DE102022207358A1 - Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren - Google Patents

Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren Download PDF

Info

Publication number
DE102022207358A1
DE102022207358A1 DE102022207358.4A DE102022207358A DE102022207358A1 DE 102022207358 A1 DE102022207358 A1 DE 102022207358A1 DE 102022207358 A DE102022207358 A DE 102022207358A DE 102022207358 A1 DE102022207358 A1 DE 102022207358A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light beam
distance
measuring
optical element
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102022207358.4A
Other languages
English (en)
Inventor
Jochen Hetzler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102022207358.4A priority Critical patent/DE102022207358A1/de
Priority to PCT/EP2023/069965 priority patent/WO2024017914A1/de
Publication of DE102022207358A1 publication Critical patent/DE102022207358A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/14Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Die Erfindung ist eine Messanordnung (1) zum Bestimmen zumindest eines Abstands zwischen einem ersten und einem zweiten optischen Element (2,3), wobei das erste Element (2) lichtdurchlässig als Messmatrize ausgebildet ist und eine teilreflektierende erste Oberfläche (7) aufweist, wobei das zweite optische Element (3) als EUV-Spiegel ausgebildet ist und eine zumindest teilreflektierende zweite Oberfläche (8) aufweist, und wobei die erste Oberfläche (7) der zweiten Oberfläche (8) mit dem zu erfassenden Abstand gegenüberliegt, mit einer Lichtstrahlquelle (13) und einem Lichtstrahlsensor (21), wobei ein von der Lichtstrahlquelle (13) erzeugter Lichtstrahl (14) durch eine von der ersten Oberfläche (7) verschiedenen Oberfläche (11) in das erste optische Element (2) derart einkoppelt wird, dass ein erster Teillichtstrahl (19) von der ersten Oberfläche (7) und ein zweiter, die erste Oberfläche (7) durchdringender Teillichtstrahl (116) von der zweiten Oberfläche (8) jeweils zurück in das erste optische Element (2) reflektiert werden, und wobei der Lichtstrahlsensor (21) derart angeordnet ist, dass er beide Teillichtstrahlen (19,16) erfasst, um in Abhängigkeit der erfassten Teillichtstrahlen (19,16) den Abstand zu bestimmen.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Messanordnung zum Erfassen zumindest eines Abstands zwischen einem ersten und einem zweiten optischen Element, wobei das erste Element lichtdurchlässig als Messmatrize ausgebildet ist und eine teilreflektierende erste Oberfläche aufweist, wobei das zweite optische Element als EUV-Spiegel ausgebildet ist und eine zumindest teilreflektierende zweite Oberfläche aufweist, und wobei die erste Oberfläche der zweiten Oberfläche mit dem zu erfassenden Abstand gegenüberliegt.
  • Weiterhin betrifft die Erfindung eine Abstandsmessvorrichtung sowie eine optische Vermessungsvorrichtung, die zumindest eine Messanordnung, wie sie obenstehend beschrieben ist, aufweisen.
  • Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Bestimmen des oben erläuterten Abstands zwischen den oben genannten zwei Elementen.
  • In optischen Systemen oder Einrichtungen, in welchen eine oder mehrere Lichtstrahlen durch mehrere optische Elemente gelenkt und/oder manipuliert werden, ist es wichtig, dass der Abstand zwischen diesen Elementen zueinander innerhalb vorbestimmter Toleranzen liegt. Insbesondere bei Einrichtungen zur Vermessung von Oberflächenformen mithilfe einer optischen Matrize, wie sie in der bisher noch nicht veröffentlichten Patentanmeldung der Anmelderin DE 10 2021 202 909.4 beschrieben wird, ist der Abstand zwischen den optischen Elementen genau einzuhalten. Zum einen, um das Messergebnis nicht zu verfälschen, und zum anderen um eine Kollision der optischen Elemente miteinander zu vermeiden.
  • Messvorrichtungen zum berührungslosen Erfassen von Abständen sind aus dem Stand der Technik bereits bekannt. So finden sich im Stand der Technik eine Vielzahl von Lasermessgeräten, die einen Abstand bestimmen können. Jedoch handelt es sich bei dem mit diesen Geräten erfassbaren Abstand in der Regel um den Abstand zwischen dem Lesermessgerät selbst und dem zu prüfenden Objekt. Um in einer optischen Einrichtung, wie beispielsweise in einem Matrizenmessgerät, eine derartige Lasermessvorrichtung einzusetzen, müsste die Eirichtung vollständig umgebaut werden, da das Lasermessgerät selbst viel Bauraum benötigt. Bei anderen bekannten Lösungen wird eine Lasermessvorrichtung eingesetzt, mittels welcher per Reflektion an optischen Elementen die Dicke und/oder der Abstand der Elemente zueinander erfassbar ist. Eine entsprechende Lösung wird beispielsweise von der Firma Opto-Alignment Technology, Inc. unter dem Namen „Fogale Nanotech Lenscan system“ angeboten. Mit diesem System ist eine in-situ Messung jedoch nicht möglich, weil das Messgerät für die Durchführung der Messung im Betriebsstrahlengang der optischen Elemente angeordnet werden muss.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Messanordnung zu schaffen, die Bauraum sparend ausgebildet ist und sicher den Abstand von zwei Elementen zueinander auch in-situ bestimmen kann.
  • Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe wird durch eine Messanordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Diese hat den Vorteil, dass mit nur einer Lichtstrahlquelle und nur einem Lichtstrahlsensor der zu erfassende Abstand mit nur einem Messvorgang sicher bestimmbar ist. Darüber hinaus lassen sich die Lichtstrahlquelle und der Lichtstrahlsensor bauraumsparend in beispielsweise ein Messsystem, dass die oben genannten zwei Elemente aufweist, integrieren, was eine Vermessung des Abstands im Betrieb der Messeinrichtung selbst, also eine in-situ Abstandsermittlung, ermöglicht.
  • Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass die Messanordnung eine Lichtstrahlquelle und einen Lichtstrahlsensor aufweist, wobei ein von der Lichtstrahlquelle erzeugter oder erzeugbarer Lichtstrahl durch die Linse derart gelenkt wird, dass er durch eine von der ersten Oberfläche verschiedenen Oberfläche in das erste optische Element eingekoppelt und an der ersten Oberfläche auf einen Fokuspunkt fokussiert ist, sodass ein erster Teillichtstrahl von der ersten Oberfläche und ein zweiter, die erste Oberfläche durchdringender Teillichtstrahl von der zweiten Oberfläche jeweils zurück in das erste optische Element reflektiert werden, und wobei der Lichtstrahlsensor derart angeordnet ist, dass er beide Teillichtstrahlen erfasst, um in Abhängigkeit der erfassten Teillichtstrahlen den Abstand zu erfassen. Insbesondere sind die Lichtstrahlquelle und Lichtstrahlsensor fest in Bezug auf das erste Element angeordnet. Durch die vorteilhafte Messanordnung wird der Lichtstrahl der Lichtstrahlquelle somit sowohl an der ersten als auch an der zweiten Oberfläche reflektiert und jeweils zurück durch das erste Element hindurch zu dem Lichtstrahlsensor geleitet. Dadurch können die Lichtstrahlquelle und der Lichtstrahlsensor beide auf der von dem zweiten optischen Element abgewandten Seite des ersten optischen Elements angeordnete werden und insbesondere auch außerhalb eines Betriebsstrahlengangs. Dadurch ist eine Integration in eine die Elemente aufweisende Messeinrichtung möglich, die den Betrieb der Messeinrichtung nicht beeinträchtigt, so dass eine Bestimmung des Abstands auch im laufenden Betrieb der die Elemente aufweisenden Messeinrichtung möglich ist. Dadurch, dass der Lichtstrahl die erste Oberfläche durchdringt und an der zweiten Oberfläche ebenfalls reflektiert wird, wird der eine Lichtstrahl in zumindest zwei Teillichtstrahlen aufgeteilt, deren Strahlengang sich durch den Abstand zwischen den Oberflächen zueinander unterscheidet. Denn durch den Abstand der Reflektionsstellen an der ersten und der zweiten Oberfläche führt dazu, dass die zurück reflektierten Teillichtstrahlen seitlich beabstandet voneinander liegen. Diese Verschiebung der Teillichtstrahlen im reflektierten Abschnitt zueinander korrespondiert somit mit dem Abstand zwischen den beiden Elementen. Durch den Lichtstrahlsensor wird diese Verschiebung erfasst und zur Bestimmung des Abstands ausgewertet. Mit einfachen und bauraumsparenden Mitteln wird somit eine in-situ Messung ermöglicht, durch welche der Abstand zwischen den Elementen präzise ermittelt wird. Das erste optische Element ist eine Messmatrize, insbesondere wie sie in der zuvor genannten früheren Patentanmeldung DE 10 2021 202909.4 der Anmelderin beschrieben wird. Damit ist das erste Element lichtdurchlässig und an der ersten Oberfläche teilreflektierend, sodass ein Teil des Lichtstrahls weiter zur zweiten Oberfläche gelangt, um dort reflektiert zu werden. Dabei ist erste Oberfläche derart ausgebildet, dass der zurück reflektierte Teillichtstrahl von der zweiten Oberfläche erneut in das erste Element eingekoppelt und durch dieses hindurch zu dem Lichtstrahlsensor geleitet wird. Vorzugsweise sind die Krümmung der Oberfläche des ersten optischen Elements beziehungsweise der Messmatrize und die Krümmung der Oberfläche des zweiten optischen Elements beziehungsweise des EUV-Spiegels invers zueinander ausgebildet, so dass die Oberflächen parallel zueinander verlaufen. Weiterhin ist das zweite optische Element ein EUV-Spiegel (EUV = extrem ultraviolette Strahlung). Der EUV-Spiegel kann durch die vorteilhafte Ausbildung der Messanordnung mit und ohne hochreflektierende Beschichtung gemessen werden.
  • Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung weist die Messanordnung eine erste Fokuseinrichtung mit zumindest einer ersten Linse und/oder zumindest einem Spiegel, auf, die zwischen der Lichtstrahlquelle und dem ersten Element angeordnet und derart ausgebildet ist, dass sie den Lichtstrahl an der ersten Oberfläche auf einen ersten Fokuspunkt fokussiert. Dadurch wird die Messqualität optimiert beziehungsweise die Messgenauigkeit bezüglich des erfassten Abstands erhöht. Insbesondere wird dadurch gewährleistet, dass der Lichtstrahl nicht vor Erreichen der ersten Oberfläche streut und dadurch zu Teillichtstrahlen führt, die zu dem Lichtstrahlsensor zurück reflektiert werden, die das Messergebnis verfälschen könnten. Durch die Fokussierung wird gewährleistet, dass alle Teillichtstrahlen von dem einen Fokuspunkt an der ersten Oberfläche ausgehen und somit eine präzise Abstandsermittlung zulassen.
  • Weiterhin ist bevorzugt vorgesehen, dass die Lichtstrahlquelle und der Lichtstrahlsensor auf einer von dem zweiten Element abgewandten Seite des ersten Elements angeordnet sind. Dadurch ist gewährleistet, dass der Lichtstrahl an beiden Oberflächen sicher reflektiert und durch das erste optische Element zu dem Lichtstrahlsensor geführt wird. Weiterhin ist dadurch eine vorteilhafte Integration in ein bestehendes Messsystem möglich.
  • Vorzugsweise ist die eine erste Linse der ersten Fokuseinrichtung und/oder der zweiten Fokuseinrichtung derart ausgebildet, dass sie die Effekte der Brechung des Lichtstrahls an der Oberfläche, durch welche der Lichtstrahl in das erste Element eingekoppelt wird, korrigiert oder kompensiert werden. Insbesondere weist die Linse eine dazu eingerichtete Form auf. Vorzugsweise ist die Linse dazu nicht-rotationssymmetrisch ausgebildet und weicht hierzu insbesondere von einer rotationssymmetrischen Linse um mehr als 1 µm ab. Alternativ oder zusätzlich ist die Linse zur Korrektur oder Kompensation vorzugsweise um eine insbesondere senkrecht zur Hauptstrahlrichtung des Lichtstrahls ausgerichteten Achse verkippt. Optional ist die Linse aus mehreren Linsen und/oder Spiegeln gebildet, wobei zumindest eine Linse von der Rotationssymmetrie um mehr als 1 µm abweicht.
  • Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist zwischen dem ersten Element und dem Lichtstrahlsensor wenigstens eine zweite Fokuseinrichtung mit zumindest einer zweiten Linse und/oder mit zumindest einem Spiegel angeordnet, durch welche die reflektierten Teillichtstrahlen auf den Lichtstrahlsensor gelenkt werden. Mithilfe der zweiten Fokuseinrichtung, insbesondere mittels der zweiten Linse, ist somit ein sicheres Erfassen der Teillichtstrahlen durch den Lichtstrahlsensor gewährleistet. Optional ist der ersten und/oder der zweiten Linse jeweils zumindest ein weiteres optisches Element, insbesondere eine weitere Linse oder ein Spiegel, der jeweiligen Fokuseinrichtung zugeordnet, durch welches der Lichtstrahl und/oder die Teillichtstrahlen umgelenkt werden, sodass eine flexible Anordnung der Lichtstrahlquelle und/oder des Lichtstrahlsensors zu den optischen Elementen ermöglicht wird.
  • Vorzugsweise ist die zweite Linse dazu ausgebildet und angeordnet, die Teillichtstrahlen auf den Lichtstrahlsensor zu fokussieren, so dass jeder Teillichtstrahl einen Fokuspunkt aufweist, der von dem Lichtstrahlsensor erfassbar ist. Insbesondere ist der Lichtstrahlsensor dazu ausgebildet, die Position der Fokuspunkte der Teillichtstrahlen zu erfassen, um in Abhängigkeit von den Erfassten Positionen den Abstand der Fokuspunkte zueinander zu bestimmen. Weil der Abstand der Fokuspunkte mit dem Abstand der Elemente zueinander korrespondiert, ist damit eine vorteilhafte Bestimmung des Abstands zwischen den Elementen gewährleistet. Durch die Ausbildung der Fokuspunkte der Teillichtstrahlen, ist der jeweilige Abstand besonders präzise bestimmbar. Bevorzugt ist der Lichtstrahlsensor als Kamerasensor oder als Zeilenscanner ausgebildet, um die Fokuspunkte der Teillichtstrahlen zu erfassen. Durch die bevorzugte Fokussierung sowohl auf die erste Oberfläche beziehungsweise den Spaltbereich als auch auf den Lichtstrahlsensor wird zum einen eine präzise Bestimmung des Abstandes gewährleistet. Zum anderen führt dadurch eine Verkippung des ersten und/oder des zweiten optischen Elements nicht zu einem fehlerhaften Abstandssignal.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist der Lichtstrahlsensor eine ebene Sensorfläche auf, wobei die wenigstens eine zweite Linse dazu ausgebildet und angeordnet ist, die Teillichtstrahlen auf die Sensorfläche zu fokussieren. Dadurch liegen die Fokuspunkte der Teillichtstrahlen auf der Sensorfläche und werden mit hoher Genauigkeit erfasst. Desto kleiner der Fokuspunkt ist, desto genauer wird die Position des jeweiligen Teillichtstrahls auf der Sensorfläche bestimmt. Insbesondere ist der Lichtstrahlsensor oder ein Steuergerät der Messanordnung dazu ausgebildet, in Abhängigkeit von der Position der Fokuspunkte der Teillichtstrahlen auf der Sensorfläche den Abstand der Elemente zueinander zu bestimmen. Hierbei wird ausgenutzt, dass mit sich veränderndem Abstand auch die Position der Fokuspunkte der Teillichtstrahlen auf der Sensorfläche verschiebt. Es ist somit eine direkte geometrische Verknüpfung zwischen dem zu erfassenden Abstand und der Position der Fokuspunkte auf der Sensorfläche vorhanden, die zur Bestimmung des Abstandes ausgenutzt wird.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Lichtstrahlquelle und die erste Linse derart angeordnet, dass der erzeugte Lichtstrahl durch eine der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche des ersten Elements in das erste Element eingekoppelt wird. Dabei wird der Brechungsindex an der weiteren Oberfläche durch die Ausgestaltung der ersten Linse berücksichtigt, sodass der Fokuspunkt des Lichtstrahls auf der ersten Oberfläche liegt. Die erste Linse ist somit in Abhängigkeit von dem Brechungsindex, dem Einfallwinkel des Lichtstrahls auf die weitere Oberfläche und der Geometrie des ersten Elements ausgebildet.
  • Gemäß einer alternativen Ausführungsform sind die Lichtstrahlquelle und die erste Linse derart angeordnet, dass der erzeugte Lichtstrahl durch eine zu der ersten Oberfläche seitlich angeordneten weiteren Oberfläche des ersten Elements in das erste Element eingekoppelt wird. Dadurch wird die Messanordnung in ihrem Aufbau noch flacher gestaltet (in Bezug auf den Betriebsstrahlengang für das erste Element). Damit ist eine noch weiter vereinfachte Integration der Messanordnung in ein bestehendes Messsystem beziehungsweise in eine optische Einrichtung möglich. Außerdem ist es damit beispielsweise auch möglich, mehrere erfindungsgemäße Messanordnungen vorzusehen, deren Lichtstrahl an unterschiedlichen Stellen und unterschiedlichen Oberflächen in das erste Element eingekoppelt werden, so dass der jeweilige Lichtstrahlsensor nur die Teillichtstrahlen der ihm zugeordneten Lichtstrahlquelle erfasst und Fehlmessungen sicher vermieden werden.
  • Vorzugsweise ist die Oberfläche des zweiten Elements beziehungsweise des EUV-Spiegels nicht-sphärisch, insbesondere asphärisch oder als Freiformfläche ausgebildet.
  • Weist das zweite Element zumindest eine Beschichtung auf der zweiten Oberfläche auf, die bewirkt, dass der Teillichtstrahl sowohl an der Oberfläche der Beschichtung als auch an einer darunterliegenden Grenzfläche zu dem zweiten optischen Element reflektiert wird, entstehen durch den Teillichtstrahl zwei weitere Teillichtstrahlen, die reflektiert und zurück in das erste Element eingekoppelt und durch dieses zu dem Lichtstrahlsensor geleitet werden. Damit ist ein zweiter Abstand beziehungsweise die Höhe der Beschichtung erfassbar. Dabei wird vorzugsweise die Höhe der Beschichtung als Referenz verwendet, wenn die Höhe der Beschichtung bekannt ist, um den Lichtstrahlsensor zu kalibrieren für die Bestimmung des Abstands der Elemente zueinander. Alternativ werden durch den Lichtstrahlsensor mehrere Abstände erfasst, wie beispielsweise der Abstand der ersten Oberfläche zu der Oberflächenbeschichtung sowie zu dem Abstand der Grenzfläche oder zu weiteren Grenzflächen in dem zweiten Element. Vorzugsweise weist die zumindest eine Beschichtung eine Schichthöhe von 10nm bis wenige µm auf, sodass der Schichteffekt bei der Messung gegebenenfalls gering ausfällt oder aufgrund von Messungenauikeiten nicht mehr erfasst werden kann. Dennoch können Messdaten auf Basis einer bekannten Schichtdicke korrigiert werden. Zumindest eine Korrektur des Schwerpunktes ist durch die vorteilhafte Messanordnung möglich.
  • Die erfindungsgemäße Abstandsmessvorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 12 zeichnet sich durch wenigstens eine erfindungsgemäße Messanordnung, wie sie obenstehend beschrieben wurde, aus. Es ergeben sich dadurch die oben bereits genannten Vorteile. Insbesondere weist die Abstandsmessvorrichtung ein Gehäuse auf, in welchem die Lichtstrahlquelle und der Lichtstrahlsensor sowie optional die erste Linse und die zweite Linse angeordnet sind.
  • Besonders bevorzugt weist die Abstandsmessvorrichtung zwei, drei oder sechs der oben beschriebenen, erfindungsgemäßen Messanordnung auf, wobei die Fokuspunkte der Lichtstrahlen beabstandet zueinander an der ersten Oberfläche des ersten optischen Elements liegen. Dadurch werden Abstände an unterschiedlichen Stellen zwischen den beiden Elementen erfasst, um so die Ausrichtung der Elemente zueinander zu bestimmen. So wird insbesondere mittels drei Messanordnungen festgestellt, ob die beiden Elemente parallel zueinander oder in einer gewünschten Ausrichtung zueinander angeordnet sind. Bei starken Freiformflächen werden bevorzugt sechs der Messanordnungen eingesetzt. Damit dienen die Messanordnungen nicht nur zur Erfassung des Abstands, sondern auch der Ausrichtung. Vorzugsweise weist die Abstandsmessvorrichtung ein Steuergerät auf, das dazu ausgebildet ist, die Lichtstrahlquelle oder Lichtstrahlquellen anzusteuern und den oder die erfassten Abstände durch Auswerten der Sensorsignale des oder der Lichtstrahlsensoren zu bestimmen.
  • Das erfindungsgemäße optische Vermessungssystem mit den Merkmalen des Anspruchs 13 zeichnet sich durch die erfindungsgemäße Abstandsmessvorrichtung aus. Es ergeben sich daraus die oben bereits genannten Vorteile. Insbesondere weist das Vermessungssystem zumindest einen Aktuator auf, der dazu ausgebildet und/oder angeordnet ist, einen Abstand zwischen den Oberflächen beziehungsweise zwischen den optischen Elementen und/oder eine Ausrichtung der optischen Elemente zueinander einzustellen oder zu verändern.
  • Besonders bevorzugt unterscheidet sich ein Strahlengang des jeweiligen Lichtstrahls der zumindest einen Messanordnung von einem Betriebsstrahlengang des Vermessungssystems zur Oberflächenformvermessung, wozu insbesondere die Lichtstrahlquelle und die erste Linse, sowie der Lichtstrahlsensor und die zweite Linse jeder Messanordnung der Abstandsmessvorrichtung außerhalb eines Betriebsstrahlengangs des Vermessungssystems angeordnet sind.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 15 zeichnet sich dadurch aus, dass eine Lichtstrahlquelle derart angesteuert wird, dass ein Lichtstrahl durch eine von der ersten Oberfläche des ersten Elements verschiedene Oberfläche in das erste optische Element eingekoppelt wird, so dass ein erster Teillichtstrahl von der ersten Oberfläche und ein zweiter, die erste Oberfläche durchdringender Teillichtstrahl von der zweiten Oberfläche jeweils zurück in das erste optische Element reflektiert werden, und wobei die beiden Teillichtstrahlen erfasst, und in Abhängigkeit der erfassten Teillichtstrahlen der Abstand der ersten und der zweiten Oberfläche zueinander ermittelt wird. Es ergeben sich dadurch die bereits genannten Vorteile.
  • Vorzugsweise wird der Lichtstrahl mithilfe einer ersten Linse derart fokussiert, dass ein Fokuspunkt des Lichtstrahls an der ersten Oberfläche liegt. Weiterhin wird bevorzugt eine zweite Linse in den Strahlengang zwischen dem ersten Element und dem Lichtstrahlsensor derart angeordnet und ausgebildet, dass die Teillichtstrahlen dem Lichtstrahlsensor zugeführt und insbesondere jeweils auf eine Sensorfläche des Lichtstrahlsensors fokussiert werden.
  • Weitere Vorteile und bevorzugte Merkmale und Merkmalskombinationen ergeben sich insbesondere aus den Ansprüchen sowie aus dem zuvor Beschriebenen. Im Folgenden soll die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert werden. Dazu zeigen
    • 1 eine vorteilhafte Messanordnung gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel,
    • 2A und B Detailansichten der Messanordnung aus 1,
    • 3 ein optisches Vermessungssystem mit vorteilhaften Messanordnungen in einer vereinfachten Darstellung und
    • 4 ein Flussdiagramm zur Erläuterung eines Verfahrens zum Betreiben der Messanordnungen.
  • 1 zeigt in einer vereinfachten Seitenansicht eine vorteilhafte Messanordnung 1, die dazu ausgebildet ist, den Abstand zwischen zwei optischen Elementen 2, 3 zu erfassen. Bei den optischen Elementen 2, 3 handelt es sich vorliegend um einen Prüfling 5 und eine Messmatrize 6, wobei die Messmatrize 6 eine Referenzform aufweist, die zur optischen Prüfung der Oberflächenform des Prüflings 5 beziehungsweise des Elements 3 dient. Das erste Element 2 weist hierbei eine erste Oberfläche 7 auf, die einer zweiten Oberfläche 8 des zweiten Elements 3 beabstandet gegenüberliegt.
  • Das Element 2 ist somit Bestandteil eines hier nur teilweise dargestellten optischen Vermessungssystems 4, beziehungsweise Matrizenmesssystem, mittels dessen der Prüfling untersuchbar ist. Bei dem Vermessungssystem 4 handelt es sich insbesondere um ein Messsystem zur interferometrischen Formvermessung des Prüflings 5. Ein derartiges Vermessungssystem 4 ist beispielsweise in der Patentanmeldung DE 10 2021 202 909.4 beschrieben.
  • Bei dem Prüfling 5 beziehungsweise bei dem optischen Element 3 handelt es sich um einen EUV-Spiegel für die EUV-Lithographie oder Mikrolithographie, wozu die Oberfläche 8 insbesondere nicht-sphärisch, insbesondere asphärisch oder als Freiformfläche ausgebildet ist, um EUV-Strahlung, insbesondere mit einer Wellenlänge von weniger als 100nm, zu reflektieren. Die Oberfläche 8 ist unbeschichtet, beschichtet und/oder hochreflektierend ausgebildet. Optional weist die Oberfläche 8 eine oder mehrere Beschichtungen auf, durch welche die Reflexionsqualität und -quantität verbessert wird.
  • Um die Funktionsfähigkeit des Spiegelelements zu prüfen, wird mittels des Vermessungssystems 4 die der Messmatrize 6 zugewandte Oberfläche 8 des Prüflings 5 darauf geprüft, ob die Oberfläche 8 eine gewünschte Soll-Form aufweist.
  • Als Ergebnis der Formvermessung wird eine Abweichung der tatsächlichen Form der Oberfläche 8 von der Sollform bestimmt. Die Sollform kann dabei mit der Referenzform beziehungsweise der Oberfläche 7 in Beziehung stehen. Insbesondere entspricht die Sollform der Referenzfläche beziehungsweise der ersten Oberfläche 7, so dass die Oberflächen 7,8 invers zueinander ausgebildet sind oder parallel zueinander verlaufen. Alternativ weicht die Sollform von der Referenzfläche ab.
  • Für die Vermessung der Oberflächenform wird beispielsweise ein Laserstrahl durch eine von der ersten Oberfläche 7 abgewandte weitere Oberfläche 11 in das Element 2 eingekoppelt, sodass es dieses durchdringt und an der Oberfläche 8 teilreflektiert wird, so dass ein Teilstrahl an der Oberfläche 7 und ein Teilstrahl an der Oberfläche 8 reflektiert wird. Hierzu ist in 1 beispielhaft ein Strahlengang 12 mit gestrichelten Linien eingezeichnet. Durch die interferometrische Auswertung der reflektierten Teilstrahlen liefert das Messsignal den Abstand zwischen den Oberflächen 7 und 8.
  • Durch die vorteilhafte Messanordnung 1 wird erreicht, dass der Abstand zwischen den Elementen 2 und 3 auch in-situ in dem Vermessungssystem 4 ermittelbar ist. Dies ist insbesondere dann von Vorteil, wenn beispielsweise das Referenzobjekt, also in diesem Fall das Element 2, beweglich gelagert ist, um einen Prüfvorgang durchzuführen. Durch die bewegliche Lagerung ist ein präzises Anordnen des Elements 2 bezüglich des Elements 3 notwendig, damit die Oberflächen 7 und 8 in einer gewünschten Ausrichtung einander gegenüberliegen und beispielsweise parallel zueinander verlaufen. Um die Ausrichtung präzise einstellen zu können und um ein Auftreffen des Elements 2 auf dem Element 3 zu verhindern, wird der Abstand mittels der Messanordnung 1 in vorteilhafter Weise erfasst und überwacht. Das Element 2 und das Element 3 weisen vorzugsweise jeweils eine einfach sphärische Geometrie auf.
  • Die Messanordnung 1 weist dazu eine Lichtstrahlquelle 13 auf, die dazu ausgebildet ist, einen Lichtstrahl 14 zu erzeugen. Die Lichtstrahlquelle 13 dazu beispielsweise als LED-, Faserlaser oder Lasereinrichtung ausgebildet, oder als sonstige Lichtstrahlquelle zur Erzeugung eines strukturierten Lichtstrahls.
  • Der Lichtstrahlquelle 13 ist eine erste Linse 15 zugeordnet, durch welche der erzeugte Lichtstrahl 14 fokussiert wird, bevor er auf das erste Element 2 trifft. Dabei sind die Lichtstrahlquelle 13 und die Linse 15 derart angeordnet und ausgebildet, dass der Lichtstrahl 14 durch die Oberfläche 11 in das Element 2 eingekoppelt wird. Dabei sind die Lichtstrahlquelle 13 und die Linse 15 weiterhin derart angeordnet und ausgebildet, dass der durch die Linse 15 fokussierte Lichtstrahl seinen Fokuspunkt F14 an der Oberfläche 7 aufweist und in einem Winkel abweichend von 90° und damit schräg auf die Oberfläche 7 trifft.
  • Vorzugsweise ist die erste Linse 15 derart ausgebildet, dass sie die Effekte der Brechung des Lichtstrahls 14 an der Oberfläche 11, durch welche der Lichtstrahl 14 in das erste Element 2 eingekoppelt wird, korrigiert oder kompensiert werden. Insbesondere weist die Linse 15 eine dazu eingerichtete Form auf. Vorzugsweise weicht die Linse 15 hierzu von einer rotationssymmetrischen Linse um mehr als 1 µm ab. Alternativ oder zusätzlich ist die Linse 15 zur Korrektur oder Kompensation vorzugsweise um eine insbesondere senkrecht zur Hauptstrahlrichtung des Lichtstrahls oder senkrecht zur Zeichenebene ausgerichteten Achse verkippt. Optional ist die Linse 15 aus mehreren Linsen und/oder Spiegeln gebildet, wobei zumindest eine Linse der Linse 15 von der Rotationssymmetrie um mehr als 1 µm abweicht.
  • 2A zeigt in einer Detailansicht einen mit einem gestrichelten Kasten K1 in 1 markierten Bereich. In diesem Bereich liegt der Fokuspunkt F14 des Lichtstrahls 14 an der ersten Oberfläche 7 des Elements 2. Vorzugsweise unterscheidet sich die Lichtwellenlänge des Lichtstrahls 14 um mehr als 10 nm von der Nutzwellenlänge des Messsystems. Die Oberfläche 7 ist teilreflektierend ausgebildet, sodass der Lichtstrahl 14 an der Oberfläche 7 in einem Teillichstrahl 19 zurück in Richtung der Oberfläche 11 reflektiert wird. Ein weiterer Teillichtstrahl 16 aus dem Lichtstrahl 14 durchdringt die Oberfläche 7 und trifft auf die Oberfläche 8 und wird von dieser zurück in Richtung des Elements 2 reflektiert, wo der Teillichtstrahl 16 durch die Oberfläche 7 erneut in das Element 2 eingekoppelt und zur Oberfläche 11 gelenkt wird, wie in 1 gezeigt. Weil sich der Teillichtstrahl 16 und auch der Teillichtstrahl 19 durch Reflektion auffächern, sind mehrere auffächernde Linien für den jeweiligen Teillichtstrahl 16, 19 in den 1 bis 2B gezeigt.
  • In 1 bis 3 sind beispielhaft mehrere Abstände der Elemente 2 und 3 zueinander eingezeichnet, wobei die Oberfläche 8 des zweiten Elements 3 in einem kleineren Abstand zur Oberfläche 7 mit dem Bezugszeichen 9 und in einem noch kleineren Abstand zu der Oberfläche 7 mit dem Bezugszeichen 10 versehen ist. In Abhängigkeit von dem Abstand wird der schräg auftreffende Teillichtstrahl 16 an unterschiedlichen Stellen reflektiert. So wird der Teillichtstrahl 16 gemäß dem durch die Oberfläche 9 kleineren Abstand als Teillichtstrahl 18 reflektiert und der auf die Oberfläche 10 treffende Teillichtstrahl 16 als Teillichtstrahl 17. Auch die Teillichtstrahlen 17, 18 werden zurück zu dem Element 2 reflektiert, durch die Oberfläche 7 eingekoppelt und durch die Oberfläche 11 ausgekoppelt.
  • Die Messanordnung 1 weist weiterhin eine zweite Linse 20 sowie einen Lichtstrahlsensor 21 auf. Der Lichtstrahlsensor 21 weist eine Sensorfläche 22 auf, die insbesondere eben ausgebildet ist, und auf welcher der Teillichtstrahl 19 und der jeweilige Teillichtstrahl 16, 17 oder 18 durch die Linse 20 derart gelenkt werden, dass jeweils ein Fokuspunkt F19 und F16, F17 oder F18 (in Abhängigkeit von dem vorliegenden Abstand zwischen den Elementen 2,3) auf der Sensorfläche 22 liegt. Der Lichtstrahlsensor 21 ist beispielsweise ein Kamerasensor, insbesondere Zeilenscanner, wobei die Sensorfläche 22 von dem Sensor gebildet ist.
  • Die Linse 15 bildet vorliegend eine erste Fokuseinrichtung und die Linse 20 eine zweite Fokuseinrichtung. Optional weist zumindest eine dieser Fokuseinrichtungen wenigstens ein weiteres optisches Element, wie insbesondere eine Linse und/oder einen Spiegel, auf, um den jeweiligen Lichtstrahl oder Teillichtstrahl vorteilhaft zu fokussieren.
  • Durch das Fokussieren der Teillichtstrahlen auf die Sensorfläche 22 ist deren Position auf der Sensorfläche 22 mittels des Kamerasensors beziehungsweise des Lichtstrahlsensors 21 möglich. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist der Abstand von Lichtstrahlquelle 13, Linse 15, Linse 20 und Lichtstrahlsensor 21 zu dem Element 2 stets gleich beziehungsweise fest. Nur das Element 3 wird auf eine Messposition an das Element 2 angenähert.
  • 2B zeigt hierzu eine Detailansicht gemäß dem gestrichelten Kasten K2 aus 1. Die Linse 20 ist derart ausgebildet, dass sie die aus der Oberfläche 11 beziehungsweise dem Element 2 auskoppelnden Teillichtstrahlen 16 bis 19 auf die Sensorfläche 22 fokussiert.
  • Aufgrund der geometrischen Gegebenheiten sowie bekannten Materialien und damit einhergehenden Brechungsindizes korrespondiert die Verschiebung beziehungsweise der Abstand der Fokuspunkte F19 und F16 voneinander dem Abstand der Oberflächen 7 und 8 zueinander. Ebenso entspricht die Verschiebung des Fokuspunkts F19 dem zu dem Fokuspunkt F17 dem Abstand der Oberfläche 7 zu der Oberfläche 10 beziehungsweise dem kleinsten vorliegend gezeigten Abstand der Elemente 2,3 zueinander. Entsprechend entspricht der Abstand des Fokuspunkts F19 zu dem Fokuspunkt F18 dem Abstand der Oberfläche 7 zu der Oberfläche 9 beziehungsweise dem gezeigten mittleren Abstand.
  • Somit kann mittels einer Messanordnung 1 der Abstand sowohl zwischen Oberflächen 7, 8 also zwischen den reflektierenden Oberflächen oder Grenzflächen der Beschichtungen 9 und 10 erfasst werden. In der Annahme, dass die Beschichtungen 9, 10 eine bekannte Stärke aufweisen, können die Abstände der Fokuspunkte F17, F16 und F18 zueinander als Referenzwerte für die Kalibrierung des Lichtstrahlsensors 21 genutzt werden, um dann den korrekten Maßstab zur Beurteilung des Abstands der Oberfläche 7 zu der Oberfläche 8 zu ermitteln.
  • Die Linsen 15 und 20 besitzen insbesondere eine xy-Polynombeschreibung auf einer Seite, sind also nicht rotationssymmetrische Asphären. Durch den Symmetriebruch ist der Abbildungsfehler aufgrund der schrägen Einkopplung in das Element 2 vorteilhaft korrigiert.
  • Durch die vorteilhafte Messanordnung 1 ist es möglich, Abstandsmessgenauigkeiten von bis zu 1 µm in einem Messbereich von bis zu 10 mm zu erreichen. Ist der Lichtstrahlsensor 21 als Zeilenkamera ausgebildet, so wird die Vermessung in einer Messzeit von weniger als 10 µs durchgeführt.
  • Durch die vorteilhafte Ausbildung der Messanordnung 1 sind der Sender, also die Lichtstrahlquelle 13 und die erste Linse 15, sowie der Empfänger, also der Lichtstrahlsensor 21 und die zweite Linse 20, außerhalb des Betriebsstrahlengangs 12 angeordnet. Der Sender und der Empfänger bilden somit zusammen mit dem optischen Element 2 eine vorteilhafte Abstandsmessvorrichtung 23 aus. Dadurch ist eine vorteilhafte Integration der Messanordnung 1 beziehungsweise der Abstandsmessvorrichtung in das Vermessungssystem 4 geboten, wodurch auch eine in-situ Vermessung des Abstands gewährleistet ist.
  • Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel werden die Lichtstrahlen dabei durch die Oberfläche 11, die auf der von der Oberfläche 7 abgewandten Seite des Elements 2 ausgebildet ist, ein- und ausgekoppelt. In diesem Ausführungsbeispiel liegen dabei die Einkoppel- und Auskoppelstellen innerhalb des Betriebsstrahlengangs 12. Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel liegt zumindest die Einkoppelstelle oder die Auskoppelstelle außerhalb des Betriebsstrahlengangs 12. Auch können sowohl Einkoppelstelle als auch die Auskoppelstellen außerhalb des Betriebsstrahlengangs 12 liegen. Optional sind die Oberflächen 7 und 11 im Bereich der jeweiligen Koppelstelle mit einer Beschichtung mit einem vorbestimmten Brechungsindex versehen, durch welche das Ein- und Auskoppeln verbessert wird.
  • 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Messanordnung 1 in dem Vermessungssystem 4. In diesem Fall weist die Abstandsmessvorrichtung 23 zwei der Messanordnungen 1, nämlich eine Messanordnung 1A und eine Messanordnung 1B, auf. Die Messanordnung 1A und 1B sind zumindest im Wesentlichen gemäß der Messanordnung 1 von 1 ausgebildet, mit den im Folgenden erläuterten Unterschieden, die jeweils alleine oder in Kombination auch bei der Messanordnung in 1 realisiert werden können. Gleiche Elemente sind mit den gleichen Bezugszeichen versehen, wobei zur Unterscheidung der Messanordnungen 1A und 1B voneinander, dem jeweiligen Bezugszeichen zusätzlich ein A beziehungsweise B zugeordnet ist.
  • Die Messanordnung 1A unterscheidet sich von der Messanordnung 1 dadurch, dass die Lichtstrahlquelle 13A und die Linse 15A derart angeordnet und ausgerichtet sind, dass der Lichtstrahl 14A der ersten Messanordnung 1A nicht durch die Oberfläche 11, sondern durch eine seitlich zu der Oberfläche 7 angeordnete Oberfläche 24 beziehungsweise Seitenfläche in das Element 2 eingekoppelt wird. Die reflektierten Teilstrahlen 15A und 16A werden aus der Oberfläche 11 im Bereich des Betriebsstrahlengangs 12 ausgekoppelt, sodass sie wie zuvor beschrieben auf den Empfänger aus Linse 20 und Lichtstrahlsensor 21, insbesondere Zeilenkamera, treffen.
  • Die Messanordnung 1B unterscheidet sich von der Messanordnung 1 dadurch, dass der durch die Lichtstrahlquelle 13B erzeugte Lichtstrahl 14B mittels der Linse 15 durch die Oberfläche 11 in das Element 2 eingekoppelt und wie zuvor beschrieben an den Oberflächen 7, 8 reflektiert wird. Im Unterschied zu dem vorherigen Ausführungsbeispiel werden die reflektierten Teilstrahlen 19B und 16B jedoch nicht im Bereich des Betriebsstrahlengangs 12, sondern in einem dazu beabstandeten und benachbarten Abschnitt der Oberfläche 11 aus dem Element 2 ausgekoppelt und der zweiten Linse 20B und dem zweiten Lichtstrahlsensor 21B zugeführt. Durch die Abstandsmessvorrichtung 23 ist nunmehr nicht nur der Abstand, sondern auch eine Ausrichtung der Elemente 2 und 3 zueinander in einem Messvorgang auf einfache Weise ermittelbar.
  • Vorzugsweise weist die Messvorrichtung zumindest eine weitere Messanordnung 1C auf, die entsprechend der Messanordnungen 1, 1A oder 1B, oder einer Kombination daraus, ausgebildet ist. Die drei Messanordnungen 1A, 1B und 1C sind derart ausgebildet, dass sie den Abstand zwischen Elementen 2 und 3 beziehungsweise zwischen Oberflächen 7 und 8 an drei unterschiedlichen Stellen erfassen, die nicht in einer Linie liegen, sodass die dreidimensionale Ausrichtung der Elemente 2, 3 zueinander erfassbar ist.
  • Optional weist das Vermessungssystem 4 einen ansteuerbaren Aktuator 25 auf, mittels dessen die Messmatrize 6 beziehungsweise das Element 2 relativ zu dem Prüfling 5 beziehungsweise zu dem Element 3 verlagerbar ist, um beispielsweise die Ausrichtung der Oberflächen 7,8 zueinander anzupassen. Somit ist es in Kombination mit den Messanordnungen 1 und/oder 1A, 1B und 1C beziehungsweise mit der Abstandsmessvorrichtung 23 möglich, eine Ausrichtung von Prüfling und Matrize zueinander zu erreichen, ohne dass diese auf einander treffen in dem der Aktuator 25 in Abhängigkeit von dem Messergebnis angesteuert wird.
  • 4 zeigt hierzu ein vorteilhaftes Betriebsverfahren zum Betreiben des Messsystems 4. In einem ersten Schritt S 1 wird der Messvorgang gestartet und die jeweilige Lichtstrahlquelle 13 oder 13A, 13B und/oder 13C aktiviert. In dem darauffolgenden Schritt S2 werden mittels der Lichtstrahlsensoren, insbesondere Zeilenkameras, die Fokuspunkte F19 und - je nach eingestelltem Abstand - F16, F18 oder F17 erfasst, und deren Abstand zueinander auf der jeweiligen Sensorfläche 22 bzw. 22A, 22B, 22C ermittelt.
  • Im darauffolgenden Schritt S3 wird in Abhängigkeit der erfassten Abstände der Fokuspunkte zueinander der Abstand der Oberfläche 7 zur Oberfläche 8 an den Reflektionspunkten berechnet, wobei die Geometrie und Brechungsindizes der Abstandsmessvorrichtung 23 berücksichtigt werden.
  • Im darauffolgenden Schritt S4 wird geprüft, ob einer oder mehrere der erfassten Abstände einen vorgegebenen Grenzwert unterschreitet oder überschreitet, und/oder ob eine Ausrichtung der Oberfläche 7 zu der Oberfläche 8 einer Soll-Ausrichtung entspricht. Ist dies nicht der Fall (n) wird der Aktuator 25 in einem Schritt S5 dazu angesteuert, die Ausrichtung der Messmatrize 6 zum Korrigieren der Abstände und/oder der Ausrichtung zu verändern. Durch das Ermitteln des oder der Abstände wird dabei sichergestellt, dass der Aktuator derart angesteuert wird, dass die Messmatrize 6 nicht auf den Prüfling 5 trifft. Sobald der Abstand und/oder die Ausrichtung den gewünschten Werten entsprechen (j), wird das Verfahren im Schritt S6 beendet und das Vermessungssystem 4 kann mit der eigentlichen Formvermessung der Oberfläche 8 des Prüflings 2 beginnen.
  • Bei sphärischen oder annähernd sphärischen Flächen reichen drei Messpositionen oder drei der Messanordnungen aus, um eine Kollision der Elemente 2,3 miteinander zu vermeiden. Die Abweichung von einer Sphärenform muss kleiner sein als der geringste erlaubte Abstand. Bei starken Freiformflächen sind vorzugsweise 6 Messanordnungen oder Messpositionen vorhanden, um alle sechs Freiheitsgrade (x,y,z-Verschiebungen, sowie Rotation um x,y,z-Achsen) zu bestimmen, so dass eine Kollision sicher vermieden wird.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102021202909 [0004, 0008, 0027]

Claims (15)

  1. Messanordnung (1) zum Bestimmen zumindest eines Abstands zwischen einem ersten und einem zweiten optischen Element (2,3), wobei das erste Element (2) lichtdurchlässig als Messmatrize (6) ausgebildet ist und eine teilreflektierende erste Oberfläche (7) aufweist, wobei das zweite optische Element (3) als EUV-Spiegel ausgebildet ist und eine zumindest teilreflektierende zweite Oberfläche (8) aufweist, und wobei die erste Oberfläche (7) der zweiten Oberfläche (8) mit dem zu erfassenden Abstand gegenüberliegt, mit einer Lichtstrahlquelle (13) und einem Lichtstrahlsensor (21), wobei ein von der Lichtstrahlquelle (13) erzeugter Lichtstrahl (14) durch eine von der ersten Oberfläche (7) verschiedenen Oberfläche (11) in das erste optische Element (2) derart einkoppelt wird, dass ein erster Teillichtstrahl (19) von der ersten Oberfläche (7) und ein zweiter, die erste Oberfläche (7) durchdringender Teillichtstrahl (16) von der zweiten Oberfläche (8) jeweils zurück in das erste optische Element (2) reflektiert werden, und wobei der Lichtstrahlsensor (21) derart angeordnet ist, dass er beide Teillichtstrahlen (19,16) erfasst, um in Abhängigkeit der erfassten Teillichtstrahlen (19,16) den Abstand zu bestimmen.
  2. Messanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine erste Fokuseinrichtung, mit wenigstens einer Linse (15) und/oder einem Spiegel, zwischen der Lichtstrahlquelle (21) und dem ersten Element (2) angeordnet und derart ausgebildet ist, dass sie den Lichtstrahl (14) an der ersten Oberfläche (7) auf einen ersten Fokuspunkt (F14) fokussiert.
  3. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtstrahlquelle (13) und der Lichtstrahlsensor (21) auf einer von dem zweiten Element (3) abgewandten Seite des ersten Elements (2) angeordnet sind.
  4. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem ersten Element (2) und dem Lichtstrahlsensor (21) wenigstens eine zweite Fokuseinrichtung mit zumindest einer Linse (20) und/oder zumindest einem Spiegel angeordnet ist, durch welche die Teillichtstrahlen (19,16) auf den Lichtstrahlsensor (21) gelenkt werden.
  5. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Linse (15) der ersten und/oder zweiten Fokuseinrichtung nicht-rotationssymmetrisch ausgebildet ist und insbesondere eine Abweichung von einer Rotationssymmetrie von mehr als 1 µm, insbesondere mehr als 10 µm aufweist.
  6. Messanordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Linse (20) dazu ausgebildet und angeordnet ist, die Teillichtstrahlen (19,16) auf den Lichtstahlsensor (21) zu fokussieren, so dass jeder Teillichtstrahl (19,16) einen eigenen Fokuspunkt (F19, F16) aufweist, der von dem Lichtstrahlsensor (21) erfassbar ist.
  7. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Lichtstrahlsensor (21) eine ebene Sensorfläche (22) aufweist, und dass die wenigstens eine zweite Linse (20) dazu ausgebildet und angeordnet ist, die Teillichtstrahlen (19,16) auf die Sensorfläche (22) zu fokussieren.
  8. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtstrahlquelle (13) und die erste Linse (15) derart angeordnet sind, dass der erzeugte Lichtstrahl (14) durch eine der ersten Oberfläche (7) gegenüberliegenden Oberfläche (11) in das erste Element (2) eingekoppelt wird.
  9. Messanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,7dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtstrahlquelle (13) und die erste Linse (15) derart angeordnet sind, dass der erzeugte Lichtstrahl (14) durch eine zu der ersten Oberfläche (7) seitlich angeordneten Oberfläche (24) des ersten Elements (2) in das erste Element (2) eingekoppelt wird.
  10. Messanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche (8) des zweiten Elements (2) nicht-sphärisch, insbesondere asphärisch oder als Freiformfläche ausgebildet ist.
  11. Abstandsmessvorrichtung (23) zum Erfassen des Abstands zwischen einem ersten und einem zweiten Element (2,3), wobei das erste Element (2) lichtdurchlässig ausgebildet ist und eine teilreflektierende erste Oberfläche (7) aufweist, wobei das zweite optische Element (3) eine zumindest teilreflektierende zweite Oberfläche (8) aufweist, wobei die erste Oberfläche (7) der zweiten Oberfläche (8) mit dem zu erfassenden Abstand gegenüberliegt, gekennzeichnet durch wenigstens eine Messanordnung (1; 1A,1B,1C) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10.
  12. Abstandsmessvorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch zwei, drei oder sechs Messanordnungen (1A,1B,1C) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Fokuspunkte (F19, F16) der Lichtstrahlen (14A,14B) beabstandet zueinander an der ersten Oberfläche (7) des ersten optischen Elements (2) liegen.
  13. Optisches Vermessungssystem (4), insbesondere Matrizenmesssystem, zum Prüfen der Form einer optischen Oberfläche eines Prüflings (5) mittels einer optischen Messmatrize (6) als erstes optisches Element (2), wobei der Prüfling (5) als zweites optisches Element (3) der Messmatrize (6) gegenüberliegend anordenbar ist, wobei optional ein Abstand und/oder eine Ausrichtung des ersten optischen Elements (2) zu dem zweiten optischen Element (3) mittels wenigstens einem Aktuator (25) veränderbar ist gekennzeichnet durch eine Abstandsmessvorrichtung (23) nach einem der Ansprüche 11 oder 12.
  14. Optisches Vermessungssystem (4) nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass sich ein Strahlengang des jeweiligen Lichtstrahls (14) der zumindest einen Messanordnung (1, 1A, 1B, 1C) von einem Betriebsstrahlengang (12) des Vermessungssystems (4) zur Oberflächenformvermessung unterscheidet, wozu insbesondere die Lichtstrahlquelle (13) und die erste Linse (15), sowie der Lichtstrahlsensor (21) und die zweite Linse (20) jeder Messanordnung (1, 1A, 1B, 1C) der Abstandsmessvorrichtung (23) außerhalb eines Betriebsstrahlengangs (12) des Vermessungssystems (4) angeordnet sind.
  15. Verfahren zum Erfassen eines Abstands von einem ersten optischen Element (2) zu einem zweiten optischen Element (3), insbesondere mittels einer Abstandsmessvorrichtung (23) nach einem der Ansprüche 13 oder 14, wobei das erste Element (2) lichtdurchlässig ausgebildet ist und eine teilreflektierende erste Oberfläche (7) aufweist, wobei das zweite optische Element (3) eine zumindest teilreflektierende zweite Oberfläche (8) aufweist, und wobei die erste Oberfläche (7) der zweiten Oberfläche (8) mit dem zu erfassenden Abstand gegenüberliegt, dadurch gekennzeichnet, dass eine Lichtstrahlquelle (13) derart angesteuert wird, dass ein Lichtstrahl (14) durch eine von der ersten Oberfläche (7) des ersten Elements (2) verschiedene Oberfläche (11,24) in das erste optische Element (2) eingekoppelt wird, so dass ein erster Teillichtstrahl (19) von der ersten Oberfläche (7) und ein zweiter, die erste Oberfläche (7) durchdringender Teillichtstrahl (16) von der zweiten Oberfläche (8) jeweils zurück in das erste optische Element (2) reflektiert werden, wobei die beiden Teillichtstrahlen (19,16) erfasst werden und wobei in Abhängigkeit der erfassten Teillichtstrahlen (19,16) der Abstand der ersten und der zweiten Oberfläche (7,8) zueinander ermittelt wird.
DE102022207358.4A 2022-07-19 2022-07-19 Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren Pending DE102022207358A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102022207358.4A DE102022207358A1 (de) 2022-07-19 2022-07-19 Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren
PCT/EP2023/069965 WO2024017914A1 (de) 2022-07-19 2023-07-18 Messanordnung zum erfassen eines abstands zwischen zwei elementen, abstandsmessvorrichtung, optisches vermessungssystem und verfahren

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102022207358.4A DE102022207358A1 (de) 2022-07-19 2022-07-19 Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102022207358A1 true DE102022207358A1 (de) 2024-01-25

Family

ID=87426940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102022207358.4A Pending DE102022207358A1 (de) 2022-07-19 2022-07-19 Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102022207358A1 (de)
WO (1) WO2024017914A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024017914A1 (de) 2022-07-19 2024-01-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Messanordnung zum erfassen eines abstands zwischen zwei elementen, abstandsmessvorrichtung, optisches vermessungssystem und verfahren

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008031412A1 (de) 2008-07-02 2010-01-28 Nanofocus Ag Vorrichtung und Verfahren zur Beobachtung mehrerer auf einer Linie angeordneter Messpunkte auf einer zu vermessenden Objektoberfläche
US9188874B1 (en) 2011-05-09 2015-11-17 Kenneth C. Johnson Spot-array imaging system for maskless lithography and parallel confocal microscopy
US20160266503A1 (en) 2015-03-11 2016-09-15 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for inspection and metrology
US20180120714A1 (en) 2015-05-04 2018-05-03 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for inspection and metrology
DE102021202909A1 (de) 2021-03-25 2022-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5638178A (en) * 1995-09-01 1997-06-10 Phase Metrics Imaging polarimeter detector for measurement of small spacings
US6312373B1 (en) * 1998-09-22 2001-11-06 Nikon Corporation Method of manufacturing an optical system
KR100496162B1 (ko) * 2003-03-26 2005-06-20 한국전자통신연구원 레이저 변위센서의 기준 거리를 변경하는 장치
DE102022207358A1 (de) 2022-07-19 2024-01-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, optisches Vermessungssystem und Verfahren

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008031412A1 (de) 2008-07-02 2010-01-28 Nanofocus Ag Vorrichtung und Verfahren zur Beobachtung mehrerer auf einer Linie angeordneter Messpunkte auf einer zu vermessenden Objektoberfläche
US9188874B1 (en) 2011-05-09 2015-11-17 Kenneth C. Johnson Spot-array imaging system for maskless lithography and parallel confocal microscopy
US20160266503A1 (en) 2015-03-11 2016-09-15 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for inspection and metrology
US20180120714A1 (en) 2015-05-04 2018-05-03 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for inspection and metrology
DE102021202909A1 (de) 2021-03-25 2022-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024017914A1 (de) 2022-07-19 2024-01-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Messanordnung zum erfassen eines abstands zwischen zwei elementen, abstandsmessvorrichtung, optisches vermessungssystem und verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
WO2024017914A1 (de) 2024-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102013004043B4 (de) Messverfahren für eine asphärische Oberfläche, Messvorrichtung für eine asphärische Oberfläche, Fertigungsvorrichtung für ein optisches Element und optisches Element
EP0370229A2 (de) Interferometrisches Verfahren zur Prüfung von asphärische Wellenfronten erzeugenden optischen Elementen
EP2458363A1 (de) Messung der Positionen von Krümmungsmittelpunkten optischer Flächen eines mehrlinsigen optischen Systems
DE102016109909A1 (de) Vorrichtung zur Prozessüberwachung bei der Laserbearbeitung
WO2009121541A1 (de) Vorrichtung zur mikrolithographischen projektionsbelichtung sowie vorrichtung zur inspektion einer oberfläche eines substrats
DE19919804A1 (de) Autofokus-System
WO2024017914A1 (de) Messanordnung zum erfassen eines abstands zwischen zwei elementen, abstandsmessvorrichtung, optisches vermessungssystem und verfahren
WO2019233685A1 (de) Computer-generiertes hologramm (cgh), sowie verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines optischen elements
DE102020211696A1 (de) Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
WO2009121546A1 (de) Vorrichtung zur mikrolithographischen projektionsbelichtung und verfahren zum prüfen einer derartigen vorrichtung
EP1918687A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Lage einer Symmetrieachse einer asphärischen Linsenfläche
DE102012106779A1 (de) Optik für Strahlvermessung
DE102020211700A1 (de) Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage
WO2024056501A1 (de) Verfahren zum bearbeiten eines referenzelements für ein interferometer
DE10303659B4 (de) Optisches Messverfahren zur Ermittlung von Idealformabweichungen technisch polierter Oberflächen und Präzisionsmessmaschine zur Durchführung des Messverfahrens
WO2023160929A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum vermessen von wafern
WO2005022127A2 (de) Vorrichtung zur vermessung eines flächigen elementes
DE10224317A1 (de) Verfahren zur Kalibrierung eines Radienprüfplatzes
DE102014010667A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes
DE102006060584B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Verschiebungen und/oder einer Geometrie von Mikrostrukturen
DE102019217629B4 (de) Verfahren zur Ausrichtung eines Interferometers
DE102021117104A1 (de) Kalibriernormal zur Messung des Winkels zwischen einer optischen Achse eines Autokollimators und einer mechanischen Linearachse
DE202012102794U1 (de) Optik für Strahlvermessung
EP3762692B1 (de) Vorrichtung zur bestimmung einer fokuslage in einem laserbearbeitungssystem, laserbearbeitungssystem mit derselben und verfahren zur bestimmung einer fokuslage in einem laserbearbeitungssystem
DE102020210886A1 (de) Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed