PL199409B1 - Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający oraz sposób jego wytwarzania - Google Patents
Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający oraz sposób jego wytwarzaniaInfo
- Publication number
- PL199409B1 PL199409B1 PL349339A PL34933999A PL199409B1 PL 199409 B1 PL199409 B1 PL 199409B1 PL 349339 A PL349339 A PL 349339A PL 34933999 A PL34933999 A PL 34933999A PL 199409 B1 PL199409 B1 PL 199409B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- panel according
- mixed oxide
- atomic ratio
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 31
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 14
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 157
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 73
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 52
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 48
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 24
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 7
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12785—Group IIB metal-base component
- Y10T428/12792—Zn-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Panel oszkleniowy posiada zespó l powlekaj acy zawieraj acy uszeregowane w odpowiednim po- rz adku co najmniej: pod lo ze szklane, podstawow a warstw e przeciwodblaskow a, warstw e odbijaj ac a promieniowanie podczerwone oraz powierzchniow a warstw e przeciwodblaskow a, przy czym co naj- mniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedn a warstw e tlenku mieszanego zawieraj ac a tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materia lu X, w której stosunek atomowy X/Zn jest wi ekszy lub równy 0,12 i w której X stanowi jeden lub wi ecej materia lów wybranych z grupy obejmuj acej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Uk ladu Okreso- wego Pierwiastków. Panel oszkleniowy wykazuje kombinacj e korzystnych w lasno sci, zw laszcza sta- bilno sc ciepln a. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający oraz sposób jego wytwarzania.
Wynalazek dotyczy zwłaszcza, lecz nie wyłącznie, paneli oszkleniowych kontrolujących promieniowanie słoneczne, które są przeznaczone do poddawania ich obróbce cieplnej następującej już po nałożeniu filtra kontrolującego promieniowanie słoneczne. Europejski opis patentowy EP 233003A ujawnia panel oszkleniowy posiadający filtr optyczny naniesiony przez rozpylanie o następującej strukturze: podłoże szklane /SnO2 podstawowy dielektryk/ pierwsza bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Ag /druga bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/ SnO2 powierzchniowy dielektryk. Ten filtr optyczny przeznaczony jest do blokowania znacznej części padającego promieniowania w podczerwonej części widma przy jednoczesnym przepuszczaniu znacznej części padającego promieniowania w widzialnej części widma. W ten sposób, filtr ten działa zmniejszając efekt cieplny padającego światła słonecznego przy jednoczesnym zapewnieniu dobrej widzialności poprzez takie oszklenie i jest szczególnie odpowiedni na szyby samochodowe.
W strukturze tego typu, warstwa Ag działa odbijając padające promieniowanie podczerwone, i aby spełniać tę rolę musi być utrzymywana raczej w postaci metalicznego srebra niż w postaci tlenku srebra i nie może być ona zanieczyszczana przez warstwy sąsiadujące. Warstwy dielektryczne, które obejmują warstwę Ag, mają na celu zmniejszanie odbicia widzialnej części widma, co w przeciwnym wypadku wywoływałaby sama warstwa Ag. Druga bariera służy do zapobiegania utlenianiu warstwy Ag podczas napylania górnej dielektrycznej warstwy SnO2 w atmosferze utleniającej; ta bariera jest, co najmniej częściowo utleniana podczas tego procesu. Głównym zadaniem pierwszej warstwy barierowej jest zapobieganie utlenianiu warstwy srebrnej podczas obróbki cieplnej tej powłoki (tj. podczas zginania i/lub hartowania) panelu oszkleniowego dzięki temu, że to ta warstwa raczej sama się utlenia niż pozwoli na przechodzenie przez nią tlenu do warstwy Ag. Takie utlenianie warstwy barierowej podczas obróbki cieplnej powoduje wzrost TL w panelu oszkleniowym.
Europejski opis patentowy EP 792847A ujawnia panel oszkleniowy kontrolujący promieniowanie słoneczne nadający się do obróbki cieplnej, który oparty jest na takiej samej zasadzie i ma następującą strukturę: podłoże szklane /dielektryk ZnO/ bariera Zn/Ag /bariera Zn/dielektryk ZnO/ bariera Zn/Ag /bariera Zn/ dielektryk ZnO. Bariery ZnO usytuowane poniżej każdej z warstw Ag są przeznaczone do całkowitego utlenienia się podczas obróbki cieplnej i służą do ochrony warstw Ag przed utlenianiem. Jak dobrze wiadomo w stanie techniki, struktura posiadająca zamiast pojedynczej warstwy Ag raczej dwie, oddzielone od siebie warstwy Ag podwyższa selektywność tego filtra.
Europejski opis patentowy EP 275474A ujawnia panel kontrolujący promieniowanie słoneczne nadający się do obróbki cieplnej o następującej strukturze: podłoże szklane /dielektryk cynian cynku/bariera Ti/Ag /bariera Ti/dielektryk cynian cynku. Bariery Ti są ogólnie korzystne w tego typu strukturach nadających się do obróbki cieplnej z powodu ich wysokiego powinowactwa do tlenu i względnej łatwości, z jaką mogą one być utleniane do postaci tlenku tytanu, Europejski opis patentowy EP 464789 ujawnia panel o następującym układzie warstw: szkło /ZnO domieszkowany Al/Ag/ warstwa barierowa Zn domieszkowana Al/ZnO domieszkowany Al, przy czym stosunek Al/(Al+Zn) wynosi 3% atomowo. ZnO jest domieszkowany, co najmniej jednym pierwiastkiem wybranym z grupy obejmującej Al, Si, B, Ti, Sn, Mg i Cr w ilości wynoszącej nie więcej niż 10% atomowo. 10% atomowo X/(X+Zn) jest równoważne maksymalnemu stosunkowi atomowemu X/Zn wynoszącemu 0,11, co jest sprzeczne z panelem według niniejszego wynalazku, dla którego zastrzega się, że stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12. Według informacji zawartych w EP 464789 należy obniżać wewnętrzne naprężenie ZnO, aby otrzymać powłokę o niskiej emisyjności i podwyższonej trwałości. W dokumencie wskazano również, że domieszkowanie ZnO z zastosowaniem Al, Si, B, Ti, Sn, Mg lub Cr w ilości najwyżej 10% atomowo obniża lub eliminuje pojawianie się białego zmętnienia, które obserwowano w znanych powłokach zawierających ZnO.
Cytowany dokument nie ujawnia atomowego stosunku X/Zn większego niż 0,11 a co więcej poucza, że podana wartość jest maksymalną dopuszczalną wartością.
EP 751099 ujawnia następujący układ warstw: szkło / Al zawierające dodatkowy metal / Ag domieszkowane Pd/warstwa barierowa/ZnO zawierający dodatkowy metal, przy czym metal dodatkowy stanowi co najmniej jeden metal wybrany z grupy obejmującej Sn, Al, Cr, Ti, Si, B, Mg i Ga. Stosunek (dodatkowy metal)/(dodatkowy metal + Zn) w domieszkowanym ZnO wynosi 1-10% atomowo.
W dokumencie tym wyjaśniono, że zwiększenie zawartości dodatkowego metalu ponad 10% obniża odporność na zawilgocenie oraz obniża zdolność ZnO do krystalizowania, co obniża jego kompatybilność z Ag. Ponadto cytowany dokument nie ujawnia atomowego stosunku X/Zn o wartości
PL 199 409 B1 wyższej niż 0,11 i w rzeczywistości zawiera pouczenie, aby nie podwyższać zawartości domieszek ponad tę wartość. W w/w dokumencie nie ujawniono również warstw dielektryków domieszkowanych
ZnO, co jest m.in. istotą niniejszego wynalazku.
Ponadto żaden z dokumentów EP 464789, EP 751099 nie wspomina o stabilności cieplnej powłok oraz o ich właściwościach po obróbce cieplnej. W stanie techniki nie ujawniono i nawet nie sugerowano, że można uzyskać dodatkowe korzystne cechy układu, takie jak łatwość osadzania oraz zdolność jego kontrolowania.
W cytowanych dokumentach wyraź nie mówi się o utracie pewnych cech układu przy podwyższeniu wskaźnika domieszkowania X/Zn ponad 0,11, podczas gdy panel według niniejszego wynalazku ma tę wartość wyższą (ponad 0,12). Hl Europejski opis EP 718250 ujawnia układ powlekający, którego właściwości pozostają niezmienione po obróbce cieplnej. W publikacji tej nie ujawniono i nawet nie sugerowano zastosowania warstwy z mieszanych tlenków zawierającej tlenek, który jest mieszaniną Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, co charakteryzuje niniejszy wynalazek.
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, charakteryzujący się tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Panel oszkleniowy zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku, co najmniej: podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, gdzie korzystnie co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Korzystnie X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Ti oraz Al.
Korzystnie panel oszkleniowy stanowi panel nadający się do obróbki cieplnej lub panel poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
Korzystnie co najmniej jedna warstwa tlenku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 5Ί09γπ (50 A).
Korzystnie każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Korzystnie środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Korzystnie stosunek atomowy X/Zn w warstwie tlenku mieszanego mieści się w zakresie 0,12 do 1, korzystniej 0,15 do 0,6.
Szczególnie korzystnie stosunek atomowy X/Zn w warstwie tlenku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 0,5.
PL 199 409 B1
Korzystnie podstawowa warstwa przeciw/odblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu lub azotek krzemu lub ich mieszaninę, oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą warstwę tlenku mieszanego.
Korzystnie powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą azotek glinu lub azotek krzemu lub ich mieszaninę.
Korzystnie panel oszkleniowy stanowi panel nadający się do obróbki cieplnej lub panel poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym obróbka cieplna panelu oszkleniowego nadającego się do obróbki cieplnej w celu utworzenia panelu oszkleniowego poddanego obróbce cieplnej wolnego od zamglenia powoduje wzrost wartości TL tego panelu oszkleniowego o co najmniej 2,5%.
Korzystnie stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy 5.
Przedmiotem wynalazku jest także sposób wytwarzania wyżej określonego panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, charakteryzujący się tym, że obejmuje on etap, w którym panel oszkleniowy poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Wprowadzenie co najmniej jednej z warstw przeciwodblaskowych, zawierającej mieszaninę Zn i jednego ze specyficznych dodatkowych materiałów zapewnia korzystną kombinację własności. Ta warstwa przeciwodblaskowa nie tylko odgrywa główną rolę w zapobieganiu nadmiernym odbiciom widzialnej części widma, lecz także musi ona, na przykład, być kompatybilna z pozostałymi warstwami w tym zespole powlekają cym, musi być odporna mechanicznie i chemicznie oraz musi nadawa ć się do produkcji na skalę przemysłową.
Dowolne odpowiednie sposoby lub kombinacje sposobów można zastosować w celu nakładania warstw powlekających. Na przykład, naparowanie (promieniowanie cieplne lub - elektronowe), piroliza cieczy, chemiczne osadzanie par, osadzanie próżniowe oraz napylanie, zwłaszcza napylanie magnetronowe, przy czym ten ostatni sposób jest szczególnie preferowany. Różne warstwy tego zespołu powlekającego mogą być osadzane za pomocą różnych technik.
Warstwa przeciwodblaskowa według wynalazku może zapewniać korzystną kombinację cech, takich jak:
- odporność cieplna gdy panel oszkleniowy jest ogrzewany, na przykład podczas hartowania i/lub zginania. Godne uwagi jest to, że zastosowanie niniejszego wynalazku może zmniejszyć degradację warstwy odbijającej promieniowanie podczerwone gdy porówna się ją z podobnymi strukturami stosowanymi, na przykład, ze znanymi warstwami przeciwodblaskowymi zawierającymi ZnO lub SnO2.
- łatwość i zdolność kontrolowania osadzania: warstwa przeciwodblaskowa w panelu według wynalazku może być osadzana dużo łatwiej i przy większej kontroli niż, na przykład, Al2O3 lub SiO2. Podczas gdy Al2O3 oraz SiO2 wykazują dobry stopień stabilności cieplnej, to jednak są one trudne do osadzania przy zastosowaniu zwykłych technik napylania.
- odporność mechaniczna: warstwa przeciwodblaskowa w panelu wedł ug wynalazku moż e być stosowana bez wstępnego szacowania odporności mechanicznej całej powłoki. W szczególności, może ona zachowywać się poprawnie w próbie z ubijakiem, gdzie panel oszkleniowy zastosowany jest w strukturze laminowanej.
- kompatybilność z Ag: krystalizacja warstwy Ag oddziaływuje na jej własności optyczne. Czysta warstwa ZnO sąsiadująca z warstwą Ag może prowadzić do nadmiernej krystalizacji tego Ag i do problemów z zamgleniem w tej powłoce, zwłaszcza gdy powłokę poddaje się obróbce cieplnej. Jednakże, gdy warstwa przeciwodblaskowa nie zawiera ZnO, to można uzyskać niedostateczną rekrystalizację warstwy Ag, co z kolei wpływa na poziom odbicia promieniowania podczerwonego i na poziom przewodności elektrycznej w tej powłoce, które uzyskują wartości poniżej optymalnych możliwych do uzyskania. Niniejszy wynalazek można stosować dla uzyskania korzystnej krystalizacji o wystarczającym stopniu w celu zapewnienia dobrych własności odbijania promieniowania podczerwonego przy jednoczesnym uniknięciu nadmiernego zamglenia. W szczególności, może to zapewnić korzystną krystalizację porównywalną z warstwą przeciwodblaskową złożoną z TiO2. Jednym z możliwych wyjaśnień tego zjawiska może być to, że obecność materiału X w strukturze tlenku cynku może zmniejszać wzrost ziaren krystalicznych w warstwie tlenku mieszanego, zwłaszcza w kierunku prostopadłym do podłoża. Może to powodować powstawanie mniejszych kryształków, uzyskiwanie struktury bardziej amorficznej, co zmniejsza dyfuzję, która w przeciwnym wypadku mogłaby występować przy granicach ziaren krystalicznych.
- czas cyklu produkcyjnego: warstwa tlenku, którą stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego specyficznego dodatkowego materiału, zwłaszcza gdy tym dodatkowym materiałem jest Ti, Ta, Zr, Nb, Bi lub mieszanina tych metali, zasadniczo będzie miała wyższy współczynnik załamania światła niż warstwy przeciwodblaskowe wykonane na przykład z ZnO czy też SnO2, które są powszechnie stosowane
PL 199 409 B1 w podobnych strukturach, a ponadto będzie ona mogła być jeszcze szybciej osadzana niż znane warstwy przeciwodblaskowe o stosunkowo wysokim współczynniku załamania światła, na przykład TiO2.
W konsekwencji, moż e to umoż liwić uzyskanie znacznej poprawy czasu cyklu produkcyjnego.
- dobra selektywność: wyższy współczynnik załamania może ponadto ułatwiać wzrost selektywności tego zespołu powlekającego, zwłaszcza gdy dodatkowy materiał stanowi Ti, Ta, Zr, Nb, Bi lub mieszanina tych metali.
Zastosowanie warstwy przeciwodblaskowej jako powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej lub jako części powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej, a zwłaszcza jako warstwy poddawanej działaniu atmosfery, może zapewnić dobrą odporność chemiczną i mechaniczną. Ponadto, może to zapewnić dobrą kompatybilność z cienką warstwą laminującą, na przykład cienką warstwą PVB, jeśli panel oszkleniowy według wynalazku ma być poddawany laminowaniu w celu utworzenia na przykład przedniej szyby samochodowej lub innego laminowanego panelu oszkleniowego.
Korzystne własności warstwy przeciwodblaskowej w panelu według wynalazku mogą nie zostać uzyskane, jeśli stosunek atomowy X/Zn jest niższy od określonego minimum, na przykład, jeśli materiał X jest obecny w Zn w postaci zanieczyszczeń lub, jeśli stosunek atomowy X/Zn nie jest wystarczająco wysoki. Stosunek atomowy X/Zn może być niższy niż około 10; może być mniejszy lub równy około 5, lub około 4, lub około 3. Może to dostarczyć wystarczającą ilość Zn w warstwie przeciwodblaskowej dla zapewnienia korzystnych własności.
Materiał odbijający promieniowanie podczerwone może stanowić srebro lub stop srebra, na przykład stop srebra zawierający jeden lub więcej spośród Pd, Au oraz Cu, jako materiał dodatkowy. Taki materiał dodatkowy może być obecny w stopie srebra w stosunku atomowym, w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%, korzystnie 0,3 do 5%, a korzystniej, zwłaszcza gdy dodatkowy materiał stanowi Pd, 0,3 do 2%.
Jedna lub więcej spośród warstw przeciwodblaskowych mogą zawierać tlenek, azotek, węglik lub ich mieszaninę. Na przykład, warstwa przeciwodblaskowa może zawierać:
• tlenek jednego lub wi ę cej spoś ród Zn, Ti, Sn, Si, Al, Ta lub Zr; tlenek cynku zawierający Al, Ga, Si lub Sn lub tlenek indu zawierający Sn;
• azotek jednego lub wię cej spoś ród Si, Al i B lub mieszaninę (w tym podwójny azotek) azotku Zr lub azotku Ti z jednym spośród wyżej wymienionych azotków;
• związek podwójny, na przykład, SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy lub SiAlxOyNz.
Warstwę przeciwodblaskową może stanowić warstwa pojedyncza lub może ona obejmować dwie lub więcej warstw o różnych składach. Tlenek cynku, korzystnie tlenek cynku zawierający, co najmniej jeden spośród Sn, Cr, Si, B, Mg, In, Ga i korzystnie Al i/lub Ti jest szczególnie preferowany gdyż użycie tych materiałów może ułatwiać trwałe tworzenie sąsiedniej warstwy odbijającej promieniowanie podczerwone o wysokiej krystalizacji.
Korzystną kombinację własności uzyskanych dzięki warstwie przeciwodblaskowej w panelu według wynalazku można wykorzystać również w zespole powlekającym posiadającym dwie, lub nawet więcej niż dwie, oddzielone od siebie, warstwy odbijające promieniowanie podczerwone.
W celu uzyskania panelu oszkleniowego o selektywnoś ci wię kszej niż 1,5 lub 1,7 moż na zastosować wielokrotne, oddzielone od siebie, warstwy odbijające promieniowanie podczerwone.
Szczególnie korzystne własności można uzyskać, jeśli materiał dodatkowy X zawiera:
- zasadniczo Ti,
- Ti oraz jeden lub wię cej materiał ów dodatkowych wybranych ze specyficznej grupy materiałów, na przykład, Ti oraz Al,
- zasadniczo Al,
- Al oraz jeden lub więcej materiałów dodatkowych wybranych ze specyficznej grupy materiałów.
A zatem niniejszy wynalazek może zapewnić uzyskanie kombinacji własności o szczególnych korzyściach polegających na dostarczeniu paneli oszkleniowych nadających się do obróbki cieplnej oraz paneli oszkleniowych poddanych obróbce cieplnej. Jednakże wynalazek ten może także dostarczać paneli oszkleniowych niepoddawanych obróbce cieplnej.
Używane w tym opisie określenie „panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej” oznacza, że ten panel oszkleniowy posiada zespół powlekający przystosowany do poddawania go zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub operacji utwardzania cieplnego i/lub innym obróbkom cieplnym bez występowania zamglenia tak traktowanych paneli oszkleniowych przekraczającego wartość 0,5, korzystnie bez zamglenia przekraczającego wartość 0,3.
PL 199 409 B1
Stosowane w tym opisie określenie „poddawany obróbce cieplnej panel oszkleniowy bez zamglenia” (lub „zasadniczo bez zamglenia”) oznacza panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający, który został poddawany zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub utwardzaniu cieplnemu i/lub innym obróbkom cieplnym już po osadzeniu na nim tego zespołu powlekającego, i posiada on zamglenie nieprzekraczające wartości 0,5, korzystnie nieprzekraczające wartości 0,3. Taka obróbka cieplna może być związana z ogrzewaniem lub poddawaniem tego panelu oszkleniowego posiadającego zespół powlekający działaniu temperatury wyższej niż około 560°C, na przykład pomiędzy 560°C a 700°C w atmosferze. Innymi tego typu obróbkami cieplnymi mogą być: spiekanie materiałów ceramicznych lub emalii, próżniowe uszczelnianie jednostki o podwójnym oszkleniu oraz kalcynacja (wypalanie) naniesionej na mokro powłoki słabo odbijającej lub też powłoki przeciw-oślepieniowej.
Obróbka cieplna, zwłaszcza, gdy stanowi ją wyginanie i/lub hartowanie cieplne i/lub operacja utwardzania cieplnego, może być prowadzona w temperaturze: co najmniej 600°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, co najmniej 620°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, lub też co najmniej 640°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut.
Takie zaaranżowanie grubości warstwy tlenku mieszanego tak, aby miała ona grubość co najmniej
5-10-9m (50 A) może dostarczać wystarczającą jej ilość aby uzyskać wartościowy i godny odnotowania skutek. Geometryczna grubość warstwy tlenku mieszanego w panelu według wynalazku może wynosić co najmniej 8409m (80 A), 10-8m (100 A), 1,2408m (120 A), 1,4408m (140 A) lub 1,6408m (160 A).
Warstwa tlenku, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego specyficznego dodatkowego materiału może być stosowana w celu nadawania korzystnych własności jednej, więcej niż jednej, lub korzystnie wszystkim spośród warstw przeciwodblaskowych w tym zespole powlekającym. Zastosowanie tej mieszaniny we wszystkich spośród warstw przeciwodblaskowych należących do tego zespołu powlekającego może znacznie uprościć proces kontrolowania oraz zamawiania oraz przechowywania niezbędnych tarcz. Jeśli więcej niż jedna spośród warstw przeciwodblaskowych zawiera warstwę tlenku, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego specyficznego dodatkowego materiału, to takie warstwy tlenku mogą posiadać takie same lub zasadniczo takie same składy.
Szczególnie korzystną kombinację własności omawianych powyżej można uzyskać, gdy stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie 0,12 do 1, a korzystnie w zakresie 0,15 do 0,6, a najkorzystniej w zakresie 0,2 do 0,5.
Warstwa tlenku może być kompatybilna do stosowania z warstwą przeciwodblaskową i korzystnie może być ona łączona z warstwą zawierającą azotek glinu lub azotek krzemu lub ich mieszaniną w jedną lub więcej warstw przeciwodblaskowych. Może to zapewniać szczególnie dobrą stabilność cieplną, zwłaszcza gdy taka kombinacja jest stosowana w podstawowej i/lub powierzchniowej warstwie przeciwodblaskowej.
Zespół filtrujący może zawierać jedną lub więcej warstw barierowych znajdujących się pod i/lub nad warstwą odbijającą promieniowanie podczerwone, co dobrze jest znane w stanie techniki. Można zastosować warstwy barierowe wykonane z, na przykład, jednego lub więcej spośród następujących materiałów: Ti, Zn, Ta, Cr, „stal nierdzewna”, Zr, Ni, NiCr, ZnTi, NiTi oraz ZnAl. Takie warstwy barierowe mogą być osadzane, na przykład, jako warstwy metaliczne lub jako podtlenki (tj. warstwy częściowo utlenione). Alternatywnie, można również zastosować warstwy barierowe z azotków.
Jedna lub więcej takich warstw barierowych może zawierać takie same materiały jak warstwa tlenku mieszanego, a zwłaszcza jak przylegająca do niej warstwa tlenku mieszanego.
Może to znacznie ułatwić zarządzanie tarczami i kontrolowanie warunków osadzania, a w późniejszym przypadku może zapewnić dobre przyleganie pomiędzy warstwami, a zatem dobrą wytrzymałość mechaniczną tego zespołu powlekającego.
Obróbka cieplna może spowodować wzrost wartości TL panelu oszkleniowego według wynalazku. Taki wzrost wartości TL może być korzystny przy zapewnieniu, że wartość TL dla tego panelu oszkleniowego jest wystarczająco wysoka do zastosowania go, jako przednia szyba pojazdu. Wartość TL może wrosnąć w warunkach bezwzględnych podczas obróbki cieplnej na przykład o więcej niż około 2,5%, więcej niż około 3%, więcej niż około 5%, więcej niż około 8% lub więcej niż około 10%.
Według innego aspektu, niniejszy wynalazek dostarcza sposób wytwarzania panelu oszkleniowego. Sposób taki może być wykorzystany do wytwarzania, na przykład, obrabianych cieplnie architektonicznych paneli oszkleniowych, oszklenia pojazdów, a zwłaszcza szyb samochodowych.
Poniżej zostaną opisane przykłady wykonania niniejszego wynalazku w oparciu o fig. 1, która przedstawia przekrój porzeczny przez panel oszkleniowy przed jego zginaniem i operacją hartowania
PL 199 409 B1 (dla ułatwienia prezentacji, względne grubości panelu oszkleniowego oraz warstw powlekających nie zostały przedstawione w skali).
P r z y k ł a d 1
Figura 1 przedstawia powłokę nadającą się do obróbki cieplnej obejmującą podwójną warstwę Ag, osadzoną na podłożu szklanym przez napylanie magnetronowe i posiadającą uszeregowaną w odpowiednim porzą dku nastę pują c ą strukturę :
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m (2 mm) | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 11 12 | 2,8·10-8 m (280 A) | Ti/Zn=0,25 |
| Dolna warstwa barierowa ZnTiOy | 14 | 1,5·10-9 m (15 A) | Ti/Zn=2,5 |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| Górna warstwa barierowa Ti | 16 | 2·10-9 m (20 A) | |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 17 | 6,8·10-8 m (680 A) | Ti/Zn=0,25 |
| Dolna warstwa barierowa ZnTiOy | 18 | 10-9 m (10 A) | Ti/Zn=2,5 |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| Górna warstwa barierowa Ti | 20 | 2·10-9 m (20 A) | |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 21 22 | 2,4·10-8 m (240 A) | Ti/Zn=0,25 |
w której ZnTiOx oznacza tlenek mieszany zawierają cy Zn i Ti osadzony w tym przykł adzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Ti w obecności tlenu. Warstwy barierowe ZnTiOy osadzone są podobnie przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Ti w atmosferze zawierającej tlen wzbogacony w argon dla osadzenia warstwy barierowej, która nie będzie całkowicie utleniona.
Alternatywnie, warstwa tlenku mieszanego może być utworzona przez napylanie z tarczy, którą stanowi mieszanina tlenku cynku i tlenku materiału X, zwłaszcza w atmosferze zawierającej gaz argon lub tlen wzbogacony argonem.
Niekoniecznie stan utlenienia w każdej spośród podstawowej, środkowej i powierzchniowej dielektrycznej warstwy ZnTiOx musi być taki sam. Podobnie, stan utlenienia w każdej z warstw barierowych ZnTiOy nie musi być taki sam. Jednakowoż, stosunek Ti/Zn nie musi być taki sam dla wszystkich warstw; na przykład, warstwy barierowe mogą mieć inny stosunek Ti/Zn niż dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe, a poszczególne dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe też mogą mieć inne od siebie nawzajem wartości stosunków Ti/Zn.
Każda górna warstwa barierowa chroni leżącą pod nią warstwę srebra przed utlenieniem podczas osadzania przez napylanie leżącej z kolei na niej warstwy tlenku ZnTiOx. Podczas gdy dalsze utlenianie tych warstw barierowych może nastąpić podczas osadzania leżących na nich warstw tlenku, to część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące własności:
PL 199 409 B1
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 64% | 77% |
| TE (Układ Moon 2) | 39% | 40% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,28 |
| a* | -12 (strona powlekana) | -3 ( zewnętrzna) |
| b* | + 4 (strona powlekana) | -8 ( zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 33% (strona powlekana) | 34% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 650°C przez 10 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2·10-3 m (2 mm) oraz z jasnym PVB o grubości 7,6·10-4 m (0,76 mm)
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10'3 m (2 mm) | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 11 12 | 2,8·10'8 m (280 A) | Ti/Zn=0,25 |
| ZnTiOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 14 | 2,2·10'9 m - 2,8-10-9 m (22 A - 28 A) | Ti/Zn=2,5 |
| Ag | 15 | 10'8 m (100 A) | |
| TiOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 16 | 3·10-9 m - 4-10'9 m (30 A - 40 A) | |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 17 | 6,8·10'8 m (680 A) | Ti/Zn=0,25 |
| ZnTiOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 18 | 1,5·10-9 m - 2-10'9 m (15 A - 20 A) | Ti/Zn=2,5 |
| Ag | 19 | 10'8 m (100 A) | |
| TiOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 3·10-9 m - 4-10'9 m (30 A - 40 A) | |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnTiOx | 21 22 | 2,4·10'8 m (240 A) | Ti/Zn=0,25 |
Dolne warstwy barierowe TiOx mogą być częściowo utlenione lub mogą być całkowicie utlenione do TiO2 w zależności od warunków obróbki cieplnej, jakiej poddawany jest ten panel oszkleniowy.
P r z y k ł a d 2
Przykład 2 jest podobny do przykładu 1 z tą różnicą, że jako warstwy przeciwodblaskowe zastosowano tutaj ZnAlOx. Zespół powlekający i własności według przykładu 2 przedstawiono poniżej:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10'3 m (2 mm) | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 11 12 | 3,15·10-8 m (315 A) | Al/Zn=0,4 |
PL 199 409 B1
| Dolna warstwa barierowa Ti | 14 | 10-9 m (10 A) | |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| Górna warstwa barierowa Ti | 16 | 2-10-9 m (20 A) | |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,6-10-8 m (760 A) | Al/Zn=0, 4 |
| Dolna warstwa barierowa Ti | 18 | 8-10-10 m (8 A) | |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| Górna warstwa barierowa Ti | 20 | 2-10-9 m (20 A) | |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 21 22 | 2,7-10-8 m (270 A) | Al/Zn=0, 4 |
w której ZnAlOx oznacza tlenek mieszany zawierający Zn i Al osadzony w tym przykładzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w obecności tlenu. Warstwy barierowe Ti osadzone są przez napylanie z tarczy tytanowej w zasadniczo obojętnej, wolnej od tlenu atmosferze.
Co najmniej część górnych warstw barierowych 16, 20 jest utlenionych podczas osadzania leżących na nich warstw tlenkowych. Pomimo tego, część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje w postaci metalicznej, lub przynajmniej w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące własności:
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 61% | 76% |
| TE (Układ Moon 2) | 36% | 43% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,29 |
| a* | -17 (strona powlekana) | -4 (zewnętrzna) |
| b* | + 6 (strona powlekana) | -9 (zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 30% (strona powlekana) | 32% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną.
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 625°C przez 14 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2·10-3 m (2 mm) oraz z jasnym PVB o grubości 7,6·10-4 m (0,76 mm).
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m (2 mm) | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 11 12 | 3,15-10-8 m (315 A) | Al/Zn=0,4 |
| TiOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 14 | 1,5-10-9 m - 2-10-9 m (15 A - 20 A) | |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| TiOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 16 | 3-10-9 m - 4-10-9 m (30 A - 40 A) | |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7, 6-10-8 m (760 A) | Al/Zn=0,4 |
PL 199 409 B1
| TiOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 18 | 1,2·10-9 m - 1,5·10-9 m (12 A - 15 A) | |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| TiOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 3·10-9 m - 4·10-9 m (30 A - 40 A) | |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 21 22 | 2,7·10-8 m (270 A) | Al/Zn=0,4 |
W alternatywnym przykł adzie wykonania wynalazku, podstawowa warstwa dielektryczna z przykładu 2 może zawierać pierwszą warstwę ZnAlOx o stosunku atomowym Al/Zn mieszczącym się w przedziale 0,12 do 1, oraz górną warstw ę ZnAlOx o stosunku atomowym Al/Zn mniejszym niż w tej pierwszej warstwie, na przykład równym 0,1.
W miarę potrzeby dodatkowe warstwy mogą być wprowadzone ponad, poniżej lub pomię dzy ten układ zespołu powlekającego cienkimi warstwami bez wykraczania poza zakres niniejszego wynalazku.
Oprócz korzystnych własności optycznych, które można uzyskać, każdy z przykładów zapewnia powłokę, która może być ogrzewana elektrycznie, na przykład, w ogrzewanych elektrycznie szybach samochodowych w celu zapewnienia funkcji pozbywania się pary i/lub odmrażania przy dodaniu odpowiednio umieszczonych konektorów elektrycznych.
Kolorowe koordynaty z tych przykładów są szczególnie odpowiednie na szyby samochodowe, gdyż dają one neutralny lub lekko niebieski wygląd przy odbiciu, gdy szyba zamontowana jest pod kątem w stosunku do karoserii samochodowej. Dla innych zastosowań, na przykład, jeśli pożądany jest lekko zielony wygląd dla szyb samochodowych lub w przypadku zastosowań architektonicznych, dla których pożądany jest odmienny kolor, kolor w odbiciu można dostosować zgodnie z wiedzą zawartą w stanie techniki przez dostosowanie grubości warstw dielektrycznych i/lub warstw srebra.
Wartość TL panelu oszkleniowego można dostosować do pożądanego zastosowania. Na przykład:
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek europejski, to można dobrać wartość TL wyższą niż 75% (co wymagają przepisy europejskie).
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek amerykański, to można dobrać wartość TL wyższą niż 70% (co wymagają przepisy amerykańskie).
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednie ś wiatł o pozycyjne do pojazdu, to można dostosować wartość TL wyższą niż 70% (co wymagają przepisy europejskie).
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako tylne ś wiatł o pozycyjne do pojazdu lub tylna szyba samochodowa, to można dobrać wartość TL równą od około 30% do 70%.
Takie dopasowywanie wartości TL można uzyskać, na przykład:
- przez dostosowanie gruboś ci warstw zespoł u powlekają cego, a zwłaszcza gruboś ci warstw dielektryka i/lub warstw odbijających promieniowanie podczerwone.
- przez łączenie zespołu powlekającego z zabarwionym podłożem szklanym.
- przez łączenie zespołu powlekają cego z zabarwionym PVB lub innymi tworzywami laminują cymi.
Terminologia
O ile w opisie nie jest wskazane inne znaczenie z kontekstu, to poniż sze terminy mają nastę pujące znaczenia w tym opisie:
| a* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| Ag | srebro | |
| Al | glin | |
| Al2O3 | tlenek glinu | |
| AlN | azotek glinu | |
| b* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| Bi | bizmut | |
| Cr | chrom |
PL 199 409 B1
| zamglenie | procent transmitowanego światła, który przechodzi przez odchylenia próbki od padającej wiązki przez przednie rozpraszanie, jak mierzono zgodnie z normą ASTM Designation D 1003-61 (ponownie aprobowane w 1988 r.) | |
| materiał odbijający promieniowanie podczerwone | materiał, który ma współczynnik odbicia wyższy od współczynnika odbicia szkła sodowo-wapniowego w zakresie długości fali od 7,8·10'7ιτι (780 nm) do 5·10-5 m (50 mikronów) | |
| Nb | niob | |
| NiCr | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i chrom | |
| NiTi | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i tytan | |
| RE | odbicie energetyczne | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) odbitego od podłoża jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| selektywność | stosunek transmitancji świetlnej do transmitancji energetycznej, czyli TL/TE | |
| SiO2 | tlenek krzemu | |
| Si3N4 | azotek krzemu | |
| SnO2 | tlenek cyny | |
| Ta | tantal | |
| TE | transmitancja energetyczna | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) przepuszczonego przez podłoże jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Ti | tytan | |
| TL | transmitancja świetlna | strumień promieniowania słonecznego przepuszczony przez podłoże jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Zn | cynk | |
| ZnAl | stop lub mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnAlOx | tlenek mieszany zawierający cynk i glin | |
| ZnAlOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnO | tlenek cynku | |
| ZnTi | stop lub mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| ZnTiOx | tlenek mieszany zawierający cynk i tytan | |
| ZnTiOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| Zr | cyrkon |
Zastrzeżenia patentowe
Claims (15)
1. Panel oszkleniowy posiadający zespól powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodat12
PL 199 409 B1 kowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
2. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
3. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Ti oraz Al.
4. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
5. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że co najmniej jedna warstwa tlenku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 5·10-9 m
6. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
7. Panel oszkleniowy według zastrz. 2, znamienny tym, że środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,12, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
8. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn w warstwie tlenku mieszanego mieści się w zakresie 0,12 do 1.
9. Panel oszkleniowy według zastrz. 8, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn w warstwie tlenku mieszanego mieści się w zakresie 0,15 do 0,6.
10. Panel oszkleniowy według zastrz. 9, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn w warstwie tlenku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 0,5.
11. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu lub azotek krzemu lub ich mieszaninę, oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą warstwę tlenku mieszanego.
12. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą azotek glinu lub azotek krzemu lub ich mieszaninę.
13. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym obróbka cieplna panelu oszkleniowego nadającego się do obróbki cieplnej w celu utworzenia panelu oszkleniowego poddanego obróbce cieplnej wolnego od zamglenia powoduje wzrost wartości TL tego panelu oszkleniowego o co najmniej 2,5%.
14. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy 5.
15. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5 i określonego w zastrz. 1, znamienny tym, że obejmuje on etap, w którym panel oszkleniowy określony w zastrz. 1 poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204317 | 1998-12-18 | ||
| PCT/EP1999/010073 WO2000037380A1 (en) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Glazing panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL349339A1 PL349339A1 (en) | 2002-07-15 |
| PL199409B1 true PL199409B1 (pl) | 2008-09-30 |
Family
ID=8234490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL349339A PL199409B1 (pl) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający oraz sposób jego wytwarzania |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6562490B2 (pl) |
| EP (1) | EP1154965B1 (pl) |
| JP (1) | JP2000229381A (pl) |
| AT (1) | ATE296787T1 (pl) |
| CZ (1) | CZ296563B6 (pl) |
| DE (1) | DE69925641T2 (pl) |
| ES (1) | ES2243093T3 (pl) |
| HU (1) | HU224665B1 (pl) |
| PL (1) | PL199409B1 (pl) |
| SK (1) | SK285983B6 (pl) |
| WO (1) | WO2000037380A1 (pl) |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU7920400A (en) * | 1999-10-14 | 2001-04-23 | Glaverbel | Glazing |
| EP1305162A1 (en) * | 2000-07-20 | 2003-05-02 | Glaverbel | Glazing |
| BE1014579A3 (fr) | 2002-01-17 | 2004-01-13 | Glaverbel | Vitrage a couches transforme thermiquement. |
| EP1611265B1 (en) * | 2003-03-28 | 2017-05-03 | Vitro, S.A.B. de C.V. | Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials |
| MXPA06007048A (es) * | 2003-12-18 | 2007-04-17 | Afg Ind Inc | Pelicula protectora para recubrimientos opticos con resistencia mejorada a la corrosion y rayadura. |
| US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
| US7537677B2 (en) * | 2005-01-19 | 2009-05-26 | Guardian Industries Corp. | Method of making low-E coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same |
| WO2006088108A1 (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-24 | Asahi Glass Company, Limited | 導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板 |
| CN101237990B (zh) * | 2005-05-12 | 2013-11-20 | 北美Agc平板玻璃公司 | 具有低的太阳辐射得热系数、增强的化学和物理性能的低发射率镀层及其制备方法 |
| US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| GB0600425D0 (en) * | 2006-01-11 | 2006-02-15 | Pilkington Plc | Heat treatable coated glass pane |
| US7508586B2 (en) * | 2006-04-14 | 2009-03-24 | Southwall Technologies, Inc. | Zinc-based film manipulation for an optical filter |
| GB0712447D0 (en) * | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US7807248B2 (en) * | 2007-08-14 | 2010-10-05 | Cardinal Cg Company | Solar control low-emissivity coatings |
| US7901781B2 (en) * | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| US7824777B2 (en) * | 2008-03-26 | 2010-11-02 | Southwall Technologies, Inc. | Robust optical filter utilizing pairs of dielectric and metallic layers |
| US8409717B2 (en) * | 2008-04-21 | 2013-04-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| JP5722346B2 (ja) | 2010-01-16 | 2015-05-20 | 日本板硝子株式会社 | 高品質放射制御コーティング、放射制御ガラスおよび製造方法 |
| US8557391B2 (en) * | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
| US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| DE102011116191A1 (de) * | 2011-10-13 | 2013-04-18 | Southwall Europe Gmbh | Mehrschichtsysteme für eine selektive Reflexion elektromagnetischer Strahlung aus dem Wellenlängenspektrum des Sonnenlichts und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US9045363B2 (en) * | 2011-12-27 | 2015-06-02 | Intermolecular, Inc. | Low-E panels with ternary metal oxide dielectric layer and method for forming the same |
| JP5859476B2 (ja) | 2013-04-11 | 2016-02-10 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| JP2018124510A (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 旭硝子株式会社 | 映像投影用構造体、透明スクリーン、および映像投影用構造体の製造方法 |
| US10179946B2 (en) * | 2017-03-03 | 2019-01-15 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same |
| US10451783B2 (en) * | 2017-05-22 | 2019-10-22 | Viavi Solutions Inc. | Induced transmission filter having plural groups of alternating layers of dielectric material for filtering light with less than a threshold angle shift |
| WO2019151431A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 日本電気硝子株式会社 | 膜付き透明基板の製造方法 |
| JP2019133078A (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 日本電気硝子株式会社 | 光学素子、ハーフミラー、及びバンドパスフィルタ |
| GB201805065D0 (en) * | 2018-03-28 | 2018-05-09 | Pilkington Group Ltd | Coated glass pane |
| US10830933B2 (en) * | 2018-06-12 | 2020-11-10 | Guardian Glass, LLC | Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
| WO2020208228A1 (en) | 2019-04-12 | 2020-10-15 | Agc Glass Europe | Specific coated glass for vig assembly |
| CN113012846B (zh) * | 2019-12-20 | 2024-03-26 | 荣耀终端有限公司 | 导电电极及其制备方法和电子设备 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
| DE3750823C5 (de) | 1986-01-29 | 2006-01-26 | Pilkington Plc, St. Helens | Beschichtetes Glas. |
| WO1988001230A1 (en) | 1986-08-20 | 1988-02-25 | Libbey-Owens-Ford Co. | Solar control glass assembly and method of making same |
| US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
| US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
| ES2095271T3 (es) | 1990-07-05 | 1997-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | Pelicula de baja emisividad. |
| US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| US5543229A (en) | 1991-10-30 | 1996-08-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Method of making a heat treated coated glass |
| US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
| DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| WO1995029883A1 (en) * | 1994-05-03 | 1995-11-09 | Cardinal Ig Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| US5763064A (en) | 1995-06-26 | 1998-06-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminate |
| DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
-
1999
- 1999-12-15 DE DE69925641T patent/DE69925641T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 ES ES99968352T patent/ES2243093T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 PL PL349339A patent/PL199409B1/pl unknown
- 1999-12-15 AT AT99968352T patent/ATE296787T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 CZ CZ20012220A patent/CZ296563B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 SK SK836-2001A patent/SK285983B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010073 patent/WO2000037380A1/en active IP Right Grant
- 1999-12-15 HU HU0104569A patent/HU224665B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 EP EP99968352A patent/EP1154965B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-20 JP JP11360554A patent/JP2000229381A/ja active Pending
- 1999-12-20 US US09/466,786 patent/US6562490B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-03-24 US US10/394,161 patent/US6783861B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SK8362001A3 (en) | 2001-11-06 |
| CZ20012220A3 (cs) | 2002-02-13 |
| JP2000229381A (ja) | 2000-08-22 |
| DE69925641T2 (de) | 2006-04-27 |
| HU224665B1 (hu) | 2005-12-28 |
| PL349339A1 (en) | 2002-07-15 |
| US20030186062A1 (en) | 2003-10-02 |
| DE69925641D1 (de) | 2005-07-07 |
| EP1154965B1 (en) | 2005-06-01 |
| EP1154965A1 (en) | 2001-11-21 |
| US6562490B2 (en) | 2003-05-13 |
| HUP0104569A2 (en) | 2002-11-28 |
| ATE296787T1 (de) | 2005-06-15 |
| SK285983B6 (sk) | 2007-12-06 |
| WO2000037380A1 (en) | 2000-06-29 |
| ES2243093T3 (es) | 2005-11-16 |
| US20030012963A1 (en) | 2003-01-16 |
| CZ296563B6 (cs) | 2006-04-12 |
| US6783861B2 (en) | 2004-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL199409B1 (pl) | Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający oraz sposób jego wytwarzania | |
| EP1154963B1 (en) | Glazing panel | |
| PL199520B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US6797389B1 (en) | Glazing | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| PL199886B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |