CZ20012220A3 - Zasklívací tabule a způsob její výroby - Google Patents
Zasklívací tabule a způsob její výroby Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20012220A3 CZ20012220A3 CZ20012220A CZ20012220A CZ20012220A3 CZ 20012220 A3 CZ20012220 A3 CZ 20012220A3 CZ 20012220 A CZ20012220 A CZ 20012220A CZ 20012220 A CZ20012220 A CZ 20012220A CZ 20012220 A3 CZ20012220 A3 CZ 20012220A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- mixture
- antireflective
- elements
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 7
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 50
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 50
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 137
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 50
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 27
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 7
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 SiOxCy Chemical class 0.000 description 1
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12785—Group IIB metal-base component
- Y10T428/12792—Zn-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Description
(57) Anotace:
Vynález se týká zasklívací tabule, nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál; základní antireflexní vrstvu; reflexní vrstvu odrážející infračervené záření a vnější antireflexní vrstvu. Alespoň jedna z uvedených antireflexních vrstev obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,12 a X představuje jeden nebo více prvků CO vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků, například titan nebo hliník.
O 04 04 Ol
O o 04
N O
ZOO / lilo
Zasklívací tabule a způsob její výroby
Oblast techniky
Předmětný vynález se týká zasklívacích tabulí a zejména, avšak nejen, zasklívacích tabulí pro regulaci procházejícího slunečního záření, které jsou určeny pro podstoupení tepelné úpravy po aplikaci filtru pro regulaci průchodu slunečního záření.
Dosavadní stav techniky
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 233003A byla popsána zasklívací tabule nesoucí optický filtr nanesený pokovováním rozprašováním, který má následující strukturu: skleněný podkladový materiál/základní vrstva dielektrika tvořená SnO2/první kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/Ag/druhá kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/vnější vrstva dielektrika tvořená SnO2. Uvedený optický filtr je vytvořen s cílem blokovat podstatnou část dopadajícího záření v infračervené oblasti spektra a současně umožnit průchod podstatné části záření ve viditelné oblasti spektra. Takto vytvořený filtr slouží pro snížení ohřívacího účinku dopadajícího slunečního záření, přičemž zároveň umožňuje dobrou viditelnost skrz uvedenou zasklívací tabuli a takováto zasklívací tabule je zvlášť, vhodná pro výrobu čelních skel automobilů.
Ve výše uvedeném typu struktury slouží vrstva stříbra pro odrážení dopadajícího infračerveného záření a aby mohla plnit tuto roli, musí mít tato vrstva spíše charakter kovového • 4 ·· · ·· · * • ······· • · · ···· · 9· • 99 9 9 · 9 · ·· _· · · · · ··· ··· ·· ·· ·· ·· ··· stříbra než oxidu stříbra a nesmí být kontaminována přiléhajícími vrstvami. Vrstvy uvedeného dielektrika, které přiléhají k uvedené vrstvě stříbra z obou stran, slouží pro snížení odrazu záření ve viditelné oblasti spektra, který by jinak vyvolávala uvedená vrstva stříbra. Druhá kovová bariéra slouží pro zabránění oxidace vrstvy stříbra během vytváření vnější vrstvy dielektrika, kterou tvoří SnO2, přičemž k vytváření této vrstvy dochází pokovováním rozprašováním v oxidační atmosféře; při uvedeném procesu dochází k alespoň částečné oxidaci uvedené kovové bariéry. Hlavním úkolem první kovové bariéry je zabránit oxidaci vrstvy stříbra během tepelné úpravy uvedeného optického filtru, naneseného na skleněné tabuli (tj. během ohýbání a/nebo temperování této skleněné tabule), přičemž ochranný účinek této vrstvy spočívá v tom, že při uvedených tepelných úpravách dochází spíše k oxidaci této vrstvy než k umožnění průchodu kyslíku až k vrstvě stříbra. Tato oxidace uvedené kovové vrstvy během tepelné úpravy skla vyvolává zvýšení hodnoty TL dané zasklívací tabule.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 792847A byla popsána tepelně upravitelná zasklívací tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která byla vytvořena na stejném principu a měla následující strukturu: skleněný podkladový materiál/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO. Zinkové (Zn) bariéry, které se nacházejí pod každou vrstvou stříbra jsou určeny k tomu, aby došlo k jejich úplné oxidaci během tepelné úpravy takovéto skleněné tabule a slouží pro ochranu vrstvy stříbra před oxidací. V dané oblasti techniky je rovněž známo, že zvýšení selektivity daného optického filtru je možné dosáhnout spíše pomocí uvedené struktury obsahující dvě, vzájemně oddělené vrstvy stříbra než pomocí struktury obsahující jedinou vrstvu stříbra.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 275474A byla popsána tepelně upravitelná skleněná tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která měla následující strukturu: skleněný podkladový materiál/dielektrikum tvořené cíničitanem zinečnatým/
Ti bariéra/Ag/Ti bariéra/ dielektrikum tvořené cíničitanem zinečnatým. V tomto typu tepelně upravítelné struktury se obecně výhodně používají titanové (Ti) bariéry, a to díky jejich vysoké afinitě ke kyslíku a díky jejich poměrně snadné oxidovatelnosti za vzniku oxidu titanu.
Podstata vynálezu
Pokud z kontextu nevyplývá jinak, mají v následujícím textu jednotlivé zkratky, symboly a vzorce následující význam:
| a* | souřadnice chromátičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
| Ag | stříbro | |
| AI | hliník | |
| AI2O3 | oxid hlinitý | |
| A1N | nitrid hlinitý |
• · ·· · · · · • · · · · · · • · · · · · < · · • · · · · ·· · ·
| b* | souřadnice chromátičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
| Bi | bismut | |
| Cr | chrom | |
| zákal | procento propouštěného světla procházejícího skrz vzorek, které se liší od dopadajícího paprsku rozptylem v předním směru, stanovené podle standardu ASTM D 1003-61 (který byl novelizován v roce 1988) | |
| materiál odrážející infračervené záření | materiál, jehož koeficient odrazu v oblasti vlnových délek od 780 nanometrů do 50 mikrometrů je větší než koeficient odrazu sodnovápenatého skla | |
| Nb | niob | |
| NiCr | slitina nebo směs obsahující nikl a chrom | |
| NiTi | slitina nebo směs obsahující nikl a titan | |
| RE | odraz energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) odraženého od podkladového materiálu, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| selektivita | poměr množství propouštěného viditelného slunečního záření ku slunečnímu faktoru, tj. poměr TL/TE | |
| SiO2 | oxid křemičitý |
• ·· · · · · ·· • 9 · · ··· ··· • · · · ···· · · ·· ·· ·· · · · · ·
| Si3N4 | nitrid křemičitý | |
| SnO2 | oxid cíničitý | |
| Ta | tantal | |
| TE | propustnost energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| Ti | titan | |
| TL | propustnost viditelného záření | množství viditelného záření procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího viditelného záření |
| Zn | zinek | |
| ZnAl | slitina nebo směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOx | směsný oxid obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnO | oxid zinečnatý | |
| ZnTi | slitina nebo směs obsahující zinek a titan | |
| ZnTiOx | směsný oxid obsahující zinek a titan | |
| ZnTiOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a titan | |
| Zr | zirkonium |
Jedním aspektem předmětného vynálezu je zasklívací tabule, jejíž definice je uvedena níže v patentovém nároku 1.
• ·· · · toto ·· · toto·· to · to to to to to • t· ····· · · · ·· ··· ·· · · · · · ··· ···· ·· · ··· ·· ·· ·· ·· ···
Vytvoření alespoň jedné z uvedených antireflexních vrstev zahrnujících směs Zn a jednoho z uvedených dalších prvků zajišťuje výhodnou kombinaci vlastností. Uvedená antireflexní vrstva nesmí plnit pouze její základní úlohu, která spočívá v zabránění přílišného odrážení záření ve viditelné oblasti světla, ale například musí rovněž být slučitelná s ostatními vrstvami obsaženými ve vrstveném povlaku podle předmětného vynálezu, musí být mechanicky a chemicky odolná a vhodná pro výrobu v průmyslovém měřítku.
Pro nanášení jednotlivých vrstev povlaku podle předmětného vynálezu je možné použít jakoukoli vhodnou metodu nebo jakoukoli vhodnou kombinaci metod. Tak například je možné použít odpařování (pomocí tepla nebo elektronového svazku), kapalnou pyrolýzu, chemické vylučování z plynné fáze, vakuové nanášení a pokovovávání rozprašováním, zejména magnetronové pokovovávání rozprašováním, které se při provádění tohoto vynálezu používá zvlášť výhodně. Jednotlivé vrstvy vrstveného povlaku podle předmětného vynálezu je možné nanášet různými způsoby.
Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může poskytnout výhodnou kombinaci:
tepelné stability při zahřívání zasklívací tabule podle tohoto vynálezu, například během temperování a/nebo ohýbání této tabule. Zde je třeba uvést, že v porovnání se srovnatelnými strukturami, ve kterých se používají například antireflexní vrstvy zahrnující oxid zinečnatý (ZnO) a oxid cíničitý (SnO2) , je pomocí předmětného • ·· ·· ·· ·· · «· 9 ♦ ··· ·<·>
• · · ♦···· · · · • ·........ ♦ ·
......... · ··· ·· ·· ·· ·· ··· vynálezu možné snížit degradaci uvedené vrstvy odrážející infračervené záření;
jednoduchosti a regulovatelnosti nanášení vrstvy: ve srovnání například s oxidem hlinitým (A12O3) nebo oxidem křemičitým (SiO2) je možné antireflexní vrstvu podle předmětného vynálezu nanášet snadněji a nanášení této vrstvy je možné snadněji regulovat. Ačkoli oxid hlinitý (A12O3) a oxid křemičitý (SiO2) vykazují dobrý stupeň tepelné stability, je obtížné tyto sloučenin nanášet pomocí běžných metod pokovováváním rozprašováním;
mechanické odolnosti: antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může být použita bez škodlivého vlivu na mechanickou odolnost vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu. Konkrétně se může tato vrstva chovat dobře při testech přilnavosti, které se provádějí při použití zasklívací desky podle tohoto vynálezu v laminované struktuře;
slučitelnosti se stříbrem (Ag): krystalizace uvedené stříbrné vrstvy má vliv na optické vlastnosti této vrstvy. Vrstva tvořená čistým oxidem zinečnatým (ZnO), která přiléhá k uvedené stříbrné vrstvě, může být příčinou nadměrné krystalizace stříbra a problémů spojených se zakalením daného povlaku, a to zejména pokud je uvedený povlak podroben tepelné úpravě. Avšak pokud antireflexní vrstva není složena z oxidu zinečnatého (ZnO), může dojít k nedostatečné rekrystalizaci stříbrných vrstev, což vede k tomu, že úroveň odrážení infračerveného záření a úroveň elektrické vodivosti v daném vrstveném • · · · ·· · • ·«·· · ·· • ·· · ♦ · ·· • · · · · ♦· • · · · · · · · · povlaku je menší než je optimálně dosažitelná úroveň. Předmětný vynález může být použit pro podporu krystalizace do stupně, který je dostatečný pro zajištění dobré odrazivosti infračerveného záření při současném vyloučení nadměrného zakalení zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Zejména je možné předmětný vynález použít pro zajištění příznivějšího stupně krystalizace ve srovnání s antireflexní vrstvou složenou z oxidu titaničitého (TiO2) . Jedním z možných vysvětlení pro tuto skutečnost může být, že přítomnost prvku X ve struktuře oxidu zinečnatého může redukovat růst krystalických zrn ve vrstvě vytvořené z tohoto směsného oxidu, a to zejména ve směru kolmém k danému podkladovému materiálu. Tento jev může vést k vytvoření méně krystalické, více amorfní struktury, která snižuje míru difúze, ke které by jinak mohlo docházet na rozhraních jednotlivých krystalových zrn;
doby trvání výrobního cyklu: vrstva oxidu, kterou tvoří směs zinku a alespoň jednoho dalšího z uvedených prvků, zejména pokud uvedeným dalším prvkem je titan (Ti), tantal (Ta) , zirkonium (Zr), niob (Nb), bismut (Bi), nebo směs uvedených kovů, má obecně vyšší index lomu než antireflexní vrstvy vytvořené například z oxidu zinečnatého (ZnO) a oxidu cíničitého (SnO2) , přičemž tyto oxidy se běžně používají ve strukturách podobných strukturám podle tohoto vynálezu. Vedle toho dochází k nanesení uvedené vrstvy oxidu rychleji než k nanesení dosud známých antireflexních vrstev, jejichž indexy lomu jsou poměrně vysoké, jako je například vrstva zahrnující oxid titaničitý (TiO2) . Důsledkem shora uvedených
99 99 99 99 9
9999 999 9999
99 99999 99 9
9 9 9 9 9 9 9 9 9 9 9
9 9 9 9 9 9 9 9 9
9 9 9 9 9 9 9 9 9 99 9 skutečností je možnost zkrácení doby trvání výrobního cyklu;
dobré selektivity: vysoký index lomu může dále usnadňovat zlepšení selektivity vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu, a to zejména pokud uvedeným dalším prvkem je titan (Ti), tantal (Ta), zirkonium (Zr), niob (Nb), bismut (Bi) nebo směs uvedených kovů.
Použití antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu jakožto části vnější antireflexní vrstvy, zejména pokud je tato vrstva vystavena působení atmosféry, může zajistit dobrou chemickou a mechanickou odolnost. Kromě toho může toto použití zajistit dobrou slučitelnost s laminující fólií, jako je například PVB fólie, v případě, že má být zasklívací tabule podle předmětného vynálezu laminována, například za účelem vytvoření předního skla automobilu nebo jiné laminované zasklívací tabule.
Uvedených výhodných vlastností antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu není možné dosáhnout, pokud atomový poměr X/Zn je menší než dané minimum, například pokud prvek X je v zinku (Zn) přítomný pouze ve formě nečistoty nebo pokud uvedený atomový poměr X/Zn není dostatečně velký. Uvedený atomový poměr X/Zn může být menší než přibližně 10; případně může být tento poměr roven nebo menší než přibližně 5 nebo přibližně 4 nebo přibližně 3. Tento poměr může zajistit takový obsah zinku (Zn) v uvedené podkladové bariéře, který je dostatečný pro zajištění výhodných vlastností této antireflexní vrstvy.
φ φ φ · · · · ·· φ ··· ·Φ φ® φ® φφ Φ··
Materiálem pro odrážení infračerveného záření podle předmětného vynálezu může být stříbro nebo slitina stříbra, jako je například slitina stříbra obsahující jako další prvek jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující palladium (Pd), zlato (Au) a měď (Cu). Takovýto dodatečný prvek může být v uvedené slitině stříbra přítomen v atomovém poměru od 0,3 procenta do 10 procent, výhodně od 0,3 procenta do 5 procent a výhodněji, zejména pokud uvedeným dalším prvkem je palladium (Pd), od 0,3 procenta do 2 procent, vztaženo na celkové množství stříbra a dalšího kovu.
Jedna nebo více z uvedených antireflexních vrstev může zahrnovat oxid, nitrid, karbid nebo jejich směs. Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může zahrnovat například:
oxid jednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující zinek (Zn), titan (Ti), cín (Sn) , křemík (Si), hliník (Al), tantal (Ta) nebo zirkonium (Zr); oxid zinku obsahující hliník (Al), galium (Ga), křemík (Si) nebo cín (Sn) nebo oxid india obsahující cín (Sn) ;
nitrid jednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující křemík (Si), hliník (Al) a bor (B) nebo směs (včetně směsného nitridu) nitridu zirkonia (Zr) nebo titanu (Ti) s jedním z výše uvedených nitridů;
směsnou sloučeninu, jako je například SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy nebo SiAlxOyNz.
Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může být tvořena jedinou vrstvou nebo může obsahovat dvě nebo více vrstev, které se od sebe liší svým složením. Zvlášť výhodně se fcfc ·· ·· ·· fc fcfc ··· ···· •fc ····· ·· · • · · · ·· ··· · · ··· ·· ·· ·· ·· ··· používá oxid zinku, výhodně oxid zinečnatý obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující cín (Sn), chrom (Cr), křemík (Si), bor (B), hořčík (Mg), indium (In), galium (Ga) a výhodně hliník (Al) a/nebo titan (Ti), protože použití takovýchto materiálů usnadňuje vytvoření stabilní přilehlé vrstvy s vysokou krystalinitou, která odráží infračervené záření.
Jak je dále definováno v patentovém nároku číslo 2, výhodnou kombinaci vlastností, kterou je možné získat pomocí antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu, je možné využít ve vrstveném povlaku, který obsahuje dvě, nebo více vzájemně oddělených vrstev odrážejících infračervené záření.
Několik vzájemně oddělených vrstev odrážejících infračervené záření může být použito pro vytvoření zasklívací tabule, jejíž selektivita je větší než 1,5 nebo 1,7.
Zvlášť výhodných vlastností je možné podle předmětného vynálezu dosáhnout, pokud uvedený další prvek X je vybraný ze skupiny zahrnující v podstatě čistý titan (Ti), směs titanu a jednoho nebo více dalších prvků vybraných z výše uvedené skupiny prvků, jako je například směs titanu (Ti) a hliníku (Al), v podstatě čistý hliník (Al), směs hliníku a jednoho nebo více dalších prvků vybraných z výše uvedené skupiny prvků.
Již zmíněná kombinace vlastností, které je možné dosáhnout pomocí předmětného vynálezu, je zvlášť výhodná z hlediska tepelně upravitelných a tepelně upravených zasklívacích tabulí. Nicméně předmětný vynález je možné využít i • 9 99 · · 99 9 •9 999 9999 · 9999 * 9 9 • 999 99 999 9 9
9 9 9 · 99 9
999 99 99 99 99 9·9 v souvislosti se zasklívacími tabulemi, které nejsou nijak tepelně upravovány. Pojmem „tepelně upravitelná zasklívací tabule se v tomto textu rozumí, že daná zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, je upravena tak, aby mohla být podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,5, výhodně aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,3. Pojmem „v podstatě nezakalený tepelně upravený zasklívací panel se v tomto textu rozumí zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, která byla po nanesení uvedeného vrstveného povlaku podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, přičemž zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,5, výhodně zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,3. Takovéto procesy tepelné úpravy mohou zahrnovat zahřívání zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, nebo vystavení takovéto tabule teplotám vyšším než přibližně 560 °C, jako je například vystavení uvedené tabule teplotě v rozmezí od 560 °C do 700 °C, v normální atmosféře. Dalším takovýmto procesem tepelné úpravy může být slinování keramického nebo smaltového materiálu, uzavírání dvojité zasklívací jednotky ve vakuu a žíhání nízkoreflexní vrstvy nebo antioslňující vrstvy nanášené mokrou cestou. Uvedený proces tepelné úpravy, zejména pak pokud se jedná o ohýbání a/nebo tepelné temperování a/nebo tepelné vytvrzování, může probíhat při teplotě alespoň 600 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, při teplotě alespoň 620 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, nebo
Φ· ·· ·· ·· • · · · · · · · ·· « ···« · · • · * · · · · ·· · ··· ·· ♦· ·· ·· ··· při teplotě alespoň 640 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut.
Úpravou tloušťky vrstvy tvořené směsným oxidem podle předmětného vynálezu tak, aby tato tloušťka byla alespoň 50 Á je možné zajistit kvantitu, která je dostatečná k tomu, aby se tloušťka této vrstvy projevila užitečným nebo pozoruhodným účinkem. Geometrická tloušťka vrstvy tvořené směsným oxidem podle předmětného vynálezu může být alespoň 80 Á, 100 Á, 120 Á, 140 Á nebo 160 A.
Vrstvu oxidu, který tvoří směs zinku (Zn) a alespoň jednoho z výše uvedených dalších prvků, je možné použít pro propůjčení výhodných vlastností jedné, více než jedné nebo výhodně všem antireflexním vrstvám, které jsou obsaženy ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu. Použití uvedené směsi ve všech antireflexních vrstvách obsažených ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu může usnadnit řízení výrobního procesu a objednávání a skladování nezbytných surovin. Pokud vrstvu oxidu, který tvoří směs zinku (Zn) a alespoň jednoho z výše uvedených dalších prvků, zahrnuje více než jedna antireflexní vrstva, mohou mít tyto vrstvy oxidů stejné nebo v podstatě stejné složení.
Zvlášť výhodnou kombinaci shora diskutovaných vlastností je možné podle předmětného vynálezu získat, pokud atomový poměr X/Zn je v rozmezí od přibližně 0,12 do 1, výhodně v rozmezí od přibližně 0,15 do 0,6 a ještě výhodněji v rozmezí od přibližně 0,2 do 0,5.
«φ ·· φφ ·· · φ φ φφφ φ · φ φ ·· · φ · φ · φ φ φ • · · · · · · · · · · ·· φφφφ φ · φ • Φ φφ φφ · * φφφ
Vrstva oxidu podle předmětného vynálezu může být vhodná pro použití, a výhodně se používá, v jedné nebo více antireflexních vrstvách spolu s vrstvou zahrnující nitrid hliníku nebo nitrid křemíku nebo směs těchto sloučenin. Tímto způsobem je možné dosáhnout zvlášť dobré tepelné stability, a to zejména při použití shora popsané kombinace v základní a/nebo vnější antireflexní vrstvě.
Jak je v dané oblasti techniky známo, uvedený vrstvený filtr může obsahovat jednu nebo více bariérových vrstev, které leží pod a/nebo nad uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření. Pro vytvoření bariérové vrstvy je možné použít jeden nebo více materiálů vybraných ze skupiny zahrnující titan (Ti), zinek (Zn), tantal (Ta), chrom (Cr), „nerezavějící ocel, zirkonium (Zr), nikl (Ni), NiCr, ZnTi, NiTi a ZnAl. Uvedené bariérové vrstvy je možné nanášet například ve formě vrstvy kovu nebo vrstvy suboxidu (tj. ve formě částečně zoxidované vrstvy). V alternativním případě je rovněž možné použít nitridované bariérové vrstvy.
Jedna nebo více takovýchto bariérových vrstev může zahrnovat stejné materiály jako výše popsaná vrstva oxidu, zejména pak jako výše popsaná vrstva oxidu, která přiléhá k dané bariérové vrstvě. Tato skutečnost může zjednodušit manipulaci se surovinami a regulaci podmínek skladování těchto surovin. Kromě toho v posledně jmenovaném případě, tj. v případě vrstvy oxidu přiléhající k bariérové vrstvě zahrnující stejný materiál, může dojít ke zlepšení již tak dobré přilnavosti uvedených dvou vrstev a tím i k zajištění dobré mechanické odolnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu.
99 • 9 9 · •99
99 •99
9*···
9* • 9 ♦ 999 » ♦ 'Λ 9
99
Tepelná úprava může vyvolat zvýšení hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Takovéto zvýšení hodnoty TL může být výhodné při zajišťování dostatečně vysoké hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu, která se používá pro výrobu čelních skel automobilů. Hodnota TL může být během tepelné úpravy zvýšena například o více než přibližně 2,5 procenta, o více než přibližně 3 procenta, o více než přibližně 5 procent, o více než přibližně 8 procent nebo o více než přibližně 10 procent.
Dalším aspektem předmětného vynálezu je způsob výroby zasklívací tabule, jejíž vlastnosti jsou definovány níže uvedeným patentovým nárokem 15. Tento způsob může být použit například pro výrobu tepelně upravených zasklívacích tabulí, které jsou vhodné pro použití například v architektuře, v automobilovém průmyslu, zejména pak pro výrobu Čelních skel automobilů.
Stručný popis obrázků na výkresech
Na obrázku 1 je znázorněn průřez zasklívací tabulí podle předmětného vynálezu před jejím ohnutím a tepelnou úpravou (pro jednoduchost nejsou tloušťky uvedené zasklívací tabule a jednotlivých nanesených vrstev zobrazeny v odpovídajících poměrech).
Příklad 1
Níže uvedené příklady jsou popsány s odkazem na obrázek 1. Na obrázku 1 je znázorněn tepelně upravítelný vrstvený povlak obsahující dvě stříbrné vrstvy, který je nanesen na skleněném podkladovém materiálu, přičemž k jeho vytvoření bylo použito magnetronové pokovovávání rozprašováním a tento povlak měl následující sekvenční strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 11 12 | 280 Á | Ti/Zn = 0,25 |
| Podkladová bariéra ZnTiOy | 14 | 15 Á | Ti/Zn = 2,5 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra Ti | 16 | 20 Á | |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 17 | 680 Á | Ti/Zn = 0,25 |
| Podkladová bariéra ZnTiOy | 18 | 10 Á | Ti/Zn = 0,25 |
• · • ♦ • « • ···
| Ag | 19 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra Ti | 20 | 20 Á | |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 21 22 | 240 Á | Ti/Zn = 0,25 |
Přičemž ZnTiOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a titan (Ti), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a titanu (Ti), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnTiOy bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a titanu (Ti) , v kyslíkové atmosféře obohacené argonem za účelem nanesení bariérové vrstvy, která není zcela zoxidována.
V alternativním případě bylo možné vytvořit vrstvu směsného oxidu pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala směs oxidu zinečnatého a oxidu prvku X, zejména v argonové atmosféře nebo v kyslíkové atmosféře obohacené argonem.
Oxidační stav ve všech uvedených (tj. v základní, střední a vnější) vrstvách dielektrika zahrnujících ZnTiOx nemusel být nezbytně stejný. Podobně oxidační stav ve všech uvedených bariérových vrstvách zahrnujících ZnTiOy nemusel být stejný. Stejně tak nemusel být poměr Ti/Zn stejný ve všech uvedených vrstvách; tak například uvedené bariérové vrstvy mohly obsahovat jiný poměr Ti/Zn než uvedené antireflexní · · · «··· • « « · ··
4 · 4·4 44 dielektrické vrstvy a tyto antireflexní dielektrické vrstvy se mohly od sebe vzájemně lišit hodnotou poměru Ti/Zn.
Každá z uvedených vrchních bariérových vrstev chránila odpovídající vrstvu stříbra, kterou překrývala, před oxidací během nanášení vrstvy ZnTiOx, která překrývala tuto bariérovou vrstvu, přičemž k nanášení uvedené oxidové vrstvy docházelo pokovováváním rozprašováním. I když k další oxidaci těchto bariérových vrstev mohlo dojít během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly, část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala formu oxidu, který nebyl zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 64 procent | 77 procent |
| TE (systém Moon 2) | 39 procent | 40 procent |
| zákal | 0,1 | 0,28 |
| a* | -12 (na straně povlaku) | -3 (na vnější straně) |
| b* | +4 (na straně povlaku) | -8 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 33 procent (na straně povlaku) | 34 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
2 Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 650 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 11 12 | 280 Á | Ti/Zn = 0,25 |
| ZnTiOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 14 | 22 - 28 Á | Ti/Zn =2,5 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| TiOx | 16 | 30 - 40 Á | |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 17 | 680 Á | Ti/Zn = 0,25 |
| ZnTiOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 18 | 15 - 20 Á | Ti/Zn =2,5 |
··
| Ag | 19 | 100 Á | |
| TiOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 30 - 40 Á | |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnTiOx | 21 22 | 240 Á | Ti/Zn = 0,25 |
Uvedené vrchní vrstvy TiOx mohly být částečně nebo zcela zoxidovány na oxid titaničitý (TiO2) , přičemž stupeň oxidace závisel na podmínkách tepelné úpravy, kterým byla uvedená zasklívací tabule vystavena.
Příklad 2
Příklad 2 je podobný příkladu 1 s tím, že pro vytvoření antireflexních vrstev byl použit ZnAlOx. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 11 12 | 315 Á | Al/Zn =0,4 |
| Podkladová bariéra Ti | 14 | 10 Á | |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra Ti | 16 | 20 Á |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 760 Á | Al/Zn =0,4 |
| Podkladová bariéra Ti | 18 | 0 8 A | |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra Ti | 20 | 20 Á | |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 21 22 | 270 Á | Al/Zn = 0,4 |
Přičemž ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Titanové (Ti) bariéry byly naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužil titan, ve v podstatě inertní atmosféře, která neobsahovala kyslík.
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
♦ «· ·· ·· ·· • · · · ··· ·· • ·· « ···· · · ··· ·· ·· ·· *· ···
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 61 procent | 76 procent |
| TE (systém Moon 2) | 36 procent | 43 procent |
| zákal | 0,1 | 0,29 |
| a* | -17 (na straně povlaku) | -4 (na vnější straně) |
| b* | + 6 (na straně povlaku) | -9 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 30 procent (na straně povlaku) | 32 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
♦·♦· ··· ·· * ·· · ···· · · • · · · · ·· ·· ··
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 11 12 | 315 Á | Al/Zn =0,4 |
| TiOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 14 | 15 - 20 Á | |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| TiOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 30 - 40 Á | |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 760 A | Al/Zn =0,4 |
| TiOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 18 | 12 - 15 Á | |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| TiOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 30 - 40 Á | |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 21 22 | 270 Á | Al/Zn =0,4 |
V alternativním provedení příkladu 2 může základní vrstva dielektrika zahrnovat první vrstvu ZnAlOx, ve které je atomový poměr Al/Zn v rozmezí od 0,12 do 1, a vrchní vrstvu ZnAlOx, ve které je atomový poměr Al/Zn menší, než v uvedené první vrstvě, například 0,1.
• · <· · · · · · • · · · · ♦ · · ·· · · · · ♦ · · ··· · · · · · · · ··· ·· 99 ·® ·· ···
Aniž by došlo k překročení rozsahu předmětného vynálezu, je možné nad, pod nebo mezi uvedený vrstvený povlak vpravit další vrstvy.
Kromě již zmíněných výhodných optických vlastností, které je možné pomocí tohoto vynálezu získat, popisuje každý ze shora uvedených příkladů vytvoření nanesené vrstvy, kterou je možné elektricky ohřívat, například v elektricky vyhřívaných oknech automobilů, k jejichž vyhřívání dochází pomocí vhodně umístěných elektrických konektorů za účelem zajištění odmlžovací a/nebo rozmrazovací funkce.
Souřadnice chromátičnosti skleněných tabulí podle shora uvedených příkladů jsou zvlášť vhodné pro použití při výrobě čelních skel automobilů, protože pokud je uvedené sklo zamontováno do karosérie automobilu pod určitým úhlem, zajišťují tyto souřadnice jeho neutrální nebo jemně modrý vzhled při odrazu dopadajícího světla. Pro jiné použití, jako například v případě použití skla podle tohoto vynálezu v architektuře, je možné barvu skla podle předmětného vynálezu upravit způsobem, který je v dané oblasti techniky známý a který zahrnuje úpravu tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev stříbra.
Hodnota TL zasklívací tabule podle předmětného vynálezu může být upravena tak, aby vyhovovala požadovanému použití. Tak například:
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na evropském trhu, může
být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 75 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na trhu Spojených států amerických, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Spojených států amerických);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako přední boční sklo automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako zadní boční sklo nebo zadní sklo automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla v rozmezí od přibližně 30 procent do 70 procent.
Výše uvedené úpravy hodnoty TL je možné dosáhnout například:
úpravou tloušťky vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu, zejména úpravou tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev odrážejících infračervené záření;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným skleněným podkladovým materiálem,· kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným PVB nebo jinými laminačními materiály.
Claims (12)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu;reflexní vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených antireflexních vrstev obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,12 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků.
- 2. Zasklívací tabule podle nároku 1 obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál; základní antireflexní vrstvu;reflexní vrstvu odrážející infračervené záření; střední antireflexní vrstvu;reflexní vrstvu odrážející infračervené záření; vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených antireflexních vrstev obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,12 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny ··· ·· ♦· ·· zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků.
- 3. Zasklívací tabule podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že prvkem X je jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující titan (Ti) a hliník (Al).
- 4. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že uvedenou zasklívací tabulí je tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule.
- 5. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených vrstev směsného oxidu má geometrickou tloušťku rovnou nebo větší než 50 Á.
- 6. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že jak uvedená základní antireflexní vrstva, tak uvedená vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,12 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků.
- 7. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 2 až 6, vyznačující se tím, že uvedená střední antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, který je směsí zinku (Zn) a alespoň • · · · ♦ 9· ·· · 9 999 ·99 9 9 9 9 9 9 9 99999 99 99 99 99999 jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,12 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků.
- 8. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,12 do 1.
- 9. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,15 do 0,6.
- 10. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Zn v uvedené vrstvě směsného oxidu je v rozmezí od 0,2 do 0,5.
- 11. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, že uvedená základní antireflexní vrstva obsahuje vrstvu přiléhající k podkladovému materiálu zahrnující nitrid hliníku nebo nitrid křemíku nebo směs těchto sloučenin a vrchní vrstvu zahrnující vrstvu směsného oxidu.
- 12. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 11, vyznačující se tím, že uvedená vrchní antireflexní vrstva zahrnuje uvedený směsný oxid a vrchní vrstvu zahrnující nitrid hliníku nebo nitrid křemíku nebo směs těchto sloučenin.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204317 | 1998-12-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20012220A3 true CZ20012220A3 (cs) | 2002-02-13 |
| CZ296563B6 CZ296563B6 (cs) | 2006-04-12 |
Family
ID=8234490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20012220A CZ296563B6 (cs) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Zasklívací tabule a zpusob její výroby |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6562490B2 (cs) |
| EP (1) | EP1154965B1 (cs) |
| JP (1) | JP2000229381A (cs) |
| AT (1) | ATE296787T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ296563B6 (cs) |
| DE (1) | DE69925641T2 (cs) |
| ES (1) | ES2243093T3 (cs) |
| HU (1) | HU224665B1 (cs) |
| PL (1) | PL199409B1 (cs) |
| SK (1) | SK285983B6 (cs) |
| WO (1) | WO2000037380A1 (cs) |
Families Citing this family (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027050A1 (en) * | 1999-10-14 | 2001-04-19 | Glaverbel | Glazing |
| WO2002007967A1 (en) * | 2000-07-20 | 2002-01-31 | Glaverbel | Glazing |
| BE1014579A3 (fr) | 2002-01-17 | 2004-01-13 | Glaverbel | Vitrage a couches transforme thermiquement. |
| CN1777690B (zh) * | 2003-03-28 | 2010-11-03 | Ppg工业俄亥俄公司 | 采用钛与铝材料的混合物涂覆的衬底,制备该衬底的方法和钛与铝金属的阴极靶材 |
| EP1694275A2 (en) * | 2003-12-18 | 2006-08-30 | AFG Industries, Inc. | Protective layer for optical coatings with enhanced corrosion and scratch resistance |
| US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
| US7537677B2 (en) * | 2005-01-19 | 2009-05-26 | Guardian Industries Corp. | Method of making low-E coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same |
| EP1849594B1 (en) * | 2005-02-17 | 2011-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Conductive laminated body, electromagnetic wave shielding film for plasma display and protection plate for plasma display |
| MX2007014164A (es) * | 2005-05-12 | 2008-02-25 | Agc Flat Glass North America | Recubrimiento de baja emisividad con bajo coeficiente de ganancia de calor solar, propiedades quimicas y mecanicas mejoradas y metodo para fabricar el mismo. |
| US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| GB0600425D0 (en) * | 2006-01-11 | 2006-02-15 | Pilkington Plc | Heat treatable coated glass pane |
| US7508586B2 (en) * | 2006-04-14 | 2009-03-24 | Southwall Technologies, Inc. | Zinc-based film manipulation for an optical filter |
| GB0712447D0 (en) * | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US7807248B2 (en) * | 2007-08-14 | 2010-10-05 | Cardinal Cg Company | Solar control low-emissivity coatings |
| US7901781B2 (en) | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| US7824777B2 (en) * | 2008-03-26 | 2010-11-02 | Southwall Technologies, Inc. | Robust optical filter utilizing pairs of dielectric and metallic layers |
| US8409717B2 (en) | 2008-04-21 | 2013-04-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| EP2524099B1 (en) | 2010-01-16 | 2020-09-30 | Cardinal CG Company | High quality emission control coatings, emission control glazings |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| US8790783B2 (en) * | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| DE102011116191A1 (de) * | 2011-10-13 | 2013-04-18 | Southwall Europe Gmbh | Mehrschichtsysteme für eine selektive Reflexion elektromagnetischer Strahlung aus dem Wellenlängenspektrum des Sonnenlichts und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US9045363B2 (en) * | 2011-12-27 | 2015-06-02 | Intermolecular, Inc. | Low-E panels with ternary metal oxide dielectric layer and method for forming the same |
| JP5859476B2 (ja) | 2013-04-11 | 2016-02-10 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| JP2018124510A (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 旭硝子株式会社 | 映像投影用構造体、透明スクリーン、および映像投影用構造体の製造方法 |
| US10179946B2 (en) * | 2017-03-03 | 2019-01-15 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same |
| US10451783B2 (en) * | 2017-05-22 | 2019-10-22 | Viavi Solutions Inc. | Induced transmission filter having plural groups of alternating layers of dielectric material for filtering light with less than a threshold angle shift |
| JP7303496B2 (ja) * | 2018-02-02 | 2023-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | 膜付き透明基板の製造方法 |
| JP2019133078A (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 日本電気硝子株式会社 | 光学素子、ハーフミラー、及びバンドパスフィルタ |
| GB201805065D0 (en) * | 2018-03-28 | 2018-05-09 | Pilkington Group Ltd | Coated glass pane |
| US10830933B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-11-10 | Guardian Glass, LLC | Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
| CN113012846B (zh) * | 2019-12-20 | 2024-03-26 | 荣耀终端有限公司 | 导电电极及其制备方法和电子设备 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
| DE3750823C5 (de) | 1986-01-29 | 2006-01-26 | Pilkington Plc, St. Helens | Beschichtetes Glas. |
| WO1988001230A1 (en) | 1986-08-20 | 1988-02-25 | Libbey-Owens-Ford Co. | Solar control glass assembly and method of making same |
| US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
| US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
| SG47839A1 (en) * | 1990-07-05 | 1998-04-17 | Asahi Glass Co Ltd | A low emissivity film |
| US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| DE69220901T3 (de) | 1991-10-30 | 2005-01-20 | Asahi Glass Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases |
| US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
| DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| EP0758306B2 (en) * | 1994-05-03 | 2005-03-23 | Cardinal Ig Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
| DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
-
1999
- 1999-12-15 PL PL349339A patent/PL199409B1/pl unknown
- 1999-12-15 CZ CZ20012220A patent/CZ296563B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 HU HU0104569A patent/HU224665B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 AT AT99968352T patent/ATE296787T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 DE DE69925641T patent/DE69925641T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 ES ES99968352T patent/ES2243093T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 SK SK836-2001A patent/SK285983B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010073 patent/WO2000037380A1/en active IP Right Grant
- 1999-12-15 EP EP99968352A patent/EP1154965B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-20 US US09/466,786 patent/US6562490B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-20 JP JP11360554A patent/JP2000229381A/ja active Pending
-
2003
- 2003-03-24 US US10/394,161 patent/US6783861B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HUP0104569A2 (en) | 2002-11-28 |
| ES2243093T3 (es) | 2005-11-16 |
| US20030012963A1 (en) | 2003-01-16 |
| CZ296563B6 (cs) | 2006-04-12 |
| JP2000229381A (ja) | 2000-08-22 |
| PL349339A1 (en) | 2002-07-15 |
| EP1154965A1 (en) | 2001-11-21 |
| US20030186062A1 (en) | 2003-10-02 |
| ATE296787T1 (de) | 2005-06-15 |
| HU224665B1 (hu) | 2005-12-28 |
| WO2000037380A1 (en) | 2000-06-29 |
| EP1154965B1 (en) | 2005-06-01 |
| SK285983B6 (sk) | 2007-12-06 |
| DE69925641D1 (de) | 2005-07-07 |
| DE69925641T2 (de) | 2006-04-27 |
| US6783861B2 (en) | 2004-08-31 |
| PL199409B1 (pl) | 2008-09-30 |
| US6562490B2 (en) | 2003-05-13 |
| SK8362001A3 (en) | 2001-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ20012220A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| CZ20012219A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US6472072B1 (en) | Glazing panel | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| EP1514853A2 (en) | Glazing | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| CZ20012218A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MK4A | Patent expired |
Effective date: 20191215 |