leitenden Nanoröhre, die einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors bildet.
einem Nanodraht, der einen Source-Bereich, einen Kanalbereich und einen Drain-Bereich des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf dem Nanodraht aufgebrachten elektrisch isolierenden Nanoröhre, die einen Isolator des Feldeffekttransistors bildet,
mindestens einer auf der isolierenden Nanoröhre aufgebrachten elektrisch halbleitenden oder metallisch leitenden Nanoröhre, die einen Gate-Bereich des Feldeffekttransistors bildet.
3. Feldeffekttransistor nach Anspruch 1 oder 2,
bei dem der Nanodraht ein Silizium-Nanodraht ist.
4. Feldeffekttransistor nach Anspruch 1 oder 2,
bei dem der Nanodraht eine weitere Nanoröhre ist.
5. Feldeffekttransistor nach Anspruch 4,
bei dem die weitere Nanoröhre eine weitere Kohlenstoff-
Nanoröhre ist.
6. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
bei dem die weitere Kohlenstoff-Nanoröhre mindestens einen
halbleitenden Bereich aufweist sowie mindestens einen
metallisch leitenden Bereich.
7. Feldeffekttransistor nach Anspruch 6,
bei dem der halbleitende Bereich zwischen zwei metallisch
leitenden Bereichen angeordnet ist.
8. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
bei dem der isolierende Bereich der Nanoröhre eine Bor-
Nitrid-Nanoröhre ist.
9. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
bei dem der halbleitende Bereich oder der metallisch leitende
Bereich der Nanoröhre eine Kohlenstoff-Nanoröhre ist.
10. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 2 bis 7,
bei dem die elektrisch isolierende Nanoröhre eine Bor-Nitrid-
Nanoröhre ist.
11. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 2 bis 7,
bei dem die halbleitende oder metallisch leitende Nanoröhre
eine Kohlenstoff-Nanoröhre ist.
12. Feldeffekttransistor nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
bei dem zumindest eine der Nanoröhren mehrere Wände aufweist.
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- 2000-07-04 DE DE10032414A patent/DE10032414C1/de not_active Expired - Fee Related
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