DE10005172A1 - System zur interferometrischen Messung von Aspären in Reflexion oder von Linsen im Durchtritt - Google Patents
System zur interferometrischen Messung von Aspären in Reflexion oder von Linsen im DurchtrittInfo
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Abstract
Ein System zur interferometrischen Messung von Asphären in Reflexion und von Linsen im Durchtritt ist mit einer optischen Einrichtung versehen, die wenigstens ein diffraktives optisches Element (DOE) (5) aufweist. In der optischen Einrichtung (4, 5) wird eine gezielte Nicht-Isoplanasie des Strahlengangs derart vorgewählt, daß das eine von einer Dejustage eines Prüflings (Asphäre, Linse) (6) erzeugte Koma in der reflektierten Wellenfront wenigstens weitgehend kompensiert wird.
Description
Die Erfindung betrifft ein System zur interferometrischen Mes
sung von Asphären in Reflexion und von Linsen im Durchtritt mit
einer optischen Einrichtung nach der im Oberbegriff von An
spruch 1 näher definierten Art.
In der US-PS 5,039,223 ist ein System zur interferometrischen
Messung der eingangs erwähnten Art beschrieben. Dabei ist je
doch nachteilig, daß bei einer Dejustage des Prüflings mit ei
ner starken Koma gerechnet werden muß.
Zum weiteren Stand der Technik wird noch auf die DD 299 246 und
die EP 370 229 B1 verwiesen.
Zur interferometrischen Messung müssen die Meßstrahlen senk
recht auf den Prüfling treffen. Hierzu ist eine Kompensations
optik vorgesehen, die sich zwischen dem Interferometer und dem
Prüfling befindet. Ein Hauptproblem bei den bekannten Meßanord
nungen besteht darin, daß aufgrund der asphärischen Oberfläche
Dezentrierungen des Prüflings zu einer deutlichen Koma führen.
Dabei unterscheidet man zwei Arten von Koma, nämlich einerseits
durch die Asphäre selbst und andererseits durch die Kompensati
onsoptik. Bekannt sind Kompensationsoptiken mit mehreren Linsen
und mit einem diffraktiven optischen Element, z. B. einem Holo
gramm.
Dezentrierfehler durch den Prüfling treten durch einen radialen
Versatz bzw. eine entsprechende ungenaue Positionierung des
Prüflings und auch durch Kippung des Prüflings auf. Um diese
Dezentrierungs- bzw. Dejustagefehler so gering wie möglich zu
halten, muß deshalb der Prüfling sehr genau justiert werden.
Trotzdem sind der Meßgenauigkeit bei den bekannten Meßsystemen
Grenzen gesetzt (siehe US-PS 5,039,223).
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
ein System zur interferometrischen Messung von Asphären in Re
flexion und von Linsen im Durchtritt zu schaffen, mit dem eine
sehr genaue Messung erzielt werden kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden
Teil von Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.
Die erfindungsgemäße Idee besteht darin, daß man die Kompensa
tionsoptik derart auslegt, daß bewußt eine gezielte Nicht-
Isoplanasie des Strahlenganges vorgewählt wird, daß die von
einer Dejustage eines Prüflings erzeugte Koma in der reflek
tierten Wellenfront wenigstens weitgehend kompensiert wird. Es
wurde nämlich festgestellt, daß sich in kleinen Bereichen, um
die es sich hier handelt, eine Linearität zwischen Kippung und
Koma besteht. Aus diesem Grunde wird die Kompensationsoptik so
ausgelegt, daß sie - basierend auf dieser Linearität - aus den
Kippfehlern im rücklaufenden Strahl gerade soviel Koma macht,
daß die von einer dezentrierten Asphäre erzeugte Koma kompen
siert wird. Fehler, die durch eine Dezentrierung des Prüflings
auftreten, führen zu einem Wellenfrontfehler mit Kipp und Koma.
Erfindungsgemäß wird nun mit der Kompensationsoptik aus der
Wellenfrontkippung eine Koma erzeugt, die gerade die Störkoma
aufhebt. Dies bedeutet, durch die bewußt eingeführte Nicht-
Isoplanasie wird der durch eine Dejustage des Prüflings auftre
tende Zwangsfehler kompensiert, wozu das optische System bewußt
komabehaftet ausgelegt wird.
Wenn der Prüfling "zufällig" genau zentriert ist, tritt in der
rücklaufenden Welle keine Kippung auf, so daß auch das optische
System keine Koma erzeugt und damit die Messung nicht negativ
bzw. falsch beeinflußt.
Darüber hinaus ist in einer vorteilhaften Weiterbildung der
Erfindung vorgesehen, daß die Kompensationsoptik nicht-stig
matisch ist, damit die Lichtquelle auf der zu messenden Ober
fläche des Prüflings stets senkrecht steht. Bei Verwendung ei
nes Hilfsspiegels, z. B. wenn eine Linse im Durchtritt gemessen
werden soll, stehen in diesem Falle dann die Lichtstrahlen auf
dem Hilfsspiegel senkrecht.
Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung
ergeben sich aus den Unteransprüchen und aus den nachfolgend
anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen Ausführungsbei
spielen.
Es zeigt:
Fig. 1 eine Prinzipdarstellung der erfindungsgemäßen Kompen
sationsoptik mit einem diffraktiven optischen Element
und mit einer Vorsatzlinse als Korrekturlinse;
Fig. 2 eine Prinzipdarstellung der erfindungsgemäßen Kompen
sationsoptik mit einer einem diffraktiven optischen
Element nachgeordneter Korrekturlinse;
Fig. 3 eine Prinzipdarstellung einer Kompensationsoptik mit
Messung einer Linse im Durchtritt;
Fig. 4 eine Prinzipdarstellung einer Kompensationsoptik mit
einem diffraktiven optischen Element, das eine sphä
rische Fläche aufweist; und
Fig. 5 eine Prinzipdarstellung einer Kompensationsoptik zur
Messung einer hohlen Asphäre als Prüfling.
Gemäß Fig. 1 werden von einem Interferometer als Lichtquelle 1
erzeugte Meßstrahlen 2 über einen Kollimator mit Aperturblende
3, durch den die divergierenden Meßstrahlen in Parallelstrahlen
2' umgewandelt werden, zu einer Vorsatzlinse 4 als Korrektur
linse geleitet. In Strahlrichtung hinter der Korrekturlinse 4
ist ein computergeschriebenes Hologramm (CGH) als diffraktives
optisches Element (DOE) 5 angeordnet, an das sich die zu mes
sende Asphäre 6 anschließt. Eine zu prüfende asphärische Ober
fläche 7 der Asphäre 6, auf der die Meßstrahlen in rechtem Win
kel auftreffen, befindet sich auf der dem DOE 5 zugewandten
Seite. Die zur Auswertung des Interferogramms notwendige Referenzfläche
(nicht dargestellt) kann an beliebiger Stelle im
Interferometer angeordnet sein. Sie kann z. B. im Strahlengang
vor dem Prüfobjektiv angeordnet sein oder in einem separaten
Referenzarm.
Die aus dem DOE 5 und der Korrekturlinse 4 bestehende optische
Einrichtung ist nicht-stigmatisch. Sie wirken zusammen als
Null-Linse bzw. als Kompensationssystem.
Das in der Fig. 2 dargestellte System zur interferometrischen
Messung ist grundsätzlich von gleichem Aufbau. Lediglich die
Korrekturlinse 4 ist in diesem Falle im Strahlengang hinter dem
DOE 5 angeordnet und an ihr liegt die zu prüfende Asphäre 6
direkt an. Die asphärische Oberfläche befindet sich auch in
diesem Fall auf der dem DOE 5 zugewandten Seite. Bei diesen
beiden Meßsystemen wird die Asphäre 6 in Reflexion gemessen.
Im allgemeinen liegen Dezentrierfehler aufgrund einer ungenauen
Justage des Prüflings, nämlich der Asphäre 6, in einem Bereich
von 1 bis 100 µ. Ein dezentriert angeordneter Prüfling erzeugt
nun in dem rücklaufenden Meßstrahl Koma und Kippung. Dabei sind
in diesen Dezentrierbereichen Kippung und Koma linear zueinan
der.
Die Korrekturlinse 4 und das DOE 5 sind nun so ausgelegt, daß
aus dem Kipp im rücklaufenden Meßstrahl gerade soviel Koma ge
macht wird, daß die von der dezentrierten Asphäre 6 erzeugte
Koma kompensiert wird. Hierzu kann man ein Optikrechenprogramm
vorsehen, wobei man eine Linse, nämlich die Korrekturlinse 4,
vorgibt, die zu prüfende Asphäre 6 und gegebenenfalls einen
Hilfsspiegel 8, falls der Prüfling im Durchtritt gemessen wer
den soll. In dem Optikrechenprogramm werden dann dezentrierte
Prüflinge angenommen mit einem daraus resultierenden Koma-Aus
gang. Anschließend werden die Korrekturlinse 4 und auch das DOE
5 zur Optimierung freigegeben, wobei beim DOE 5 die Linien
struktur optimiert wird. Aufgrund des errechneten Ergebnisses
wird dann die Korrekturlinse 4 und das DOE 5 so optimiert, daß
das von einem dejustierten Prüfling erzeugte Koma wenigstens
weitgehend kompensiert wird.
Die Fig. 3 zeigt ein Meßsystem zum Messen von Linsen im Durch
tritt, wobei das Meßsystem sowohl für sphärische als auch für
asphärische Oberflächen geeignet ist. Auch bei diesem Meßsystem
ist, in gleicher Weise wie in der Fig. 2, die Korrekturlinse 4
im Strahlengang hinter dem DOE 5 angeordnet. Die zu prüfende
Linse 6, welche in diesem Falle auf der der Korrekturlinse 4
zugewandten Seite mit einer asphärischen Oberfläche 7 versehen
ist, liegt auf Abstand zu der Korrekturlinse 4. Ebenfalls auf
Abstand zu der Linse 6 liegt im Strahlengang dahinter ein
Hilfsspiegel 8, auf den die Meßstrahlen 2' senkrecht auftreffen
und von dort entsprechend zurücklaufen. Auch hier wird die
Prüfoptik mit der Korrekturlinse 4 und dem DOE 5 derart nicht-
isoplanatisch gewählt, so daß die von einer Dejustage des Prüf
linges 6 erzeugte Koma in der reflektierten Wellenfront wenig
stens weitgehend kompensiert wird.
In der Fig. 4 ist ein Meßsystem dargestellt, wobei das DOE 5
mit einer sphärischen Fläche 9 versehen ist, die dem Prüfling 6
zugewandt ist, welche in diesem Falle wieder auf der dem DOE 5
zugewandten Seite seine zu prüfende asphärische Oberfläche 7
besitzt. Durch die Abbildung des DOE 5 auf einer sphärischen
Fläche kann gegebenenfalls eine Korrekturlinse 4 entfallen. In
diesem Falle wird die Nicht-Isoplanasie allein von dem DOE 5
erzeugt.
Die Fig. 5 zeigt ein Meßsystem, das grundsätzlich dem in der
Fig. 1 dargestellten Meßsystem entspricht. In diesem Fall soll
jedoch statt einer erhabenen asphärischen Oberfläche des Prüf
lings 6 eine hohle asphärische Oberfläche 7 gemessen werden,
wobei sich die hohle asphärische Fläche 7 auf der dem DOE 5
zugewandten Seite des Prüflings 6 befindet.
In diesem Falle ist als Korrekturlinse 4 eine Linse vorgesehen,
die einen konvergierenden Meßstrahl 2' erzeugt. Als DOE 5 in
Form eines computergesteuerten Hologrammes kann ein Inline-
Hologramm oder auch ein Offaxis-Hologramm verwendet werden.
Claims (11)
1. System zur interferometrischen Messung von Asphären in Re
flexion und von Linsen im Durchtritt mit einer optischen
Einrichtung, die wenigstens ein diffraktives optisches Ele
ment aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß in der optischen
Einrichtung (4, 5) eine gezielte Nicht-Isoplanasie des
Strahlenganges derart vorgewählt wird, daß eine von einer
Dejustage eines Prüflings (Asphäre, Linse(6)) erzeugte Koma
in der reflektierten Wellenfront wenigstens weitgehend kom
pensiert wird.
2. System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
optische Einrichtung (4, 5) nicht-stigmatisch ist.
3. System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Nicht-Isoplanasie durch eine Korrekturlinse (4) in Ver
bindung mit dem diffraktiven optischen Element (5) erzeugt
wird.
4. System nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Korrekturlinse (4) im Strahlengang vor dem diffraktiven op
tischen Element (5) angeordnet ist.
5. System nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Korrekturlinse (4) im Strahlengang hinter dem diffraktiven
optischen Element (5) angeordnet ist.
6. System nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Prüfling (6) im Durchtritt gemessen wird,
wobei zur Erzeugung der rücklaufenden Wellenfront ein re
flektierender Hilfsspiegel (8) vorgesehen ist.
7. System nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß das diffraktive optische Element (5) auf ei
nem ebenen oder einem gekrümmten Träger aufgebracht ist.
8. System nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn
zeichnet, daß das diffraktive optische Element (5) als com
putergeschriebenes Hologramm (CGH) ausgebildet ist.
9. System nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das
Hologramm ein Inline-Hologramm ist.
10. System nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das
Hologramm ein Offaxis-Hologramm ist.
11. System nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn
zeichnet, daß die optische Einrichtung (4, 5) mit einem Op
tikrechenprogramm verbunden ist, in welchem die Linien
struktur des diffraktiven optischen Elementes (5) und/oder
der Radius der wenigstens einen Korrekturlinse (4) opti
miert werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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DE2000105172 Withdrawn DE10005172A1 (de) | 2000-02-05 | 2000-02-05 | System zur interferometrischen Messung von Aspären in Reflexion oder von Linsen im Durchtritt |
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Country | Link |
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DE (1) | DE10005172A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1327261C (zh) * | 2005-09-05 | 2007-07-18 | 长春理工大学 | 一种光学非球面检测准万能补偿镜 |
DE102006055070A1 (de) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts |
CN101876540A (zh) * | 2010-05-07 | 2010-11-03 | 中国科学院光电技术研究所 | 基于多波前透镜补偿器的非球面绝对测量系统 |
CN104236520A (zh) * | 2014-09-26 | 2014-12-24 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种整层大气湍流倾斜等晕角的测量方法 |
-
2000
- 2000-02-05 DE DE2000105172 patent/DE10005172A1/de not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1327261C (zh) * | 2005-09-05 | 2007-07-18 | 长春理工大学 | 一种光学非球面检测准万能补偿镜 |
DE102006055070A1 (de) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts |
DE102006055070B4 (de) * | 2006-11-22 | 2008-07-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts |
US7791737B2 (en) | 2006-11-22 | 2010-09-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Method and apparatus for interferometrically measuring the shape of a test object |
CN101876540A (zh) * | 2010-05-07 | 2010-11-03 | 中国科学院光电技术研究所 | 基于多波前透镜补偿器的非球面绝对测量系统 |
CN104236520A (zh) * | 2014-09-26 | 2014-12-24 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种整层大气湍流倾斜等晕角的测量方法 |
CN104236520B (zh) * | 2014-09-26 | 2016-09-21 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种整层大气湍流倾斜等晕角的测量方法 |
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