CZ2016455A3 - Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobu - Google Patents
Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobuInfo
- Publication number
- CZ2016455A3 CZ2016455A3 CZ2016-455A CZ2016455A CZ2016455A3 CZ 2016455 A3 CZ2016455 A3 CZ 2016455A3 CZ 2016455 A CZ2016455 A CZ 2016455A CZ 2016455 A3 CZ2016455 A3 CZ 2016455A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- source
- low pressure
- clusters
- forming thin
- pressure plasma
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev nízkotlakého plazmatu se provádí v zařízení, které je tvořeno vakuovou komorou (1), v jejímž vnitřním prostoru (101) jsou jednak protilehle umístěny zdroj (4) klastrů a držák (5) substrátu (6) propojený s bipolárním zdrojem (7) a jednak bočně zavedeny nízkotlaký depoziční zdroj (12) a přívod (10) pracovního plynu. Nanočástice vytvořené ve zdroji (4) klastrů jsou ve vnitřním prostoru (101) vakuové komory (1) směrovány do oblasti nízkotlakého vysokofrekvenčního výboje induktivně vázaného ve stejnosměrném magnetickém poli ECWR zdroje (9), kde jsou ionizovány a jsou urychleny směrem k povrchu substrátu (6), kam je v závislosti na polaritě klastrů přiváděno buď kladné nebo záporné napětí a kde je vytvářena nanokompozitní vrstva z implantovaných klastrů a materiálů matrice odprášeného z nízkotlakého depozičního zdroje (12). Při tom je měřena poměrná frakce ionizovaných klastrů pomocí modifikovaného QCM (14). Podstatou vynálezu je rovněž konstrukce zařízení k provádění tohoto způsobu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2016-455A CZ2016455A3 (cs) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2016-455A CZ2016455A3 (cs) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ306854B6 CZ306854B6 (cs) | 2017-08-09 |
| CZ2016455A3 true CZ2016455A3 (cs) | 2017-08-09 |
Family
ID=59519980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2016-455A CZ2016455A3 (cs) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ2016455A3 (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU100893B1 (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-05 | Fyzikalni Ustav Av Cr V V I | Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromegnetic tube coating using pulsed plasma and devices for providing the methods thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10008482A1 (de) * | 2000-02-24 | 2001-09-13 | Ccr Gmbh Beschichtungstechnolo | Hochfrequenz-Plasmaquelle |
| DE10331926A1 (de) * | 2003-07-15 | 2005-02-24 | Leybold Optics Gmbh | Hochfrequenzquelle zur Erzeugung eines durch Magnetfelder geformten Plasmastrahls und Verfahren zum Bestrahlen einer Oberfläche |
| DE102006043943A1 (de) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Leybold Optics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf Substraten mit gekrümmten Oberflächen |
| CZ29519U1 (cs) * | 2016-04-18 | 2016-06-07 | Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i. | Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny |
-
2016
- 2016-07-27 CZ CZ2016-455A patent/CZ2016455A3/cs not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU100893B1 (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-05 | Fyzikalni Ustav Av Cr V V I | Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromegnetic tube coating using pulsed plasma and devices for providing the methods thereof |
| WO2019210891A1 (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-07 | Fyzikalni Ustav Av Cr, V.V.I. | Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices |
| US11651937B2 (en) | 2018-05-02 | 2023-05-16 | Fyzikalini Ustav Av Cr, V.V.I. | Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ306854B6 (cs) | 2017-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SG10201906712PA (en) | Improved defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas | |
| JP2016092342A5 (cs) | ||
| TW201612346A (en) | Film-forming device and manufacturing method for a film-forming substrate | |
| JP2016213358A5 (cs) | ||
| TW200802549A (en) | Vertical plasma processing apparatus for semiconductor process | |
| GB201212808D0 (en) | Surface coatings | |
| WO2010144761A3 (en) | Ionized physical vapor deposition for microstructure controlled thin film deposition | |
| SA519401365B1 (ar) | ركائز مطبوعة | |
| WO2017029771A1 (ja) | スパッタリング装置及びその状態判別方法 | |
| CZ2016455A3 (cs) | Způsob vytváření tenkých depozičních vrstev pomocí nízkotlakého plazmatu a zařízení k provádění tohoto způsobu | |
| WO2018132253A3 (en) | Systems and methods for wetting substrates | |
| CN103628032B (zh) | 一种在导电基体材料上制备纳米氮化钛层的方法 | |
| RU2010114072A (ru) | Способ нанесения нанокомпозитного покрытия на поверхность изделий | |
| Kim et al. | Simple atmospheric-pressure nonthermal plasma-jet system for poly (dimethylsiloxane) bonding process | |
| CN105492650A (zh) | 溅射成膜装置以及溅射成膜方法 | |
| JP2007031817A5 (cs) | ||
| RU2013130575A (ru) | Способ нанесения защитного покрытия на поверхность стального изделия | |
| WO2009104919A3 (en) | Apparatus and method for processing substrate | |
| JP2013189707A5 (ja) | 成膜装置 | |
| MX360902B (es) | Proceso y dispositivo para generar un plasma energizado mediante una energia de microondas en el campo de una resonancia ciclotronica electronica (rce) para ejecutar un tratamiento de superficie o aplicar un recubrimiento alrededor de un componente filiforme. | |
| CN106795626A (zh) | 成膜装置 | |
| RU2013145838A (ru) | Способ формирования жаростойкого нанокомпозитного покрытия на поверхности изделий | |
| TWI394213B (zh) | Plasma processing device and plasma processing method | |
| TW201708580A (zh) | 高頻濺鍍裝置及濺鍍方法 | |
| RU2013130574A (ru) | Способ формирования нанокомпозитного покрытия на поверхности изделия |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20240727 |