DE10021666A1 - Träger für zu bearbeitende Halbleiterscheiben - Google Patents
Träger für zu bearbeitende HalbleiterscheibenInfo
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Abstract
Bisherige Träger zur Aufnahme mehrerer parallel zueinander angeordneter Halbleiterscheiben haben die Form eines Bootsrumpfs. In der Innenwandung des Bootsrumpfs befinden sich Einschnitte, insbesondere Fugen, in welche die Halbleiterscheiben eingesteckt werden. Bei der Verarbeitung, insbesondere beim Dotieren und Beschichten der Scheiben, werden aufgrund der Kanten der Halbleiterscheiben die Randbereiche inhomogen. DOLLAR A Die neuen Träger weisen Aufnahmevorrichtungen auf, die eine Umrandung für die Halbleiterscheiben ausbilden. Dabei werden die durch die Kanten verursachten Inhomogenitäten zur Umrandung hin verschoben oder aber die Umrandung wird so ausgeformt, dass sich die Kanteneffekte reduzieren. DOLLAR A Mit diesen Trägern lassen sich mit einfachen Mitteln Halbleiterscheiben herstellen, die über ihre ganze Fläche homogen sind.
Description
Die Erfindung betrifft einen Träger für zu bearbeitende Halbleiterscheiben,
mit einer Vielzahl von parallel zueinander angeordneten Aufnahmevor
richtungen, um die Halbleiterscheiben aufzunehmen und parallel zueinan
der anzuordnen.
Bisher werden Träger beim Verarbeiten von Halbleiterscheiben verwen
det, die eine Ober- und eine Unterseite oder eine Vorder- und eine Rück
seite aufweisen. Der Träger bildet ein zumindest an einer Seite offenes
Gehäuse aus, das im Innern parallel zueinander ausgebildete Aufnahme
vorrichtungen, insbesondere Einschnitte bzw. Nuten aufweist, die entlang
der Gehäusewand verlaufen. Von der offenen Seite her werden die Halb
leiterscheiben in die Aufnahmevorrichtung eingelegt. Die Abmessungen
des Trägers sind abhängig von der Größe der Halbleiterscheibe und von
der Anzahl der Halbleiterscheiben, die am Träger befestigt werden sollen.
Der Durchmesser des Trägers entspricht in etwa dem Durchmesser der
Halbleiterscheibe.
Diese Träger dienen dazu, dass möglichst viele Halbleiterscheiben gleich
zeitig in einer Weiterbearbeitungsvorrichtung, insbesondere in einem Ofen
oder einem Reaktor, gleichmäßig erwärmt, beschichtet, dotiert oder an
derweitig bearbeitet werden. Hierbei werden die Halbleiterscheiben einer
Strömung ausgesetzt, die eine homogene Bearbeitung der Halbleiter
scheiben bewerkstelligen soll.
Nachteilig bei diesen Trägern ist jedoch, dass die Halbleiterscheiben an
den Außenrändern nicht die gleiche Homogenität wie im inneren Schei
benbereich aufweisen. Bei 6 Zoll Halbleiterscheiben kann die Breite der
inhomogenen Außenränder bis zu 2 cm betragen.
Die Aufgabe der Erfindung ist es, einen Träger aufzuzeigen, der mehre
re parallel zueinander angeordnete Aufnahmevorrichtungen aufweist und
der eine gleichmäßige Dotierung, Beschichtung oder anderweitige Bear
beitung der Halbleiterscheibe nicht nur im Scheibeninnern, sondern auch
im Randbereich gewährleistet.
Die Aufgabe der Erfindung wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
Kennzeichen des Patentanspruchs 1 gelöst. Hierbei sind die Aufnahme
vorrichtungen am Träger so ausgestaltet, dass sie eine flächenhafte Um
randung für die in der Aufnahmevorrichtung befindlichen Halbleiterscheibe
ausbilden. Die Halbleiterscheibe wird durch die Aufnahmevorrichtung
scheinbar vergrößert und das Randproblem wird auf die Umrandung ver
lagert, die von der Aufnahmevorrichtung ausgebildet wird.
Die Vorteile der Erfindung bestehen darin, dass bei einem solchen Träger
die gesamte bearbeitete Halbleiterscheibe voll genutzt werden kann.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Un
teransprüchen. Zum Aufbau eines neuen erfindungsgemäßen Trägers
kann ein herkömmlicher Träger mit Einschnitten zur direkten Aufnahme
von Halbleiterscheiben verwendet werden, jedoch muss er für eine größe
re Scheibengröße konzipiert sein. In die Einschnitte des größeren Trägers
kann dann die Aufnahmevorrichtung, welche die spätere flächenhafte Um
randung ausbildet, eingelegt oder befestigt, insbesondere angeschweißt
werden. Die Aufnahmevorrichtung, in dessen Zentrum die Halbleiterschei
be eingelegt wird, kann beispielsweise als Ring oder Platte ausgebildet
sein und aus Quarz oder Siliziumcarbid bestehen. Der Querschnitt der
Umrandung der Halbleiterscheibe kann rechteckig sein oder aber auch
einen strömungsgünstigen, insbesondere tragflächenähnlichen, Quer
schnitt aufweisen. Ferner können die Aufnahmevorrichtungen am Träger
so ausgestaltet sein, dass die Halbleiterscheiben automatisch mit einem
Roboter bestückt werden können.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und
Figuren näher erläutert werden. Es zeigen:
Fig. 1 Ein mit Halbleiterscheiben bestückter Träger, der Aufnahme
vorrichtungen aufweist, die eine flächenhafte Umrandung der
Halbleiterscheiben ausbildet.
Fig. 2a ringförmige Aufnahmevorrichtung
Fig. 2b plattenförmige Aufnahmevorrichtung
Fig. 3 Bestandteile des Trägers
Fig. 4a Querschnitt der ringförmigen Aufnahmevorrichtung
Fig. 4b Querschnitt der plattenförmigen Aufnahmevorrichtung
Fig. 4c Tragflächenförmiger Querschnitt einer Aufnahmevorrichtung
Fig. 1 zeigt einen mit Halbleiterscheiben 2 bestückten Träger 1, der Auf
nahmevorrichtungen 3 aufweist, die eine flächenhafte Umrandung 4 der
Halbleiterscheiben 2 ausbilden. Ein Teil des Trägers 1 besteht aus einem
herkömmlichen Träger, einem sogenannten Boot 5, zur Aufnahme von 8"
Halbleiterscheiben, die in Einschnitte 6, die sich in den Stäben 7 befinden,
eingelegt werden. In diesem Boot 5 jedoch, das eine über 8 und eine
Unterseite 9 aufweist, die durch Stäbe 7 miteinander verbunden sind, sind
mehrere 6" Halbleiterscheiben 2 parallel übereinander angeordnet. Die 6"
Halbleiterscheiben 2 befinden sich in Aufnahmevorrichtungen 3. Die Auf
nahmevorrichtungen 3 bilden eine flächenhafte Umrandung 4 um die
Halbleiterscheiben 2. Des weiteren sind die Umrandungen 4 an einer
Stelle offen, um mit einem Roboter in die Aufnahmevorrichtung 3 zu ge
langen, um die Halbleiterscheiben 2 zu greifen. Die Aufnahmevorrichtun
gen 3 sind in den Einschnitten 6 des herkömmlichen 8" Bootes 5 befestigt,
insbesondere angeschweißt. Das Material der Aufnahmevorrichtung 3 ist
Quarz, Siliziumcarbid oder ein anderes Material, das sich für Trägerauf
bauten eignet.
Fig. 2a zeigt eine ringförmige Aufnahmevorrichtung 3, die Bestandteil
des in Fig. 1 abgebildeten Trägers 1 ist. Der Außendurchmesser dA des
Ringes 14 entspricht im Ausführungsbeispiel der Größe einer 8" Halblei
terscheibe. Der Innendurchmesser des Ringes entspricht in etwa der Grö
ße einer 6" Halbleiterscheibe 2. Der Innendurchmesser d1 muss so groß
gewählt werden, dass einerseits die 6" Halbleiterscheibe 2 einfach einge
legt werden kann und andererseits möglichst kein Spalt zwischen Umran
dung 4 und Halbleiterscheibe 2 entsteht. Im Innern der ringförmigen Auf
nahmevorrichtung 3 befinden sich Stifte 11. Sie dienen als Auflagefläche
für die einzulegende 6" Halbleiterscheibe 2. Die Stifte 11 sind in der Auf
bauhöhe t so angeordnet, dass eine eingelegte Halbleiterscheibe 2 und
der Ring 14 eine ebene Fläche 13 ausbilden und sich keine Stufe zwi
schen Umrandung 4 und Halbleiterscheibe 2 ausbildet. Nicht abgebildet
ist die Variante, bei der die Halterungen 11 auf der Unterseite des Ringes
14 angeordnet sind und sich eine kleine Stufe zwischen Halbleiterscheibe
und Umrandung ausbildet.
Fig. 2b zeigt eine plattenförmige Aufnahmevorrichtung 3, die Bestand
teil des in Fig. 1 abgebildeten Trägers 1 ist. Der Außendurchmesser dA
der Platte 15 entspricht im Ausführungsbeispiel der Größe eine 8" Halb
leiterscheibe. Im Innern weist die Platte 15 eine Aussparung 12 auf. Der
Durchmesser dI der Aussparung 12 entspricht in etwa der Größe einer 6"
Halbleiterscheibe 2. Der Durchmesser dI der Aussparung 12 muss so
groß gewählt werden, dass einerseits die 6" Halbleiterscheibe 2 einfach
eingelegt werden kann und andererseits möglichst kein Spalt zwischen
Umrandung 4 und eingelegter Halbleiterscheibe 2 entsteht. Die im Innern
angeordnete Aussparung 12 dient als Auflagefläche für die einzulegende
6" Halbleiterscheibe 2. Die Tiefe t der Aussparung ist so bemessen, dass
eine eingelegte Halbleiterscheibe 2 und die verbleibende Umrandung 4
möglichst eine ebene Fläche 13 ausbilden und sich keine oder eine mög
lichst kleine Stufe zwischen Umrandung 4 und Halbleiterscheibe 2 ausbil
det.
Fig. 3 zeigt nochmals die Einzelbestandteile des Trägers 1. Beim boots
rumpfähnlichen Teil des Trägers handelt es sich um ein sogenanntes Boot
5 für Halbleiterscheiben, das im Innern Einschnitte 6, insbesondere Nuten
aufweist, in die Halbleiterscheiben mit der entsprechenden Größe einge
legt werden könnten. Der zweite Teil besteht aus den in Fig. 2a und 2b
beschriebenen Aufnahmevorrichtungen 3. Diese Aufnahmevorrichtungen
3 werden vor oder nach der Bestückung mit den Halbleiterscheiben 2 in
den Einschnitten 6 befestigt. Die Befestigung kann fest und nicht mehr
lösbar sein, wie beispielsweise das Zusammenschweißen oder Kleben der
beiden Teile 3, 5. Die Befestigung kann jedoch auch lösbar als Klemm-
oder Rastverschluss angeordnet sein. Gleichfalls kann die Aufnahmevor
richtung 3 einfach in die Einschnitte 6 eingelegt werden. Auch kann der
Träger 1 einstückig mit integrierten Aufnahmevorrichtungen 3 angefertigt
werden.
Fig. 4a zeigt den Querschnitt der ringförmigen Aufnahmevorrichtung 3,
die in Fig. 2a dargestellt ist. Die Umrandung 4 um die Halbleiterscheibe 2
hat einen rechteckigen Querschnitt. Um die Halbleiterscheibe 2 zu befes
tigen, sind in dem Ring 14, der die Umrandung 4 ausgestaltet, Vorsprünge
11 ausgebildet, auf denen die Halbleiterscheibe 2 aufgelegt wird. Die Vor
sprünge 11 sind in einer Tiefe t befestigt, die in der Abbildung in etwa der
Dicke d der Halbleiterscheibe 2 entspricht, so dass die Halbleiterscheibe 2
und die Umrandung 4 zumindest an einer Seite eine ebene Fläche ausbil
den. Jedoch können die Vorsprünge auch an der Unterseite des Ringes
angebracht sein, wodurch sich zwischen der Halbleiterscheibe und der
Umrandung in Abhängigkeit von der Dicke des Ringes und der Dicke der
Halbleiterscheibe ein kleiner Absatz ausbilden kann.
Zwischen der Halbleiterscheibe 2 und der Umrandung 4 sollte sich, wenn
überhaupt, nur ein sehr schmaler Spalt ausbilden. Mit dieser Umrandung
4 wird die Halbleiterscheibe 2 scheinbar vergrößert und damit die am
Rand auftretenden Effekte zur Umrandung 4 hin verlagert.
Fig. 4b zeigt den Querschnitt der plattenförmigen Aufnahmevorrichtung
3, die in Fig. 2b dargestellt ist. Die eigentliche Umrandung 4 hat auch
hier einen rechteckigen Querschnitt. Um die Halbleiterscheibe 2 zu be
festigen, ist in der Platte 15 eine Mulde 12 eingearbeitet, in welche die
Halbleiterscheibe 2 eingelegt wird. Die Tiefe t der Mulde 12 entspricht in
etwa der Dicke d der Halbleiterscheibe 2, so dass die Platte 15 mit der
eingelegten Scheibe 2 eine möglichst ebene Fläche 13 ausbildet. Zwi
schen der Halbleiterscheibe 2 und der Umrandung 4 sollte sich, wenn ü
berhaupt, nur ein schmaler Spalt ausbilden. Mit dieser Umrandung 4 wird
die Halbleiterscheibe 2 scheinbar vergrößert und damit die am Rand auf
tretenden Effekte zur Umrandung 4 hin verlagert.
Fig. 4c zeigt den tragflächenförmiger Querschnitt einer Aufnahmevor
richtung 3. Die diesem Anwendungsbeispiel ist der Querschnitt des Rin
ges 14 nicht rechteckig ausgebildet, sondern er hat einen strömungstech
nisch günstigen Querschnitt, wie beispielsweise den einer Tragfläche. Am
äußeren Rand der Umrandung befinden sich an den Stegstellen Befesti
gungsvorrichtungen 17, insbesondere Federn, die in die Nuten 6 des in
Fig. 3 abgebildeten bootrumpfähnlichen Teils 5 eingebracht werden kön
nen. Mit dieser Art der Umrandung 4 werden die unerwünschten Randef
fekte nicht nur nach außen verlagert, sondern auch vermindert. Auch ist
eine solche Umrandung 4 leichter und könnte vom Umfang dA her kleiner
sein als die in den vorigen Figuren dargestellten Versionen. An der Innen
seite sind Haken 18 ausgebildet, auf welche die Halbleiterscheibe 2 gelegt
wird.
Zur Vollständigkeit werden als weitere Anwendungsbeispiele Träger ge
nannt, bei denen die Aufnahmevorrichtungen für die Halbleiterscheiben so
ausgestaltet sind, dass die Halbleiterscheiben nicht parallel, sondern
schräg zueinander angeordnet sind.
Claims (8)
1. Träger (1) für zu bearbeitende Halbleiterscheiben (2), mit mehreren
Aufnahmevorrichtungen (3), um mehrere Halbleiterscheiben (2) auf
zunehmen und sie insbesondere parallel zueinander anzuordnen,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Aufnahmevorrichtungen (3) flächenhafte Halbleiterscheiben-
Umrandungen (4) ausbilden.
2. Träger (1) nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die
Aufnahmevorrichtung (3) ringförmig ist und im Innern oder auf der
Unterseite des Ringes (14) Halterungen (11) aufweist, an denen die
Halbleiterscheibe (2) aufliegt.
3. Träger (1) nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die
Aufnahmevorrichtung (3) plattenförmig ist und im Innern der Platte
(15) eine Mulde (12) zur Aufnahme der Halbleiterscheibe (3) ausbil
det.
4. Träger (1) nach Patentanspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die
ringförmige Aufnahmevorrichtung (3) einen strömungsgünstigen, ins
besondere tragflächenförmigen, Querschnitt aufweist.
5. Träger (1) nach Patentanspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die
plattenförmige Aufnahmevorrichtung (3) einen strömungsgünstigen,
insbesondere tragflächenförmigen, Querschnitt aufweist.
6. Träger (1) nach einem der vorangegangenen Patentansprüche, mit ei
nem bootsrumpfähnlichen Teil (5), dadurch gekennzeichnet, dass
zwischen dem bootsrumpfähnlichen Teil (5) und den Aufnahmevor
richtungen (3) Schweißverbindungen ausgebildet sind.
7. Träger (1) nach einem der Patentansprüche 1 bis 5, mit einem boots
rumpfähnlichen Teil (5), dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem
bootsrumpfähnlichen Teil (5) und den Aufnahmevorrichtungen (3)
Klebeverbindungen ausgebildet sind.
8. Träger (1) nach einem der Patentansprüche 1 bis 5, mit einem boots
rumpfähnlichen Teil (5), dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem
bootsrumpfähnlichen Teil (5) und den Aufnahmevorrichtungen (3)
Rastverbindungen ausgebildet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000121666 DE10021666A1 (de) | 2000-05-04 | 2000-05-04 | Träger für zu bearbeitende Halbleiterscheiben |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000121666 DE10021666A1 (de) | 2000-05-04 | 2000-05-04 | Träger für zu bearbeitende Halbleiterscheiben |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10021666A1 true DE10021666A1 (de) | 2001-11-08 |
Family
ID=7640727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2000121666 Withdrawn DE10021666A1 (de) | 2000-05-04 | 2000-05-04 | Träger für zu bearbeitende Halbleiterscheiben |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10021666A1 (de) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD291218A5 (de) * | 1989-12-29 | 1991-06-20 | Mikroelektronik "Karl Marx",De | Staubschuetzender transportbehaelter fuer halbleiterscheiben auf folienrahmen |
EP0735572A1 (de) * | 1995-03-28 | 1996-10-02 | Fluoroware, Inc. | Entwicklungshorden |
DE19649508A1 (de) * | 1995-12-14 | 1997-06-19 | Cvd Inc | Halter für Halbleiterplatten |
DE19750060A1 (de) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | Josef Mueller | Träger für flache dünne Gegenstände, insbesondere Siliziumscheiben und deren Herstellverfahren |
DE19846595A1 (de) * | 1998-07-30 | 2000-02-03 | Mosel Vitelic Inc | Klemmvorrichtung zur Befestigung eines Wafers in einer Ätzkammer |
-
2000
- 2000-05-04 DE DE2000121666 patent/DE10021666A1/de not_active Withdrawn
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