CZ2020232A3 - Způsob zobrazení vzorku - Google Patents

Způsob zobrazení vzorku Download PDF

Info

Publication number
CZ2020232A3
CZ2020232A3 CZ2020-232A CZ2020232A CZ2020232A3 CZ 2020232 A3 CZ2020232 A3 CZ 2020232A3 CZ 2020232 A CZ2020232 A CZ 2020232A CZ 2020232 A3 CZ2020232 A3 CZ 2020232A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
sample
scanning
primary electron
electron microscope
scanning element
Prior art date
Application number
CZ2020-232A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ309537B6 (cs
Inventor
Jiří DLUHOŠ
Jiří Ing. Dluhoš
Original Assignee
Tescan Brno, S.R.O.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tescan Brno, S.R.O. filed Critical Tescan Brno, S.R.O.
Priority to CZ2020-232A priority Critical patent/CZ309537B6/cs
Priority to EP21792980.1A priority patent/EP4139947A4/en
Priority to PCT/CZ2021/050044 priority patent/WO2021213560A1/en
Priority to US17/996,925 priority patent/US12288665B2/en
Publication of CZ2020232A3 publication Critical patent/CZ2020232A3/cs
Publication of CZ309537B6 publication Critical patent/CZ309537B6/cs

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472—Deflecting along given lines
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472—Deflecting along given lines
    • H01J37/1474—Scanning means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1536—Image distortions due to scanning

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

Předmětem vynálezu je způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího nanejvýš jednu aktivní objektivovou čočku (7) umístěnou nad prvním rastrovacím prvkem (8) a druhým rastrovacím prvkem (9). Předmět vynálezu spočívá ve vychylování svazku primárních elektronů zaostřeného objektivovou čočkou (7) takovým způsobem, že od druhého rastrovacího prvku (9) se svazek primárních elektronů šíří směrem ke vzorku (10) přibližně paralelně s optickou osou (13) REM, kdy vzorek (10) je zároveň vůči optické ose (13) REM nakloněn o úhel jiný než 90° nebo se jedná o vzorek (10) s výraznou topografií.

Description

Způsob zobrazení vzorku
Oblast techniky
Vynález se týká způsobu zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu a zejména způsobu zobrazení nakloněného vzorku a vzorku s výraznou topografií.
Dosavadní stav techniky
Rastrovací elektronové mikroskopy (REM) se obvykle skládají ze zdroje primárních elektronů, alespoň jedné kondenzorové čočky a apertumí clony, přičemž kondenzorová čočka reguluje v součinnosti s apertumí clonou proud svazku primárních elektronů, alespoň jedné objektivové čočky, rastrovacích a centrovacích prvků a detektoru signálních elektronů. Jak je popsáno například v patentu CZ306807, obvykle jsou tyto prvky uspořádány pod sebou tak, že svazek primárních elektronů ze zdroje primárních elektronů nejprve prochází kondenzorovou čočkou dále prochází centrovacími prvky, rastrovacími prvky a objektivovou čočkou. V odlišném uspořádání může svazek elektronů předtím, než projde rastrovacími prvky a poté, co projde centrovacími prvky, procházet také přes další objektivovou čočku, tak jak je popisováno ve zmíněném patentu. Objektivové čočky jsou obvykle elektromagnetické. Elektromagnetická čočka je tvořena cívkou, kterou protéká proud, a obalem z magnetického materiálu, tvořícího součást magnetického obvodu čočky. V místě, kde je obal cívky přerušen, vzniká mezi tzv. pólovými nástavci magnetické pole, které formuje svazek elektronů. V jednom zmožných provedení může být elektromagnetická čočka tzv. konvenční. Konvenční čočka má dva pólové nástavce s axiální mezerou, v níž magnetické pole čočky lokálně ovlivňuje proud primárních elektronů (elektronový svazek) a nedosahuje podstatným způsobem do oblasti vzorku.
Elektromagnetické čočky lze také nahradit čočkami elektrostatickými, které využívají namísto cívek elektrody, případně lze vytvořit čočku kombinovanou spojením cívek, magnetického obvodu a elektrod.
Takovéto REM umožňují zpravidla různé zobrazovací režimy na základě požadovaných parametrů výsledného obrazu, mezi které patří rozlišení nebo hloubka ostrosti daná velikostí apertumího úhlu. Rozlišení je dáno velikostí stopy, kterou vytváří primární elektrony při dopadu na vzorek, přičemž velikost stopy je taktéž ovlivňována velikostí apertumího úhlu. Jedním z možných zobrazovacích režimů je zobrazovací režim s velkým apertumím úhlem, při kterém je hloubka ostrosti nízká a rozlišení vysoké. Dalším z možných zobrazovacích režimů je naopak zobrazovací režim s malým apertumím úhlem, při kterém je hloubka ostrosti vysoká, avšak rozlišení je nízké. Další z požadovaných parametrů výsledného obrazu je velikost zorného pole, tato vlastnost je ovlivňována mimo jiné umístěním středobodu rastrování (pivotu), kterým procházejí dráhy primárních elektronů při rastrování po vzorku, přičemž tento pivot se obvykle nachází na úrovni objektivové čočky, nacházející se za rastrovacími prvky podél optické osy REM ve směru šíření svazku primárních elektronů, případně mezi zmíněnou objektivovou čočkou a rastrovacími prvky. V případě zobrazovacího režimu s velkým apertumím úhlem se pro dosažení co největšího rozlišení pivot nachází na úrovni objektivové čočky, nacházející se za rastrovacími prvky podél optické osy REM ve směm šíření svazku primárních elektronů, tím pádem je však zorné pole minimální. V případě požadavku na velké zorné pole se pivot nachází nad úrovní objektivové čočky, nacházející se za rastrovacími prvky podél optické osy REM ve směm šíření svazku primárních elektronů, a pod rastrovacími prvky.
Ve všech výše zmíněných zobrazovacích režimech dochází při rastrování svazku primárních elektronů pomocí středového promítání na vzorek, což vede k dopadu svazku na vzorek pod určitým úhlem vůči danému bodu snímání na vzorku. Zkreslení zobrazení je ještě zvýrazněno perspektivním zkreslením, pokud se jedná zejména o vzorky nakloněné vůči kolmici k optické ose
- 1 CZ 2020 - 232 A3
REM nebo o vzorky s výraznou topografií. Zkreslení je způsobeno tedy tím, že se vzdálenější objekty jeví zdánlivě menší než objekty blízké. Toto zkreslení je nežádoucí při vytváření panoramatického snímku.
Panoramatický snímek vzniká složením více snímků snímaných z větší plochy vzorku. Toto zkreslení je tak nežádoucí, jelikož znesnadňuje přesné spojení panoramatického snímku při jeho vytváření za použití pohybu vzorku bez výrazné topografie a úplně znemožňuje přesné spojení panoramatického snímku u vzorků s výraznou topografií. Při středovém rastrování svazkem primárních elektronů přes vzorek nedopadá tento svazek na každý bod vzorku pod stejným úhlem, ale tento úhel se mění, což způsobuje získání zkreslené informace pro techniky citlivé na úhel dopadu svazku, například elektronovou difrakci, nebo kanálovací efekt elektronů.
Bylo by tedy vhodné přijít s řešením, které by umožňovalo zobrazení nakloněného vzorku nebo vzorku s výraznou topografií bez zkreslení výsledného obrazu a zároveň bez nutnosti použití dalších fýzických prvků ovlivňujících směr průchodu svazku primárních elektronů nebo signálních elektronů.
Podstata vynálezu
Výše uvedeného cíle je dosaženo prostřednictvím způsobu zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího tubus rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře, přičemž tubus rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku, apertumí clonu, první rastrovací prvek a druhý rastrovací prvek, nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku, jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem a kondenzorovou čočkou, přičemž pracovní komora obsahuje držák vzorku a vzorek umístěný na držáku vzorku, jehož podstata spočívá v tom, že svazek primárních elektronů, jež jsou emitovány zdrojem primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku, apertumí clonu a objektivovou čočku, je prvním rastrovacím prvkem a druhým rastrovacím prvkem vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek dopadal na vzorek paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu naplňuje výše uvedený cíl tak, že dochází k vychylování svazku primárních elektronů při rastrování přes vzorek takovým způsobem, že svazek primárních elektronů dopadá na vzorek přibližně paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Svazek primárních elektronů tedy dopadá na každý bod vzorku pod stejným úhlem a nedochází tak ke zkreslení výsledného obrazu.
Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího tubus rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře, přičemž tubus rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku, apertumí clonu, první rastrovací prvek a druhý rastrovací prvek, nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku, jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem a kondenzorovou čočkou, přičemž pracovní komora obsahuje držák vzorku a vzorek umístěný na držáku vzorku, přičemž vzorek má výškový rozdíl alespoň 10 run mezi nej vyšším bodem vzorku a nej nižším bodem vzorku v ose rovnoběžné s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu, j ehož podstata spočívá v tom, že svazek primárních elektronů, j ež j sou emitovány zdrojem primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku, apertumí clonu a objektivovou čočku, je prvním rastrovacím prvkem a druhým rastrovacím prvkem vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek dopadal na vzorek paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu naplňuje výše uvedený cíl zobrazení vzorku s výraznou topografií tak, že dochází k vychylování svazku primárních elektronů při rastrování přes vzorek takovým způsobem, že svazek primárních elektronů dopadá na vzorek s výraznou topografií přibližně paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Svazek primárních elektronů tedy dopadá na každý
-2 CZ 2020 - 232 A3 bod vzorku pod stejným úhlem a nedochází tak ke zkreslení výsledného obrazu a vzniku nepřesností snímání vlivem snímání vzorku s výraznou topografií pod rozličnými úhly dopadu svazku primárních elektronů na jednotlivé body na vzorku.
Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího tubus rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře, přičemž tubus rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku, apertumí clonu, první rastrovací prvek a druhý rastrovací prvek, nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku, jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem a kondenzorovou čočkou, přičemž pracovní komora obsahuje držák vzorku umístěný tak, že je nakloněn vůči optické ose tubusu rastrovacího elektronového mikroskopu o úhel jiný než 90°, a vzorek umístěný na držáku vzorku, jehož podstata spočívá v tom, že svazek primárních elektronů, jež jsou emitovány zdrojem primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku, apertumí clonu a objektivovou čočku, je prvním rastrovacím prvkem a druhým rastrovacím prvkem vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek dopadal na vzorek paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu naplňuje výše uvedený cíl zobrazení nakloněného vzorku tak, že dochází k vychylování svazku primárních elektronů při rastrování přes vzorek takovým způsobem, že svazek primárních elektronů dopadá na nakloněný vzorek přibližně paralelně s optickou osou rastrovacího elektronového mikroskopu. Svazek primárních elektronů tedy dopadá na každý bod vzorku pod stejným úhlem a nedochází tak ke zkreslení výsledného obrazu a vzniku nepřesností snímání vlivem perspektivní projekce při snímání nakloněného vzorku, což umožňuje mimo jiné přesné spojení sousedících snímků při snímání plochy větší než je jedno zorné pole za pomoci pohybu vzorku.
Objasnění výkresů
Podstata vynálezu j e dále obj asněna na příkladech j eho uskutečnění, které j sou popsány s využitím připojených výkresů, kde na:
Obr. 1 je schematicky znázorněno uspořádání jednotlivých prvků REM.
Obr. 2 je schematicky znázorněn průběh šíření svazku primárních elektronů tubusem REM a při dopadu na vzorek nakloněný vůči optické ose REM o úhel jiný, než je 90°.
Obr. 3 je schematicky znázorněn průběh šíření svazku primárních elektronů tubusem REM a při dopadu na vzorek s výraznou topografií.
Obr. 4 je schematicky znázorněn detail vzorku s výraznou topografií a svazek primárních elektronů na něj dopadající.
Příklady uskutečnění vynálezu
Uvedená uskutečnění znázorňují příkladné varianty provedení vynálezu, která však nemají z hlediska rozsahu ochrany žádný omezující vliv.
Příkladem provedení vynálezu je způsob snímání vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu 1 (REM) viditelného na obr. 1. REM obsahuje pracovní komoru 3 a tubus 2 REM připojený k pracovní komoře 3. Pracovní komora 3 a tubus 2 REM jsou uzpůsobeny pro umožnění vzniku tlaku nižšího uvnitř pracovní komory 3 a tubusu 2 REM, než je tlak atmosférický, pomocí čerpacího systému připojeného k pracovní komoře 3 a tubusu 2 REM.
-3CZ 2020 - 232 A3
Pracovní komora 3 obsahuje držák 11 vzorku. Držák 11 vzorku obsahuje kontaktní část uzpůsobenou k umístění vzorku 10. V prvním příkladném provedení držáku 11 vzorkuje držák 11 vzorku naklonitelný kolem tří navzájem kolmých os. Ve druhém příkladném provedení držáku 11 vzorku je držák 11 vzorku naklonitelný kolem jedné osy. V jednom z příkladných provedení pracovní komory 3 je držák 11 vzorku umístěn na manipulačním stolku 12. Manipulační stolek 12 je uzpůsoben pro posuv podél alespoň dvou navzájem kolmých os, jež jsou v jednom z příkladných provedení manipulačního stolku 12 zároveň kolmé na optickou osu 13 REM. Pracovní komora dále obsahuje detektor signálních částic, jako jsou například sekundární elektrony, zpětně odražené elektrony nebo charakteristické rentgenové záření.
Tubus 2 REM obsahuje zdroj 4 primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku 5, apertumí clonu 6, nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku 7 a první rastrovací prvek 8 a druhý rastrovací prvek 9, přičemž všechny tyto prvky jsou umístěny uvnitř tubusu 1 REM. Zdroj 4 primárních elektronů je uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů. Zdroj 4 primárních elektronů může být například termoemisní nebo autoemisní zdroj. Kondenzorová čočka 5 je umístěna za zdrojem 4 primárních elektronů podél optické osy 13 REM ve směru šíření svazku primárních elektronů. Kondenzorová čočka 5 je uzpůsobena pro úpravu svazku primárních elektronů, přičemž v jednom z příkladných provedení je v součinnosti s apertumí clonou 6 uzpůsobena pro úpravu velikosti proudu svazku primárních elektronů. První rastrovací prvek 8 a druhý rastrovací prvek 9 jsou uzpůsobeny pro působení silovým polem na svazek primárních elektronů, který jev závislosti na tomto působení vychylován vůči optické ose 13 REM. První rastrovací prvek 8 a druhý rastrovací prvek 9 mohou být provedeny jako elektromagnetické rastrovací cívky nebo jako elektrostatické rastrovací elektrody. Apertumí clona 6 je umístěna za kondenzorovou čočkou 5 podél optické osy 13 REM ve směru šíření svazku primárních elektronů. Objektivová čočka 7 se nachází za apertumí clonou 6 podél optické osy 13 REM ve směm šíření svazku primárních elektronů. Objektivová čočka 7 je uzpůsobena pro zaostřování svazku primárních elektronů tak, aby svazek primárních elektronů dopadal na vzorek 10 s požadovaným apertumím úhlem. Aktivní objektivovou čočkou 7 je myšlen takový stav objektivové čočky 7, při kterém objektivová čočka 7 zaostřuje svazek primárních elektronů. První rastrovací prvek 8 se nachází za objektivovou čočkou 7 podél optické osy 13 REM ve směm šíření svazku primárních elektronů. Druhý rastrovací prvek 9 se nachází za prvním rastrovacím prvkem 8 podél optické osy 13 REM ve směm šíření svazku primárních elektronů.
V prvním příkladném provedení konfigurace držáku 11 vzorku a vzorku 10 viditelném na obr. 2 je držák 11 vzorku se vzorkem 10 nakloněn vůči optické ose 13 REM tak, že zobrazovaná rovina vzorku 10 je nakloněna vůči optické ose 13 REM o úhel jiný než je 90° a zároveň jiný než 0° a vzorkem JO je jakýkoliv vzorek 10 uzpůsobený pro umístění na držák 11 vzorku a do pracovní komory 3.
Ve druhém příkladném provedení konfigurace držáku 11 vzorku a vzorku 10 viditelném na obr. 3 je držák 11 vzorku se vzorkem 10 nakloněn vůči optické ose 13 REM pod jakýmkoliv úhlem, přičemž zobrazovaným vzorkem JO je vzorek 10 s výraznou topografií. Za vzorek 10 s výraznou topografií se považuje jakýkoliv vzorek JO, jenž v jakékoliv ose vzorku 10 rovnoběžné s optickou osou 13 REM má výškový rozdíl mezi nej vyšším a nejnižším bodem vzorku alespoň 10 nm tak, jak je to detailně vidět na obr. 4.
V příkladném provedení vynálezu viditelném na obr. 2 a 3 je nejprve zdrojem 4 primárních elektronů emitován svazek primárních elektronů. Svazek primárních elektronů poté prochází skrze kondenzorovou čočku 5 a apertumí clonu 6. Poté prochází svazek primárních elektronů skrze objektivovou čočku 7, která zaostří svazek primárních elektronů tak, že na vzorek 10 dopadá pod apertumím úhlem v rozmezí 0° až 30°. Takto zaostřený svazek primárních elektronů prochází přes první rastrovací prvek 8 a druhý rastrovací prvek 9, kdy první rastrovací prvek 8 vychyluje svazek primárních elektronů od optické osv 13 REM a druhý rastrovací prvek 9 vychyluje vychýlený svazek primárních elektronů tak, že se dále šíří směrem ke vzorku 10 paralelně s optickou osou 13 REM. Pokud se hovoří o paralelním šíření svazku primárních elektronů, je tím
-4CZ 2020 - 232 A3 vždy myšleno, že střed svazku primárních elektronů se šíří paralelně. Takovýmto vychylováním svazkuje pivot přesunut do mnohem větší vzdálenosti, než je vzdálenost mezi druhým rastrovacím prvkem 9 a vzorkem 10.

Claims (3)

PATENTOVÉ NÁROKY
1. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu (1) obsahujícího tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře (3), přičemž tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj (4) primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6), první rastrovací prvek (8) a druhý rastrovací prvek (9), nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku (7), jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem (8) a kondenzorovou čočkou (5), přičemž pracovní komora (3) obsahuje držák (11) vzorku a vzorek (10) umístěný na držáku (11) vzorku, vyznačující se tím, že svazek primárních elektronů, jež jsou emitovány zdrojem (4) primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6) a objektivovou čočku (7), je prvním rastrovacím prvkem (8) a dmhým rastrovacím prvkem (9) vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek (10) dopadal na vzorek (10) paralelně s optickou osou (13) rastrovacího elektronového mikroskopu.
2. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu (1) obsahujícího tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře (3), přičemž tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj (4) primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6), první rastrovací prvek (8) a druhý rastrovací prvek (9), nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku (7), jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem (8) a kondenzorovou čočkou (5), přičemž pracovní komora (3) obsahuje držák (11) vzorku a vzorek (10) umístěný na držáku (11) vzorku, přičemž vzorek (10) má výškový rozdíl alespoň 10 nm mezi nej vyšším bodem vzorku (10) a nejnižším bodem vzorku (10) v ose rovnoběžné s optickou osou (13) rastrovacího elektronového mikroskopu, vyznačující se tím, že svazek primárních elektronů, jež jsou emitovány zdrojem (4) primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6) a objektivovou čočku (7), je prvním rastrovacím prvkem (8) a dmhým rastrovacím prvkem (9) vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek (10) dopadal na vzorek (10) paralelně s optickou osou (13) rastrovacího elektronového mikroskopu.
3. Způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu (1) obsahujícího tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu připojený k pracovní komoře (3), přičemž tubus (2) rastrovacího elektronového mikroskopu obsahuje zdroj (4) primárních elektronů uzpůsobený k emitování svazku primárních elektronů, alespoň jednu kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6), první rastrovací prvek (8) a druhý rastrovací prvek (9), nejvýše jednu aktivní objektivovou čočku (7), jež je umístěna mezi prvním rastrovacím prvkem (8) a kondenzorovou čočkou (5), přičemž pracovní komora (3) obsahuje držák (11) vzorku umístěný tak, že je nakloněn vůči optické ose (13) tubusu rastrovacího elektronového mikroskopu o úhel jiný než 90°, a vzorek (10) umístěný na držáku (11) vzorku, vyznačující se tím, že svazek primárních elektronů, jež jsou emitovány zdrojem (4) primárních elektronů, a jenž prošel přes kondenzorovou čočku (5), apertumí clonu (6) a objektivovou čočku (7), je prvním rastrovacím prvkem (8) a dmhým rastrovacím prvkem (9) vychylován tak, aby při rastrování přes vzorek (10) dopadal na vzorek (10) paralelně s optickou osou (13) rastrovacího elektronového mikroskopu.
CZ2020-232A 2020-04-23 2020-04-23 Způsob zobrazení vzorku CZ309537B6 (cs)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2020-232A CZ309537B6 (cs) 2020-04-23 2020-04-23 Způsob zobrazení vzorku
EP21792980.1A EP4139947A4 (en) 2020-04-23 2021-04-23 SAMPLE DISPLAY METHOD
PCT/CZ2021/050044 WO2021213560A1 (en) 2020-04-23 2021-04-23 Sample display method
US17/996,925 US12288665B2 (en) 2020-04-23 2021-04-23 Sample display method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2020-232A CZ309537B6 (cs) 2020-04-23 2020-04-23 Způsob zobrazení vzorku

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2020232A3 true CZ2020232A3 (cs) 2021-11-03
CZ309537B6 CZ309537B6 (cs) 2023-03-29

Family

ID=78270808

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2020-232A CZ309537B6 (cs) 2020-04-23 2020-04-23 Způsob zobrazení vzorku

Country Status (4)

Country Link
US (1) US12288665B2 (cs)
EP (1) EP4139947A4 (cs)
CZ (1) CZ309537B6 (cs)
WO (1) WO2021213560A1 (cs)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4376249A (en) * 1980-11-06 1983-03-08 International Business Machines Corporation Variable axis electron beam projection system
US6674075B2 (en) * 2002-05-13 2004-01-06 Applied Materials, Inc. Charged particle beam apparatus and method for inspecting samples
JP4620981B2 (ja) * 2004-08-10 2011-01-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子ビーム装置
JP4310250B2 (ja) * 2004-08-30 2009-08-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置
US7394069B1 (en) * 2005-08-30 2008-07-01 Kla-Tencor Technologies Corporation Large-field scanning of charged particles
US9613779B2 (en) * 2015-11-12 2017-04-04 Ningbo Focus-ebeam Instruments Inc. Scanning transmission electron microscope with variable axis objective lens and detective system
CZ2016300A3 (cs) 2016-05-21 2017-07-12 Tescan Brno, S.R.O. Rastrovací elektronový mikroskop a způsob jeho provozu
JP6684179B2 (ja) * 2016-07-27 2020-04-22 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム検査装置及び荷電粒子ビーム検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20230178329A1 (en) 2023-06-08
US12288665B2 (en) 2025-04-29
CZ309537B6 (cs) 2023-03-29
EP4139947A4 (en) 2023-10-11
WO2021213560A1 (en) 2021-10-28
EP4139947A1 (en) 2023-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7425701B2 (en) Electron-beam device and detector system
TW201527745A (zh) 用於高產量電子束檢測（ｅｂｉ）的多射束系統
US20090309025A1 (en) Particle optical arrangement
JP2007250541A (ja) 位相差電子顕微鏡
JPH11148905A (ja) 電子ビーム検査方法及びその装置
US10636622B2 (en) Scanning transmission electron microscope
CZ2016300A3 (cs) Rastrovací elektronový mikroskop a způsob jeho provozu
EP1063677B1 (en) Charged particle beam device
JP2018006339A (ja) 走査電子顕微鏡
JP4366313B2 (ja) 荷電粒子ビームを方向付けるための荷電粒子ビームカラムおよび方法
GB2161018A (en) Electron microscope lenses
US10665423B2 (en) Analyzing energy of charged particles
JP7188910B2 (ja) 粒子ビームを生成するための粒子源及び粒子光学装置
CZ2020232A3 (cs) Způsob zobrazení vzorku
US6858843B1 (en) Immersion objective lens for e-beam inspection
US11456148B2 (en) Aberration reduction in multipass electron microscopy
EP1883094B1 (en) Charged particle beam device and method for inspecting specimen
US10381193B2 (en) Scanning transmission electron microscope with an objective electromagnetic lens and a method of use thereof
EP0085323B1 (en) Electromagnetic lens polepiece structure
CZ2017566A3 (cs) Zařízení s iontovým tubusem a rastrovacím elektronovým mikroskopem
US6717141B1 (en) Reduction of aberrations produced by Wien filter in a scanning electron microscope and the like
JP2005032588A (ja) 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ
JP2009076447A (ja) 走査電子顕微鏡
EP3379556B1 (en) Scanning transmission electron microscope with a condenser objective system and a method of use thereof
JPH03216942A (ja) 荷電ビーム装置とその軸合せ方法