CZ20012221A3 - Zasklívací tabule a způsob její výroby - Google Patents
Zasklívací tabule a způsob její výroby Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20012221A3 CZ20012221A3 CZ20012221A CZ20012221A CZ20012221A3 CZ 20012221 A3 CZ20012221 A3 CZ 20012221A3 CZ 20012221 A CZ20012221 A CZ 20012221A CZ 20012221 A CZ20012221 A CZ 20012221A CZ 20012221 A3 CZ20012221 A3 CZ 20012221A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- glazing
- mixture
- elements
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 70
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 67
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 24
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 23
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 11
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 156
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 18
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 4
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 4
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 4
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
Description
Oblast techniky
Předmětný vynález se týká zasklívacích tabulí a zejména, avšak nejen, zasklívacích tabulí pro regulaci procházejícího slunečního záření, které jsou určeny pro podstoupení tepelné úpravy po aplikaci filtru pro regulaci průchodu slunečního záření.
Dosavadní stav techniky
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
Eí? 233003A byla popsána zasklívací tabule nesoucí optický filtr nanesený pokovováním rozprašováním, který má následující strukturu: skleněný podkladový materiál/základní vrstva dielektrika tvořená SnC^/první kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/Ag/druhá kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/vnější vrstva dielektrika tvořená SnC>2. Uvedený optický filtr je vytvořen s cílem blokovat podstatnou část dopadajícího záření v infračervené oblasti spektra a současně umožnit průchod podstatné části záření ve viditelné oblasti spektra. Takto vytvořený filtr slouží pro snížení ohřívacího účinku dopadajícího slunečního zářeni, přičemž zároveň uinclřuy.· dobrot viditelnost skrz uvedenou zasklívací tabil: ? takováto zasklívací tabule je zvlášť vhodná pro výrobu čelních skel automobilů.
Ve výše uvedeném typu struktury slouží vrstva stříbra pro odrážení dopadajícího infračerveného záření a aby mohla plnit tuto roli, musí mít tato vrstva spíše charakter kovového stříbra než oxidu stříbra a nesmí být kontaminována přiléhajícími vrstvami. Vrstvy uvedeného dielektrika, které přiléhají k uvedené vrstvě stříbra z obou stran, slouží pro snížení odrazu záření ve viditelné oblasti spektra, který by jinak vyvolávala uvedená vrstva stříbra. Druhá kovová bariéra slouží pro zabránění oxidace vrstvy stříbra během vytváření vnější vrstvy dielektrika, kterou tvoří SnO2, přičemž k vytváření této vrstvy dochází pokovováním rozprašováním v oxidační atmosféře; při uvedeném procesu dochází k alespoň částečné oxidaci uvedené kovové bariéry. Hlavním úkolem první kovové bariéry je zabránit oxidaci vrstvy stříbra během tepelné úpravy uvedeného optického filtru, naneseného na skleněné tabuli (tj. během ohýbání a/nebo temperování této skleněné tabule), přičemž ochranný účinek této vrstvy spočívá v tom, že při uvedených tepelných úpravách dochází spíše k oxidaci této vrstvy než k umožnění průchodu kyslíku až k vrstvě stříbra. Tato oxidace uvedené kovové vrstvy během tepelné úpravy skla vyvolává zvýšení hodnoty TL dané zasklívací tabule.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 792847A byla popsána tepelně upravitelná zasklívací tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která byla vytvořena na stejném principu a měla následující strukturu: skleněný podkladový mater!ál/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO. Zinkové (Zn) bariéry, které se nacházejí pod každou vrstvou stříbra jsou určeny k tomu, aby došlo k jejich úplné oxidaci během tepelné úpravy takovéto skleněné tabule a slouží pro ochranu vrstvy stříbra před oxidací. V dané oblasti techniky je rovněž známo, • ·· · • · · · že zvýšeni selektivity daného optického filtru je možné dosáhnout spíše pomocí uvedené struktury obsahující dvě, vzájemně oddělené vrstvy stříbra, než pomocí struktury obsahující jedinou vrstvu stříbra.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 275474A byla popsána tepelně upravitelná skleněná tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která měla následující strukturu: skleněný podkladový materiál/dielektrikum tvořené cíničitanem zinečnatým/
Ti bariéra/Ag/Ti bariéra/ dielektrikum tvořené cíničitanem zinečnatým. V tomto typu tepelně upravitelné struktury se obecně výhodně používají titanové (Ti) bariéry, a to díky jejich vysoké afinitě ke kyslíku a díky jejich poměrně snadné oxidovatelnosti za vzniku oxidu titanu.
Podstata vynálezu
Pokud z kontextu nevyplývá jinak, mají v následujícím textu jednotlivé zkratky, symboly a vzorce následující význam:
| a* | souřadnice chromatičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
| Ag | stříbro | |
| Al | hliník | |
| AI2O3 | oxid hlinitý | |
| A1N | nitrid hlinitý |
• ·· ·
| b* | souřadnice chromatičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu zářeni | |
| Bi | bismut | |
| Cr | chrom | |
| zákal | procento propouštěného světla procházejícího skrz vzorek, které se liší od dopadajícího paprsku rozptylem v předním směru, stanovené podle standardu ASTM D 1003-61 (který byl novelizován v roce 1988) | |
| Hf | hafnium | |
| materiál odrážející infračervené záření | materiál, jehož koeficient odrazu v oblasti vlnových délek od 780 nanometrů do 50 mikrometrů je větší než koeficient odrazu sodnovápenatého skla | |
| Na | sodík | |
| Nb | niob | |
| NiCr | slitina nebo směs obsahující nikl a chrom | |
| NiTi | slitina nebo směs obsahující nikl a titan | |
| RE | odraz energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) odraženého od podkladového materiálu, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| Sb | antimon | |
| selektivita | poměr množství propouštěného viditelného slunečního zářeni ku slunečnímu faktoru, tj. poměr TL/TE |
| SiO2 | oxid křemičitý | |
| SÍ3N4 | nitrid křemičitý | |
| SnO2 | oxid ciničitý | |
| Ta | tantal | |
| TE | propustnost energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| Ti | titan | |
| TL | propustnost viditelného záření | množství viditelného záření procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího viditelného záření |
| Zn | zinek | |
| ZnAl | slitina nebo směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOx | směsný oxid obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnO | oxid zinečnatý | |
| ZrTi | slitina nebo směs obsahující zinek a Citan | |
| ZnTiOx | směsný oxid obsahující zinek a titan | |
| ZnTiOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a titan | |
| Zr | zirkonium |
• ·· ·
Jedním aspektem předmětného vynálezu je zasklívací tabule, jejíž definice je uvedena níže v patentovém nároku 1.
Vytvoření definované kombinace vrstev v alespoň jedné z uvedených antireflexních vrstev zajišťuje výhodnou kombinaci vlastností. Uvedená antireflexní vrstva nesmí plnit pouze její základní úlohu, která spočívá v zabránění přílišného odrážení záření ve viditelné oblasti světla, ale například musí rovněž být slučitelná s ostatními vrstvami obsaženými ve vrstveném povlaku podle předmětného vynálezu, musí být mechanicky a chemicky odolná a vhodná pro výrobu v průmyslovém měřítku.
Pro nanášení jednotlivých vrstev povlaku podle předmětného vynálezu je možné použít jakoukoli vhodnou metodu nebo jakoukoli vhodnou kombinaci metod. Tak například je možné použít odpařování (pomocí tepla nebo elektronového svazku), kapalinovou pyrolýzu, chemické vylučování z plynné fáze, vakuové nanášení a pokovovávání rozprašováním, zejména magnetronové pokovovávání rozprašováním, které se při provádění tohoto vynálezu používá zvlášť výhodně. Jednotlivé vrstvy vrstveného povlaku podle předmětného vynálezu je možné nanášet různými způsoby.
Podle předmětného vynálezu může být zajištěna, výhodná kombinace:
tepelné stability při zahřívání zasklívací tabule podle tohoto vynálezu, například během temperování a/nebo ohýbání této tabule. Zde je třeba uvést, že v porovnání se srovnatelnými strukturami, ve kterých se používají například antireflexní vrstvy zahrnující oxid zinečnatý ♦ · (ZnO) a oxid ciničitý (SnO2) , je pomocí předmětného vynálezu možné snížit degradaci uvedené vrstvy odrážející infračervené záření. Zejména nitridová vrstva podle tohoto vynálezu může blokovat migraci a/nebo difúzi kyslíku a/nebo iontů skrz uvedený vrstvený povlak a uvedená specifikovaná vrstva směsného oxidu může na jedné straně posilovat tuto vlastnost a na druhé straně může být ve srovnání s ostatními známými oxidy tepelně stabilnější;
jednoduchosti a regulovatelnosti nanášeni vrstvy: ve srovnání například s oxidem hlinitým (AI2O3) nebo oxidem křemičitým (SiO2) je možné antireflexní vrstvu podle předmětného vynálezu nanášet snadněji a nanášeni této vrstvy je možné snadněji regulovat. Ačkoli oxid hlinitý (AI2O3) a oxid křemičitý (SiO2) vykazují dobrý stupeň tepelné stability, je obtížné tyto sloučenin nanášet pomocí běžných metod pokovováváním rozprašováním;
mechanické odolnosti: antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může být použita bez škodlivého vlivu na mechanickou odolnost vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu. Konkrétně se může tato vrstva chovat dobře při testech přilnavosti, které se provádějí při použití zasklívací desky podle tohoto vynálezu v .laminované struktuře;
slučitelnosti se stříbrem (Ag): krystalizace uvedené stříbrné vrstvy má vliv na optické vlastnosti této vrstvy. Vrstva tvořená čistým oxidem zinečnatým (ZnO), která přiléhá k uvedené stříbrné vrstvě, může být příčinou nadměrné krystalizace stříbra a problémů *44444 *4 •···
444· .:.....· : .. ··· spojených se zakalením daného povlaku, a to zejména pokud je uvedený povlak podroben tepelné úpravě. Avšak pokud antireflexní vrstva není složena z oxidu zinečnatého (ZnO), může dojít k nedostatečné rekrystalizaci stříbrných vrstev, což vede k tomu, že úroveň odráženi infračerveného záření a úroveň elektrické vodivosti v daném vrstveném povlaku je menší než je optimálně dosažitelná úroveň.
Předmětný vynález může být použit pro podporu krystalizace do stupně, který je dostatečný pro zajištění dobré odrazivosti infračerveného záření při současném vyloučení nadměrného zakalení zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Zejména je možné předmětný vynález použít pro zajištění příznivějšího stupně krystalizace ve srovnání s antireflexní vrstvou složenou z oxidu titaničitého (TiO2) . Jedním z možných vysvětlení pro tuto skutečnost může být, že přítomnost prvku X ve struktuře oxidu zinečnatého může redukovat růst krystalických zrn ve vrstvě vytvořené z tohoto směsného oxidu, a to zejména ve směru kolmém k danému podkladovému materiálu. Tento jev může vést k vytvoření méně krystalické, více amorfní struktury, která snižuje míru difúze, ke které by jinak mohlo docházet na rozhraních jednotlivých krystalových zrn;
doby trvání výrobního cyklu: vrstva oxidu, kterou tvoří směs zinku a alespoň jednoho dalšího z uvedených prvků., zejména pokud uvedeným dalším prvkem je titan (Ti), tantal (Ta), zirkonium (Zr), niob (Nb), bismut (Bi), nebo směs uvedených kovů, má obecně vyšší index lomu než antireflexní vrstvy vytvořené například z oxidu zinečnatého (ZnO) a oxidu cíničitého (SnO2) , přičemž tyto oxidy se běžně používají ve strukturách podobných φ · · • Φ ··♦· φ φ φ φφφ φ φφφφ ®·Φ strukturám podle tohoto vynálezu. Vedle toho dochází k nanesení uvedené vrstvy oxidu rychleji než k nanesení dosud známých antireflexních vrstev, jejichž indexy lomu jsou poměrně vysoké, jako je například vrstva zahrnující oxid titaničitý (TiO2) . Důsledkem shora uvedených skutečností je možnost zkrácení doby trvání výrobního cyklu;
dobré selektivity: vysoký index lomu může dále usnadňovat zlepšení selektivity vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu, a to zejména pokud uvedeným dalším prvkem je titan (Ti), tantal (Ta), zirkonium (Zr), niob (Nb), bismut (Bi) nebo směs uvedených kovů.
Použití antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu jakožto části vnější antireflexní vrstvy, zejména pokud je tato vrstva vystavena působení atmosféry, může zajistit dobrou chemickou a mechanickou odolnost. Kromě toho může toto použití zajistit dobrou slučitelnost s laminující fólií, jako je například PVB fólie, v případě, že má být zasklívací tabule podle předmětného vynálezu laminována, například za účelem vytvořeni předního skla automobilu nebo jiné laminované zasklívací tabule.
Uvedených' výhodných vlastnosti antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu není možné dosáhnout, pokud atomový poměr X/Zn je menší než dané minimum, například pokud prvek X je v zinku (Zn) přítomný pouze ve formě nečistoty nebo pokud uvedený atomový poměr X/Zn není dostatečně velký.
• · ·* ···· • 4 ·»· • · · ·
Vrstva zahrnující nitrid výhodně zahrnuje alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník (Al), křemík (Si) nebo zirkonium (Zr) , a to v množství, které činí alespoň 10 procent nitridovaných atomů. Uvedená vrstva zahrnující nitrid může zahrnovat například nitrid hliníku, nitrid křemíku, směsný nitrid zahrnující hliník (Al) a křemík (Si), směsný nitrid zahrnující hliník (Al) a zirkonium (Zr), směsný nitrid zahrnující křemík (Si) a zirkonium (Zr), směsný nitrid zahrnující hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr). Tato vrstva může být použita pro blokování migrace a/nebo disipace kyslíku v nanesených vrstvách a migrace a/nebo difúze iontů a jiných látek z daného skleněného podkladového materiálu do vrstev, které tvoří vrstvený povlak podle tohoto vynálezu, zejména pro blokování migrace a/nebo difúze sodíku a draslíku.
Uvedená vrstva zahrnující nitrid může sestávat v podstatě z nitridu hlinitého (A1N), nitridu křemičitého (S13N4), nitridu zirkonitého (ZrN) nebo směsi uvedených sloučenin.
Nitridovou vrstvu podle tohoto vynálezu je možné nanášet pokovováním rozprašováním vhodné suroviny v dusíkové atmosféře. V alternativním případě je možné tuto vrstvu nanášet pokovováním rozprašováním vhodné suroviny v atmosféře tvořené směsí argonu a dusíku.
Nitridová vrstva podle tohoto vynálezu může zahrnovat čistý nitrid nebo například oxynitrid, karbonitrid nebo oxykarbonitrid.
Materiálem pro odrážení infračerveného záření podle předmětného vynálezu může být stříbro nebo slitina stříbra, ·· ···« ·· · ·· · jako je například slitina stříbra obsahující jako další prvek jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující palladium (Pd), zlato (Au) a měď (Cu). Takovýto dodatečný prvek může být v uvedené slitině stříbra přítomen v atomovém poměru od 0,3 procenta do 10 procent, výhodně od 0,3 procenta do 5 procent a výhodněji, zejména pokud uvedeným dalším prvkem je palladium (Pd), od 0,3 procenta do 2 procent, vztaženo na celkové množství stříbra a dalšího kovu.
Patentový nárok číslo 2 definuje zvlášť výhodné uspořádání jednotlivých vrstev vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu.
Při tomto uspořádání:
v uvedené základní antireflexní vrstvě zajišťuje výše popsaná nitridová vrstva, která je výhodně nanesena přímo na povrch skleněného podkladového materiálu, dobrou bariéru proti difúzi iontů a kyslíku z uvedeného skleněného podkladového materiálu, zatímco vrchní vrstva směsného oxidu zajišťuje zvlášť dobrou slučitelnost s vrstvou odrážející infračervené záření;
v uvedené vnější vrstvě dielektrika zajišťuje uvedená vrstva směsného oxidu zvlášť dobrou slučitelnost s uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření, zatímco výše popsaná nitridová vrstva zajišťuje dobrou bariéru proti difúzi kyslíku z atmosféry.
Toto uspořádání je zvlášť výhodné pokud má být zasklívací tabule podle předmětného vynálezu tepelně upravována.
Jak vyplývá z níže uvedeného patentového nároku 3, je možné shora popsanou výhodnou kombinaci vlastností, kterou je ·· ···· • · • · ·· ·· ···♦
• · ···· ··· možné získat pomocí antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu, využit ve vrstveném povlaku, který obsahuje dvě nebo více než dvě, vzájemně oddělené vrstvy odrážející infračervené záření.
Několik vzájemně oddělených vrstev odrážejících infračervené záření může být použito pro vytvoření zasklívací tabule, jejíž selektivita je větší než 1,5 nebo 1,7.
Zvlášť výhodných vlastností je možné podle předmětného vynálezu dosáhnout, pokud uvedený další prvek X je vybraný ze skupiny zahrnující v podstatě čistý titan (Ti), směs titanu a jednoho nebo více dalších prvků vybraných z výše uvedené skupiny prvků, jako je například směs titanu (Ti) a hliníku (AI), v podstatě čistý hliník (AI), směs hliníku a jednoho nebo více dalších prvků vybraných z výše uvedené skupiny prvků.
Vrstvený filtr podle předmětného vynálezu může zahrnovat jednu nebo více bariérových vrstev, které se nacházejí pod a/nebo nad danou vrstvou odrážející infračervené záření, jak je to v dané oblasti techniky známé. Podle tohoto vynálezu je možné použít bariéry vytvořené například z jednoho nebo více materiálů vybraných ze skupiny zahrnující titar (Ti), zinek íln) , curom.(Cr), „nerezavějící ocel, zirkoriium (Zrý, nikl (Ni), NiCr, NiTi, ZnTi a ZnAl. Takovéto bariéry mohou být naneseny například ve formě kovových vrstev nebo ve formě suboxidů (tj. ve formě částečně zoxidovaných vrstev). V alternativním případě je rovněž možné použít nitridované bariérové vrstvy.
·· ···· • « ·· ·♦♦· • · • ··· a ···· φ·· .ϊ..... .· · ·· ·»·
Jedna nebo více z uvedených bariérových vrstev může zahrnovat stejné materiály jako vrstva tvořená směsným oxidem, zejména pak jako přilehlá vrstva tvořená směsným oxidem. Tato skutečnost může zjednodušit manipulaci se surovinami a regulaci podmínek skladování těchto surovin. Kromě toho v posledně jmenovaném případě, tj. v případě vrstvy tvořené směsným oxidem oxidu přiléhající k bariérové vrstvě zahrnující stejný materiál, může dojít ke zlepšení již tak dobré přilnavosti uvedených dvou vrstev a tím i k zajištění dobré mechanické odolnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu.
Již zmíněná kombinace vlastností, které je možné dosáhnout pomocí předmětného vynálezu, je zvlášť výhodná z hlediska tepelně upravitelných a tepelně upravených zasklívacích tabulí. Nicméně předmětný vynález je možné využít i v souvislosti se zasklívacími tabulemi, které nejsou nijak tepelně upravovány. Pojmem „tepelně upravitelná zasklívací tabule se v tomto textu rozumí, že daná zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, je upravena tak, aby mohla být podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,5, výhodně aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,3. Pojmem „v podstatě nezakalený tepelně upravený zasklívací panel se v tomto textu rozumí zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, která byla po nanesení uvedeného vrstveného povlaku podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzováni a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, přičemž zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,5 a výhodně zakalení takto upravené zasklívací tabule ·· >·♦· • · • · ·· «« ··· · nepřesahuje hodnotu 0,3. Takovéto procesy tepelné úpravy mohou zahrnovat zahříváni zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, nebo vystavení takovéto tabule teplotám vyšším než přibližně 560 °C, jako je například vystavení uvedené tabule teplotě v rozmezí od 560 °C do 700 °C, v normální atmosféře. Dalším takovýmto procesem tepelné úpravy může být slinování keramického nebo smaltového materiálu, uzavírání dvojité zasklívací jednotky ve vakuu a žíhání nízkoreflexní vrstvy nebo antioslňující vrstvy nanášené mokrou cestou. Uvedený proces tepelné úpravy, zejména pak pokud se jedná o ohýbání a/nebo tepelné temperování a/nebo tepelné vytvrzování, může probíhat při teplotě alespoň 600 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, při teplotě alespoň 620 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, nebo při teplotě alespoň 640 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut.
Tloušťka vrstvy tvořené směsným oxidem podle předmětného vynálezu je výhodně alespoň 50 Á. Takováto tloušťka může zajistit kvantitu, která je dostatečná k tomu, aby se tloušťka této vrstvy projevila užitečným nebo pozoruhodným účinkem. Tloušťka vrstvy tvořené směsným oxidem podle předmětného vynálezu může být alespoň 80 A, 100 Á, 120 Á, 140 A nebo 160 Á.
Vrstvu oxidu, který tvoři směs zinku (Zn) a alespoň jednoho z výše uvedených dalších prvků, je možné použít pro propůjčení výhodných vlastností jedné, více než jedné nebo výhodně všem antireflexním vrstvám, které jsou obsaženy ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu. Použití uvedené směsi ve všech antireflexních vrstvách obsažených ve vrstveném ·· φφ*· φ · • ΦΦΦ ·· »··φ
povlaku podle tohoto vynálezu může usnadnit řízení výrobního procesu a objednáváni a skladování nezbytných surovin. Pokud vrstvu oxidu, který tvoři směs zinku (Zn) a alespoň jednoho z výše uvedených dalších prvků, zahrnuje více než jedna antireflexni vrstva, mohou mit tyto vrstvy oxidů stejné nebo v podstatě stejné složeni.
Zvlášť výhodnou kombinaci shora diskutovaných vlastností je možné podle předmětného vynálezu získat, pokud atomový poměr X/Zn je v rozmezí od přibližně 0,03 do 1, výhodně v rozmezí od přibližně 0,05 do 0,6 a ještě výhodněji v rozmezí od přibližně 0,08 do 0,5. Dobrých výsledků je rovněž možné dosáhnout pokud atomový poměr X/Zn činí alespoň 0,12, 0,15 nebo 0,3.
Tepelná úprava může vyvolat zvýšení hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Takovéto zvýšení hodnoty TL může být výhodné při zajišťování dostatečně vysoké hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu, která se používá pro výrobu čelních skel automobilů. Hodnota TL může být během tepelné úpravy zvýšena například o více než přibližně 2,5 procenta, o více než přibližně 3 procenta, o více než přibližně 5 procent, o více než přibližně 8 procent nebo o více než přibližně 10 procent.
Nicméně vrstvený povlak podle předmětného vynálezu může být vytvořen tak, že během procesu tepelné úpravy nedochází k výraznému zvyšování hodnoty TL. Jedním ze způsobů pro usnadnění splnění této podmínky je vyloučení použití kovových bariérových vrstev pod vrstvou (vrstvami) odrážející (odrážejícími) infračervené záření.
| • * | ·· ·»·· • · · · | 99 9 9 | • · |
| • | 9 9 9 | 9 9 | • |
| 9 | 9 · 9 9 9 | 9 9 9 | 9 |
| • · · · | 9 · | • | |
| 999 99 9 | «· | « · · |
Dalším aspektem předmětného vynálezu je způsob výroby zasklívací tabule, jejíž vlastnosti jsou definovány níže uvedeným patentovým nárokem 12. Tento způsob může být použit například pro výrobu tepelně upravených zasklívacích tabulí, které jsou vhodné pro použití například v architektuře, v automobilovém průmyslu, zejména pak pro výrobu čelních skel automobilů.
Stručný popis obrázků na výkresech
Na obrázku 1 je znázorněn průřez zasklívací tabulí podle předmětného vynálezu před jejím ohnutím a tepelnou úpravou (pro jednoduchost nejsou tloušťky uvedené zasklívací tabule a jednotlivých nanesených vrstev zobrazeny v odpovídajících poměrech).
Příklady provedeni vynálezu
Příklad 1
Níže uvedené příklady jsou popsány s odkazem na obrázek 1. Na obrázku 1 je znázorněn tepelně upravitelný vrstvený povlak obsahující dvě stříbrné vrstvy, který je nanesen na skleněném podkladovém materiálu, přičemž k jeho vytvoření bylo použito mádiietrorové pokovováváni rozprašováním a tento· povlak měl následující sekvenční strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N ZnAlOx | 11 12 13 | 60 A 250 Á | Al/Zn =-0,1 |
| Podkladová bariéra ZnAlOy | 14 | 10 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAlOy | 16 | 12 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| Podkladová bariéra ZnAlOy | 18 | 7 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAlOy | 20 | 17 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
P.11:pž ZTAj.Cx: je směsný oxid obsahující zinek'(Zn) < hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku.
• · · · · · • · · · • · · · * ··· ······· ·· v ·<* · · ·
V alternativním případě bylo možné vytvořit vrstvu směsného oxidu pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala směs oxidu zinečnatého a oxidu prvku X, zejména v argonové atmosféře nebo v kyslíkové atmosféře obohacené argonem.
Podobně byly ZnAlOy bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v kyslíkové atmosféře obohacené argonem za účelem nanesení bariérové vrstvy, která není zcela zoxidována.
Oxidační stav ve všech uvedených (tj. v základní, střední a vnější) vrstvách dielektrika zahrnujících ZnAlOx nemusel být nezbytně stejný. Podobně oxidační stav ve všech uvedených bariérových vrstvách zahrnujících ZnAlOy nemusel být stejný. Stejně tak nemusel být poměr Al/Zn stejný ve všech uvedených vrstvách; tak například uvedené bariérové vrstvy mohly obsahovat jiný poměr Al/Zn než uvedené antireflexní dielektrické vrstvy a tyto antireflexní dielektrické vrstvy se mohly od sebe vzájemně lišit hodnotou poměru Al/Zn.
Každá z uvedených vrchních bariérových vrstev chránila odpovídající vrstvu stříbra, kterou překrývala, před oxidaci během nanášení vrstvy ZnálOx, která překrývala tuto bariérovou.· vrstvu, přičemž k nanášení uvedené oxidové vrstvy docházelo pokovováváním rozprašováním. I když k další oxidaci těchto bariérových vrstev mohlo dojít během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly, část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala formu oxidu, který nebyl zcela zoxidován, takže tato • · • φ ΦΦΦ· φ · φ φ φ φ • · φ · vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 63 procent | 76 procent |
| TE (systém Moon 2) | 38 procent | 42 procent |
| zákal | 0,1 | 0,25 |
| a* | -20 (na straně povlaku) | -6 (na vnější straně) |
| b* | +3 (na straně povlaku) | -12 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 31 procent (na straně povlaku) | 33 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna 10 minut nři. teplot^ 650 c, přičemž .po- uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N (částečně zoxidovaný) ZnAlOx | 11 12 13 | 60 Á 250 A | Al/Zn =0,1 |
| ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 14 | 10 - 16 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 15 | 100 A | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 12 - 20 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 A | Al/Zn = 0,1 |
| ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 18 | 7 - 12 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 17 - 28 Á | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N (částečně zoxidovaný) | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
Nitrid hlinitý (A1N) (částečně zoxidovaný) mohl zahrnovat směs nitridu hlinitého (A1N) a oxidu hlinitého (A12O3), přičemž • · 4 · • 4 k částečné oxidaci nitridu hlinitého (A1N) docházelo během procesu tepelné úpravy. Uvedené bariérové vrstvy nemusely být
| nezbytně zcela | zoxidovány a jejich tloušťka záležela do jisté |
| míry na stupni | jejich oxidace. |
Příklad 2
Přiklad 2 je podobný příkladu 1 s tím, že vrstvený povlak v tomto případě nezahrnoval podkladové bariérové vrstvy. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N ZnAlOx | 11 12 13 | 100 Á 200 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 10 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 A | Al/Zn =· 0,1 |
| /'· | 19 | 100 A | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 15 Á | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
a·β) ··· «« ♦ · ·♦ · • · · · · · · · ·· • · c · · « · · ·· • · · · ··4· • •••••a aa a a· ·· ·
Přičemž ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAl bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), ve v podstatě inertní atmosféře, která neobsahovala kyslík.
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto přikladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL éiluminant A) | 70 procent | 77 procent * |
| : systém tioon; 2) | 4.1 procent | 4 3 procent. |
| zákal | 0,1 | 0,2 |
• ·
| a* | -17 (na straně povlaku) | -5 (na vnější straně) |
| b* | +8 (na straně povlaku) | -9 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 33 procent (na straně povlaku) | 34 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklao | 10 | 2 milimetry | |
| Základní v·csťvc:·.· | |||
| dielektrika zahrnující: | 11 | ||
| A1N (částečně zoxidovaný) | 12 | 100 Ά | |
| ZnAlOx | 13 | 200 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á |
··· ·
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 12 - 20 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 17 - 30 Á | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N (částečně zoxidovaný) | 22 23 | 185 A 85 A | Al/Zn = 0,1 |
Přiklad 3
V přikladu 3 byla vrstva ZnAlOx nanesena přímo na skleněný podkladový materiál. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 2 milimetry | |
| Základní vrstva | ||
| dielektrika zahrnující: | ||
| ZnAlOx | 12 0 A | Al/ín = 0,5 |
| ZnAlOx | 200 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 12 Á | Al/Zn = 0,05 |
•· ···· «» • · · · · · • · « · * • · · · ♦ · · · «··«·· · · * 9 · ···
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 830 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 110 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 15 Á | Al/Zn = 0,05 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N | 200 A 75 Á | Al/Zn =0,1 |
Přičemž ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al) , v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAl bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), ve v podstatě inertní atmosféře, která neobsahovala kyslík.
Alespoň část obou vrchních bariérových vrstev byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zc-zidovántakže tato vrstva mohla sloužit jako..carxéra při; následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
• · · ·
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 63 procent | 76 procent |
| TE (systém Moon 2) | 34 procent | 44 procent |
| zákal | 0,1 | 0,23 |
| a* | -12 (na straně povlaku) | -6 (na vnější straně) |
| b* | +23 (na straně povlaku) | -8 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | +28 procent (na straně povlaku) | 31 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
2 Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava výhodně způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev.
Příklad 4
V příkladu 4 byl jako část vnější antireflexní vrstvy použit SiAlxNy. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
·· ···· «· *··· *· · 9·· 9* β · ♦9 « • · 9 · · · · · ·· • · · · » ♦ ··· · • ···· · · · ······· ·· φ ·····
| Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N ZnAlOx | 150 Á 180 A | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 110 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 15 Á | Al/Zn = 0,05 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 780 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 95 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 15 Á | Al/Zn = 0,05 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx SiAlxNy | 130 Á 90 A | Al/Zn = 0,1 Al/Si = 0,5 |
SiAlxNy je směsný oxid zahrnující hliník a křemík, ve kterém je atomový poměr Al/Si alespoň 0,1, výhodně alespoň 0,15, 0,2, 0,3, 0,4 nebo 0,5, přičemž v tomto případě byl poměr Al/Si 0,5. ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn- a hliník XA1), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAl bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), ve v podstatě inertní atmosféře, která neobsahovala kyslík.
Alespoň část obou vrchních bariérových vrstev byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 66 procent | 76 procent |
| TE (systém Moon 2) | 34 procent | 44 procent |
| zákal | 0,1 | 0,23 |
| a* | -12 (na straně povlaku) | -6 (na vnější straně) |
| b* | +-23 (na straně povlaku) | -8 (na vnější straně; |
| RE (systém Moon 2) | +28 procent (na straně povlaku) | 31 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Φ· ···· ♦· ···· ··· · · · «« ·· • ··· · · · · i· « · ♦ · φ ♦ « · ·· • · · · · · ··
9··· ··· ·< r ····· 2 Měřeno po skončeni tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava výhodně způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev.
Souřadnice chromatičnosti skleněných tabulí podle shora uvedených příkladů jsou zvlášť vhodné pro použití při výrobě čelních skel automobilů, protože pokud je uvedené sklo zamontováno do karosérie automobilu pod určitým úhlem, zajišťují tyto souřadnice jeho neutrální nebo jemně modrý vzhled při odrazu dopadajícího světla. Pro jiné použití, jako například v případě použití skla podle tohoto vynálezu v architektuře, je možné barvu skla podle předmětného vynálezu upravit způsobem, který je v dané oblasti techniky známý a který zahrnuje úpravu tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev odrážejících infračervené záření.
Aniž by došlo k překročení rozsahu předmětného vynálezu, je možné nad, pod nebo mezi uvedený vrstvený povlak vpravit další vrstvy.
Kromě již zmíněných výhodných optických vlastností, které je možné pomocí tohoto vynálezu získat, popisuje každý ze shora uvedených příkladů vytvoření nanesené vrstvy, kterou je možné elektricky ohřívat, například v elektricky vyhřívaných oknech automobilů, k jejichž vyhřívání dochází pomocí vhodně umístěných elektrických konektorů za účelem zajištění odmlžovací a/nebo rozmrazovací funkce.
Hodnota TL zasklívací tabule podle předmětného vynálezu může být upravena tak, aby vyhovovala požadovanému použití. Tak například:
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na evropském trhu, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 75 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na trhu Spojených států amerických, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Spojených států amerických);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako přední boční sklo automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako zadní boční sklo nebo zadní skic automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla v rozmezí od přibližně 30 procent do 70 procent.
Výše uvedené úpravy hodnoty TL je možné dosáhnout například:
úpravou tloušťky vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu, zejména úpravou tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev odrážejících infračervené záření;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným skleněným podkladovým materiálem, například za účelem zvýšení selektivity;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným PVB nebo jinou laminační vrstvou.
Claims (12)
- PATENTOVÉ NÁROKY1.Zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál; základní antireflexní vrstvu; vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených antireflexních vrstev obsahuje alespoňa) vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků; ab) vrstvu zahrnující nitrid obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr).
- 2. Zasklívací tabule podle nároku 1, vyznačující se tím, že obsahuje sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu zahrnující vrstvu, kter^ zahrnuje nitrid .obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr), a vrchní vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny ·· *··· ·· ···· ·· · ··· · · 9 ·*·· • ··· 9 · · 9 ·· • · 9 9 · 9 9 9 999 9 9 9 9 9 999999 999 99 9 99999 zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků;vrstvu odrážející infračervené záření zahrnující stříbro; bariérovou vrstvu;vnější antireflexní vrstvu zahrnující vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků, a vrchní vrstvu zahrnující nitrid obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr).
- 3. Zasklívací tabule podle nároku 1 nebo 2 obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; střední antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených antireflexních vrstev obsahuje alespoňa) vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků; ab) vrstvu zahrnující nitrid obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr).
- 4. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že prvkem X je jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující titan (Ti) a hliník (Al).
- 5. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že pod alespoň jednou nebo pod všemi vrstvami odrážejícími infračervené záření se nachází bariérová vrstva.
- 6·. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že uvedenou zasklívací tabulí je tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule.
- 7. Zasklívací tabule podle nároku 6, vyznačující se tím, že uvedená střední antireflexní vrstva zahrnuje vrstvu směsného oxidu zahrnující alespoň jednu sloučeninu vybranou ze skupiny zahrnující ZnAlOx a ZnTiOx.
- 8. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že atomový ooměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,03 do 1.
- 9. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,05 do 0,6.
- 10.
- 11.
- 12.·♦ «*4· ·« ·*♦· ·«· ··· 9 9 · · ·· · • · ·♦ «9 · 999 • 9 · 9 9 · · 9 999 9 9 9 9 9 999999 999 99 9 9*9*9Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,08 do 0,5.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, že uvedenou zasklívací tabulí je tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule, přičemž tepelná úprava uvedené tepelně upravitelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření uvedené v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 2,5 procenta.Způsob výroby zasklívací tabule, jejíž zákal je menší než přibližně 0,5, vyznačující se tím, že zahrnuje stupeň podrobení zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 11 procesu tepelné úpravy při teplotě alespoň 570 °C.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204314 | 1998-12-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20012221A3 true CZ20012221A3 (cs) | 2002-02-13 |
| CZ294113B6 CZ294113B6 (cs) | 2004-10-13 |
Family
ID=8234487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20012221A CZ294113B6 (cs) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1147066B1 (cs) |
| JP (1) | JP4359980B2 (cs) |
| AT (1) | ATE239677T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ294113B6 (cs) |
| DE (1) | DE69907747T2 (cs) |
| ES (1) | ES2198987T3 (cs) |
| HU (1) | HU223651B1 (cs) |
| PL (1) | PL199526B1 (cs) |
| SK (1) | SK286398B6 (cs) |
| WO (1) | WO2000037381A1 (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ306982B6 (cs) * | 2000-12-15 | 2017-11-01 | Saint-Gobain Glass France | Zasklívací panel opatřený soustavou tenkých vrstev pro ochranu proti slunečnímu záření a/nebo tepelnou izolaci |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2258477T3 (es) | 1999-10-14 | 2006-09-01 | Glaverbel | Vidrio. |
| DE102004001655A1 (de) * | 2004-01-12 | 2005-08-04 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co.Kg | Mit einer Wärmeschutzschicht beschichtetes Substrat |
| EP1577276A1 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-21 | Glaverbel | Glazing panel |
| US7189458B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-03-13 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7198851B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-04-03 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| CL2007003233A1 (es) * | 2006-11-09 | 2008-05-30 | Agc Flat Glass North America | Recubrimiento optico sobre un sustrato que comprende, en direccion hacia afuera desde el sustrato, una capa aumentadora de la durabilidad, una capa de nucleacion y una capa reflectante de infrarrojos; unidad de ventana; y metodo para hacer una pelicu |
| GB0712447D0 (en) | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| GB0823501D0 (en) | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| FR2970248B1 (fr) * | 2011-01-06 | 2019-08-30 | Saint-Gobain Glass France | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques, en particulier pour realiser un vitrage chauffant. |
| JPWO2012099124A1 (ja) | 2011-01-18 | 2014-06-30 | 旭硝子株式会社 | 合わせガラス及び合わせガラスの製造方法 |
| GB201102724D0 (en) * | 2011-02-17 | 2011-03-30 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2046161C (en) * | 1990-07-05 | 2001-08-21 | Masami Miyazaki | Low emissivity film |
| DK0758306T3 (da) * | 1994-05-03 | 1999-05-10 | Cardinal Ig Co | Transparent genstand med beskyttelsesfilm af siliciumnitrid |
| DE19520843A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Leybold Ag | Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
-
1999
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010074 patent/WO2000037381A1/en active IP Right Grant
- 1999-12-15 HU HU0104884A patent/HU223651B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 AT AT99968353T patent/ATE239677T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 DE DE69907747T patent/DE69907747T2/de not_active Revoked
- 1999-12-15 SK SK837-2001A patent/SK286398B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 PL PL350143A patent/PL199526B1/pl unknown
- 1999-12-15 ES ES99968353T patent/ES2198987T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 EP EP99968353A patent/EP1147066B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 CZ CZ20012221A patent/CZ294113B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-16 JP JP35778099A patent/JP4359980B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ306982B6 (cs) * | 2000-12-15 | 2017-11-01 | Saint-Gobain Glass France | Zasklívací panel opatřený soustavou tenkých vrstev pro ochranu proti slunečnímu záření a/nebo tepelnou izolaci |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL199526B1 (pl) | 2008-09-30 |
| CZ294113B6 (cs) | 2004-10-13 |
| HUP0104884A2 (en) | 2002-11-28 |
| PL350143A1 (en) | 2002-11-04 |
| ES2198987T3 (es) | 2004-02-01 |
| JP2000229376A (ja) | 2000-08-22 |
| WO2000037381A1 (en) | 2000-06-29 |
| SK8372001A3 (en) | 2002-01-07 |
| HU223651B1 (hu) | 2004-11-29 |
| EP1147066A1 (en) | 2001-10-24 |
| DE69907747D1 (de) | 2003-06-12 |
| DE69907747T2 (de) | 2004-02-26 |
| SK286398B6 (sk) | 2008-09-05 |
| EP1147066B1 (en) | 2003-05-07 |
| ATE239677T1 (de) | 2003-05-15 |
| JP4359980B2 (ja) | 2009-11-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| CZ20012219A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| JP4385460B2 (ja) | ガラス積層体、およびその製造方法 | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| PL200326B1 (pl) | Szyby oszkleniowe oraz sposób wytwarzania szyby oszkleniowej | |
| CZ20012221A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| CZ20012218A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MK4A | Patent expired |
Effective date: 20191215 |