CZ116397A3 - Process and apparatus for treating liquids by uv radiation - Google Patents
Process and apparatus for treating liquids by uv radiation Download PDFInfo
- Publication number
- CZ116397A3 CZ116397A3 CZ971163A CZ116397A CZ116397A3 CZ 116397 A3 CZ116397 A3 CZ 116397A3 CZ 971163 A CZ971163 A CZ 971163A CZ 116397 A CZ116397 A CZ 116397A CZ 116397 A3 CZ116397 A3 CZ 116397A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- fluid
- radiation source
- fluid treatment
- outlet
- inlet
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 170
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 244000005700 microbiome Species 0.000 abstract description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- VJPLIHZPOJDHLB-UHFFFAOYSA-N lead titanium Chemical compound [Ti].[Pb] VJPLIHZPOJDHLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
- A61L2/10—Ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/34—Treatment of water, waste water, or sewage with mechanical oscillations
- C02F1/36—Treatment of water, waste water, or sewage with mechanical oscillations ultrasonic vibrations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- External Artificial Organs (AREA)
Description
Tento vynález se na jedné straně zabývá zařízením na úpravu tekutin a na druhé straně způsobem úpravy tekutin.
DOSAVADNÍ STAV TECHNIKY
Zařízení a systémy na úpravu tekutin jsou známy. Na příklad, US patenty 4,482,809, 4,872,980, 5,006,244 a 5,418,370 (všechny udělené původci tohoto vynálezu), na jejichž obsahy jsou v tomto textu uvedeny reference, všechny popisují systémy na úpravu tekutin s gravitačním přívodem, které využívají ultrafialové záření ke zničení mikroorganismů přítomných v tekutině.
Zařízení a systémy popsané v patentech '809, '980 a '244 obsahují obecně několik UV lamp, z nichž každá je instalována uvnitř pouzder, které jsou umístěny mezi dvěma nosnými rameny rámů. Rámy jsou ponořeny do tekutiny, jenž má být upravena, a která je pak ozářena tak, jak je požadováno. Míra ozáření, kterému je tekutina vystavena, je stanovena vzdáleností tekutiny od lamp. Pro monitorování UV výstupu lamp je použito jednoho nebo více UV senzorů a hladina tekutiny je řízena typicky po směru proudu úpravného zařízení prostřednictvím hladinových stavidel nebo podobných systémů. Protože při vyšších rychlostech průtoku je dosažení přesného řízení hladiny tekutiny v systémech s gravitačním přívodem obtížné, jsou nevyhnutelná kolísání hladiny tekutiny. Taková kolísání by mohla vést k nejednotnému ozařování upravované tekutiny.
Nicméně u výše popsaných systémů existují nevýhody. V závislosti na kvalitě tekutiny, která je upravována dochází k periodickému zanášení pouzder obklopujících UV lampy cizorodými materiály, čímž je omezována jejich schopnost přenášet UV záření na tekutinu. Pokud jsou pouzdra zašpiněna musejí být v intervalech určených ze záznamů provozních údajů nebo z měření pomocí UV
- 2 sensorů manuálně vyčištěna, aby byly odstraněny znečišťující materiály. Bez ohledu na to, zda-li jsou rámy UV lamp použity v otevřeném systému kanálového typu nebo uzavřeném systému, čištění pouzder je nepraktické.
U otevřených systémů kanálového typu jsou moduly obsahující pouzdra obvykle vyjmuty z kanálu a ponořeny do samostatné nádrže, která obsahuje vhodnou čistící tekutinu. U uzavřených systémů musí být zastaven provoz zařízení a pouzdra jsou po té vyčištěna naplněním vhodnou čistící tekutinou, nebo odstraněním lamp způsobem popsaným u otevřených systémů kanálového typu. U obou typů systémů musí obsluha počítat s výrazným prostojem systému a/nebo investovat značný doplňkový kapitál na zajištění příslušného nadbytečného systému s příslušnými řídícími systémy pro odklonění toku tekutiny od systémů, které jsou právě čištěny.
Systém popsaný v patentu '370 je významným zlepšením v této oblasti v tom, že odstraňuje celou řadu nevýhod plynoucích ze zařízení a systémů uvedených v patentech '809, '980 a '244. Systém popsaný v patentu '370 je naneštěstí ideálně přizpůsoben pro použití v otevřeném systému kanálového typu a není snadno přizpůsobitelný k použití v kompletně uzavřeném systému, kde tok tekutiny je přiváděn pod tlakem v trubce.
Bylo by žádoucí mít systém na úpravy tekutin, který může být snadno přizpůsoben pro úpravu toku tlakové tekutiny v trubce nebo podobném uzavřeném tělese. Dále by bylo žádoucí, kdyby bylo možné takové zařízení relativně snadno čistit nebo udržovat čisté během provozu.
PODSTATA VYNÁLEZU
Cílem tohoto vynálezu je navržení nového zařízení na úpravu tekutin, které odstraňuje nebo zmírňuje alespoň jednu z nevýhod stávajících dřívějších řešení.
Dalším cílem tohoto vynálezu je navržení nového způsobu úpravy tekutiny, který odstraňuje nebo zmírňuje alespoň jednu z nevýhod stávajících dřívějších řešení.
- 3 Z tohoto důvodu tento vynález z jednoho hlediska popisuje zařízení na úpravu tekutin představující těleso pro příjem toku tekutiny. Toto těleso obsahuje vstup tekutiny, výstup tekutiny a zónu pro úpravu tekutiny umístěnou mezi vstupem tekutiny a výstupem tekutiny, a alespoň jeden radiační zdrojový modul, který je umístěný v zóně pro úpravu tekutiny. Radiační zdrojový modul se skládá ze zdroje záření připojeného utěsněným spojem knoze, která je namontována utěsněným spojem k tělesu, přičemž zdroj záření je umístěný paralelně k toku tekutiny.
Z druhého hlediska tento vynález popisuje způsob úpravy tekutin v tělese, které se skládá ze vstupu tekutiny, výstupu tekutiny a zóny pro úpravu tekutiny s alespoň jedním, v této zóně umístěným, zdrojem záření. Způsob zahrnuje tyto kroky:
I. přivedení proudu tekutiny na vstup tekutiny
II. odvedení proudu tekutiny od vstupu do zóny pro úpravu tekutiny paralelně k alespoň jednomu zdroji záření
III. ozáření toku tekutiny v zóně pro úpravu tekutiny
IV. přivedení proudu tekutiny k výstupu, přičemž tok tekutiny vstupem, výstupem a zónou pro úpravu tekutiny je v podstatě kolineární.
Toto zařízení pro úpravu tekutin a způsob úpravy tekutin se tak vztahují k uzavřenému systému na úpravu tekutin. Termín „uzavřený systém“, který je použit v tomto celém popisu ve vztahu k úpravě tekutin, znamená systém, ve kterém je tok tekutiny stlačen a zcela obsažen v uzavřeném prostoru během úpravy. Otevřené kanálové systémy jsou tak mimo rámec tohoto vynálezu, neboť při činnosti takových systémů se může hladina tekutiny v kanálu i zóně pro úpravu tekutiny měnit. Zdroj pro stlačení toku tekutiny není mimořádně omezen. Tlak může být na příklad generován čerpadlem nebo působením gravitace.
Toto zařízení na úpravu tekutin i uvedený způsob mohou tak být použity přímo v trase konvenčního vodního potrubí. V závislosti na konkrétní aplikaci může být průměr potrubí až 4 palce (10,16 cm) pro domácí aplikace, nebo 1 (30,5 cm) stopu až 3 stopy (91,5 cm) nebo více pro městské aplikace.
- 4 PŘEHLED OBRÁZKŮ NA VÝKRESECH
Řešení podle tohoto vynálezu bude popsáno na příkladech konkrétního provedení s pomocí přiložených obrázků, kde:
Na obr. 1 je znázorněn v pohledu ze strany v částečném řezu běžný uzavřený systém pro úpravu tekutiny.
Na obr. 2 je znázorněno v pohledu ze shora první řešení zařízení na úpravu tekutin podle tohoto vynálezu.
Na obr. 3 je znázorněn řez zařízením z obr. 2, vedený rovinou UNII.
Na obr. 4 je znázorněno v pohledu ze shora druhé řešení zařízení na úpravu tekutin podle tohoto vynálezu.
Na obr. 5 je znázorněn řez zařízením z obr. 4, vedený rovinou V-V.
Na obr. 6 je znázorněno v pohledu ze shora třetí řešení zařízení na úpravu tekutin podle tohoto vynálezu.
Na obr. 7 je znázorněn řez zařízením z obr. 6, vedený rovinou VII-VII.
Na obr. 8 je znázorněn ve zvětšeném měřítku detail C z obr. 3.
Na obr. 9 je znázorněn řez zařízením z obr. 8, vedený rovinou IX-IX.
Na obr. 10 je znázorněn v pohledu ze strany v částečném řezu radiační zdrojový modul užitý v zařízení znázorněném na obr. 2 až obr 9.
Na přiložených obr. odpovídají jednotlivé vztahové značky stejným částem a součástem.
- 5 PŘÍKLADY PROVEDENÍ VYNÁLEZU
Před diskusí týkající se tohoto vynálezu bude pro názornost uveden stručný popis současného stavu uzavřeného systému pro úpravu tekutin.
Na obr. 1 je uvedeno takové zařízení, které je konvenčně dostupné. Je na něm znázorněno zařízení pro úpravu tekutin 10. jehož těleso je označeno vztahovou značkou 12. Těleso 12 se skládá ze vstupu tekutiny 14 se vstupní přírubou 16 a výstupu tekutiny 18 s výstupní přírubou 20. Uvnitř tělesa 12 je skupina UV lamp 22, z nichž každá je obklopena křemenným pouzdrem 24. Těleso 12 obsahuje první přírubu 26, ke které je připevněna první deska 28. Spoj mezi první přírubou 26 a první deskou 28 je proveden pomocí několika šroubů s maticemi 30, 32 a těsnění (není zobrazeno), aby bylo dosaženo hermetického utěsnění. První deska 28 je přizpůsobena pro vyvedení drátu 34 z každé UV lampy 22. Pata 36 je připojena k první desce 28 a umožňuje vyvedení každého z drátů 34. Každý drát 34 je konvekčním způsobem připojen ke zdroji energie (není zobrazen) a řídícímu systému (rovněž není zobrazen). Těleso 12 dále obsahuje druhou přírubu 38, ke které je připojena druhá deska 40. Spoj mezi druhou přírubou 38 a druhou deskou 40 je proveden pomocí několika šroubů s maticemi 42, 44 a těsnění (není zobrazeno), aby bylo dosaženo hermetického utěsnění. Přesný způsob, kterým je dosaženo utěsnění spojů mezi první přírubou 26 a první deskou 28 a druhou přírubou 38 a druhou deskou 40 je v mezích znalostí odborníka zkušeného v tomto oboru.
Při činnosti je vstupní příruba 16 připojena ke vhodné přívodní trubce (není zobrazena) a výstupní příruba 20 je připojena ke vhodné zpětné trubce (rovněž není zobrazena). Jak je znázorněno šipkou A, tekutina, která má být upravena vstupuje do tělesa 12 vstupem 14. Tekutina je vystavena záření UV lamp 22 a vystupuje z tělesa 12 výstupem 18, jak je znázorněno šipkou B.
Zařízení pro úpravu tekutin W je navrženo tak, že doznává výrazné hydraulické tlakové ztráty způsobené skutečností, že (i) plocha průřezu vstupu tekutiny 14 a výstupu tekutiny 20 tělesa 12 je značně menší než plocha průřezu tělesa 12. a že (ii)
- 6 tok tekutiny vykonává relativně klikatou dráhu. Toto vede k vytvoření tak zvaných „mrtvých zón“ 46, 48 uvnitř tělesa 12, ve kterých je tok tekutiny zanedbatelný a vede k neúčinné a v některých případech nejednotné úpravě tekutiny.
Z tohoto důvodu, i přesto, že výše popsané dříve vynalezené systémy byly úspěšné, nynější vynálezce usiloval o zlepšení zařízení a systémů pro úpravu tekutin z důvodu překonání některých z uvedených nevýhod. Tento vynález bude nyní popsán s odkazy na zbývající obrázky.
Na obr. 2 a 3 je znázorněn systém 200 pro úpravu tekutin, který se skládá ze vstupu tekutiny 205 tekutiny, výstupu 210 tekutiny a zóny 215 pro úpravu tekutiny, nacházející se v tělese 220. V tělese 220 jsou umístěny dva radiační zdrojové moduly 225. Každý radiační zdrojový modul 225 je připevněn k tělesu 220 pomocí montážní desky 230, což bude popsáno podrobněji dále. V tělese 220 jsou také umístěny dva senzory záření 235. Z každého radiačního zdrojového modulu 225 je vyveden elektrický kabel 240. Každý z elektrických kabelů 240 je zaveden do svorkové skříňky 245. ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení 250. Vstup 205 tekutiny zahrnuje vstupní přírubu 255 a výstup 210 tekutiny zahrnuje výstupní přírubu 260. Z každého senzoru záření je vyveden elektrický kabel 265. Každý z elektrických kabelů 265 je zaveden do svorkové skříňky 250, ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení (není zobrazeno).
Systém 200 pro úpravu tekutin je ideálně zkonstruován tak, aby mohl být použit přímo vestavěn v existujícím tekutinovém (vodním) potrubí. Pro danou instalaci je tak požadováno navrhnout zónu 215 pro úpravu tekutin tak, aby měla stejný tvar a rozměr průřezu, jako existující potrubí. Pro usnadnění instalace systému 200 pro úpravu tekutin mezi spojovací příruby existujícího potrubí mohou být použity vstupní příruba 255 a výstupní příruba 260. Po instalaci systému bude pro odborníka v této oblasti zřejmé, že tok tekutiny zónou 215 pro úpravu tekutiny je paralelní vzhledem k lampám umístěným v radiačním zdrojovém modulu 225. Toto minimalizuje výskyt hydraulické tlakové ztráty v toku tekutiny a vylučuje tak zvané „mrtvé zóny“, a vede k účinnější úpravě tekutiny.
- 7 Na obrázcích 4 a 5 je zobrazen systém 300 pro úpravu tekutin, který obsahuje vstup 305 tekutiny, výstup 310 tekutiny a zónu 315 pro úpravu tekutiny, která se nachází v tělese 320. V tělese 320 je umístěno šest radiačních zdrojových modulů 325. Každý radiační zdrojový modul 325 je připevněn k tělesu 320 pomocí montážní desky 330, což bude popsáno podrobněji dále. V tělese 320 jsou také umístěny dva sensory 335 záření. Z každého radiačního zdrojového modulu 325 je vyveden elektrický kabel 340. Každý z elektrických kabelů 340 je zaveden do svorkové skříňky 345. ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení 350. Vstup 305 tekutiny zahrnuje vstupní přírubu 350 a výstup 310 tekutiny zahrnuje výstupní přírubu 360. Z každého sensoru záření je vyveden elektrický kabel 365. Každý z elektrických kabelů 365 je zaveden do svorkové skříňky 370, ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení (není zobrazeno).
Na obrázcích 6 a 7 je zobrazen systém 400 pro úpravu tekutin, který obsahuje vstup 405 tekutiny, výstup 410 tekutiny a zónu 415 pro úpravu tekutiny, která se nachází v tělese 420. V tělese 420 je umístěno šestnáct radiačních zdrojových modulů 425. Každý radiační zdrojový modul 425 je připevněn k tělesu 420 pomocí montážní desky 430, což bude popsáno podrobněji dále. V tělese 420 jsou také umístěny dva sensory 435 záření. Z každého radiačního zdrojového modulu 425 ie vyveden elektrický kabel 440. Každý z elektrických kabelů 440 je zaveden do svorkové skříňky 445. ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení 450. Vstup 405 tekutiny zahrnuje vstupní přírubu 450 a výstup 410 tekutiny zahrnuje výstupní přírubu 460. Z každého sensoru záření je vyveden elektrický kabel 465. Každý z elektrických kabelů 465 je zaveden do svorkové skříňky 470, ze které je vyvedeno hlavní elektrické vedení (není zobrazeno).
Konstrukce a použití systému 300 pro úpravu tekutin (obr. 4 a obr. 5) a systému 400 pro úpravu tekutin (obr. 6 a obr. 7) mohou být upraveny stejným způsobem, o jakém byla provedena diskuse výše, v případě systému 200 pro úpravu tekutin (obr. 2 a obr. 3).
Na obr. 8 a obr. 9 je montážní deska 230 připevněna k tělesu 220 následujícím způsobem. Je zřejmé, že v tělese 220 je vhodně tvarovaný otvor pro uchycení
- 8 každého radiačního zdrojového modulu 225. Tvar tohoto otvoru je pokud možno podobný otvoru, který je v montážní desce 230 a velikost tohoto otvoru je menší než otvoru v montážní desce 230. Přírubový kroužek 275, který má větší velikost a stejný tvar jako otvor, je připevněn k tělesu 220 a vytváří zářez, do kterého je umístěn pružný o-kroužek 280. V přírubovém kroužku 275 je skupina šroubů (nejsou zobrazeny). V montážní desce 230 je skupina doplňkových otvorů, kterými procházejí šrouby přírubového kroužku 275. Montážní deska 230 také obsahuje opěrnou desku 290, která spolu s přírubovým kroužkem 275 tvoří dutinu pro okroužek 280. Torzní matice 285 jsou našroubovány na šrouby přírubového kroužku 275.
Modul zdroje záření je tak v souladu s obr. 2, 3, 8 a 9 instalován následujícím způsobem (viz také obr. 7). Konec radiačního zdrojového modulu, který je vzdálený od montážní desky 230 je zasunut do otvoru v tělese 220. Montážní deska 230 je pak ustavena tím, že jejími otvory jsou prostrčeny šrouby přírubového kroužku 275. Torzní matice 285 jsou pak dotaženy takovou silou, aby byl dostatečně stlačen okroužek 275. Tím je zajištěno hermetické utěsnění mezi zónou pro úpravu tekutiny 215 a vnějším okolím tělesa 220.
Na obr. 10 je zobrazen detailní pohled na radiační zdrojový modul 225. Odborníky v této oblasti bude oceněno, že radiační zdrojový modul 225 je podobný radiačním zdrojovým modulům 325 (obr. 4 a obr. 5) a 425 (obr. 6 a obr. 7). Podrobný popis tohoto modulu je uveden v nevyřízené žádosti podací číslo 08/325,949 o udělení US patentu od stejného původce jako u tohoto vynálezu, která byla podána ve stejný den, jako tento vynález, a na jejíž obsah jsou zde uvedeny odkazy. Radiační zdrojový modul se tak skládá z nosného členu 115, sestavového prvku zdroje záření 120 navazujícího na nosný člen 115 a montážní desky 230 pro upevnění radiačního zdrojového modulu 225 k tělesu 220. V montážní desce 230 je skupina otvorů 232, kterými prochází šrouby přírubového kroužku 275 (obr. 2, 3, 8 a 9).
Sestavový člen 120 zdroje záření obsahuje soustředné redukční pouzdro 130.
které může být k nosnému členu 115 přivařeno, nebo s ním může tvořit jeden celek.
- 9 K soustřednému redukčnímu pouzdru 130 je připevněn kroužek 135, ke kterému je připevněno montážní pouzdro 140. Konec montážního pouzdra 140 vzdálený od soustředného redukčního pouzdra 130 má závitovou část 145. Uvnitř montážního pouzdra 140 je umístěno vnitřní pouzdro 150 mající závitovou část 155, na kterou je našroubována uzavřená matice 160. Vnitřní pouzdro 150 má v sobě vhodné zářezy pro uložení páru pružných o-kroužků 165, 170. Konec vnitřního pouzdra 150. který je vzdálen od soustředného redukčního pouzdra 130 dosedá na pružný zkosený těsnící kroužek 175. Montážní matice 180 se závitem je našroubována na závitovou část 155 montážního pouzdra 140 a dosedá na zkosený těsnící kroužek 175. Montážní matice 180 se závitem má v sobě vytvořena lůžka 185 pro vhodný nástroj k torznímu utažení montážní matice 180. která tak s montážním pouzdrem 140 vytváří utěsněný spoj.
Uvnitř vnitřního pouzdra 150 je umístěn prstencový piezoelektrický keramický měnič 190, který představuje laminátovou strukturu zhotovenou z řady jednotlivých prstencových piezoelektrických keramických měničů (nejsou zobrazeny), které na sobě lpí. Jeden konec měniče 190 dosedá na vnitřní pouzdro 150 a druhý konec měniče 190 dosedá, buď přímo nebo nepřímo, na otevřený konec křemencového pouzdra 195. Jak je zobrazeno, protější konec křemencového pouzdra 195 je uzavřen. Uvnitř křemencového pouzdra 195 je zdroj záření 196. Zdroj záření je ideálně UV lampa. Druh UV lampy není mimořádně omezen a její volba spadá do mezí znalostí odborníka zkušeného v této oblasti. Pár rozpěrných vložek 197 je umístěn uvnitř křemencového pouzdra 195 a slouží k vystředění a držení zdroje záření 196 na požadovaném místě uvnitř křemencového pouzdra 195. Elektrické spojení a řízení zdroje záření 196 je konvenční a spadá do mezí znalostí odborníka zkušeného v tomto oboru.
Jak je popsáno v zaregistrované nevyřízené žádosti 08/323,808 o udělení US patentu, podané 17. října 1994, radiační zdrojový modul 225 je samovolně čištěn občasnou nebo nepřetržitou činností měniče 190 během ozařování toku tekutiny. Konkrétněji, činnost měniče 190 má za následek vratnou vibraci křemencového pouzdra 195 ve směru paralelním k podélné ose křemencového pouzdra 195. Taková vibrace může být způsobena použitím piezoelektrického měniče, přednostně
- 10 piezoelektrického keramického měniče. Piezoelektrické keramické měniče se konvenčně používají v ultrazvukových aplikacích. Vhodný piezoelektrický keramický měnič použitelný pro tento modul zdroje záření je komerčně dostupný u společnosti EDO Corporation (Salt Lake City, Utah) a obsahuje v podstatě keramický komponent, který splňuje technické podmínky US Navy Type 1 (I) nebo US Navy Type 3 (III). Jak bude zřejmé pro znalce této oblasti, keramický materiál splňující technické podmínky US Navy Type 1 je tvrdý olověný zirkoničitan titaničitan, jehož Curieův bod je vyšší než asi 310°C a keramický materiál splňující technické podmínky US Navy Type 3 je velmi tvrdý olověný zirkoničitan titaničitan, jehož Curieův bod je vyšší než asi 290°C. Podrobný technický popis technických podmínek těchto keramických materiálů lze nalézt v publikaci Department of Defence Military Standard DOD-STD 1376A(SH), ze dne 28. února 1984, jejíž obsah je zde zmíněn ve formě odkazu. Piezoelektrický měnič, nejlépe prstencový piezoelektrický měnič je obecně takový, který může být provozován při frekvenci v rozmezí od asi 1 kHz do asi 100 kHz, pokud možno od asi 10 kHz do asi 20kHz a ještě lépe od asi 10 kHz do asi 15 kHz.
Odborníci v této oblasti techniky samozřejmě ocení, že vysvětlený návrh řešení radiačního zdrojového modulu může být přizpůsoben konkrétnímu systému pro úpravu tekutiny aniž by bylo opuštěno od ducha tohoto vynálezu. Na příklad počet, typ a uspořádání těsnících kroužků (to znamená o-kroužků, zkosených kroužků a tak dále) mohou být změny, přičemž zůstává zachováno hermetické utěsnění. Kromě toho je použití prostředku k čištění radiačního zdrojového modulu přímo v modulu volitelné. Pokud bude použit prostředek k čištění radiačního zdrojového modulu přímo v modulu, může to být zařízení jiné, než výše popsané vibrační čistící zařízení. Mělo by být konstatováno, že zatímco zde byly popsány návrhy realizace tohoto vynálezu na příkladech, tento vynález není omezen na tyto příkladné realizace, a že odborníci v této oblasti mohou přijít s variantami a jinými alternativami, aniž by při tom bylo upuštěno od zamýšleného ducha a rámce tohoto vynálezu, které jsou definovány v uvedených nárocích.
Claims (10)
1. Zařízení na úpravu tekutin, vyznačující se tím, že obsahuje pouzdro pro příjem proudu tekutiny, pouzdro obsahuje vstup tekutiny, výstup tekutiny, zónu pro úpravu tekutiny umístěnou mezi vstupem tekutiny a výstupem tekutiny a alespoň jeden radiační zdrojový modul, který je umístěný v zóně pro úpravu tekutiny, alespoň jeden radiační zdrojový modul se skládá ze zdroje záření připojeného utěsněným spojem k noze, která je namontována utěsněným spojem k tělesu, přičemž zdroj záření je umístěný paralelně k toku tekutiny.
2. Zařízení na úpravu tekutin podle nároku 1,vyznačující se tím, že vstup tekutiny, výstup tekutiny a zóna pro úpravu tekutiny mají v podstatě shodný průřez.
3. Zařízení na úpravu tekutin podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že vstup tekutiny, výstup tekutiny a zóna pro úpravu tekutiny jsou umístěny v podstatě kolineárně.
4. Zařízení na úpravu tekutin podle kteréhokoli z výše uvedených nároků, vyzná -č u j í c í se t í m, že alespoň jeden radiační zdrojový modul obsahuje alespoň jednu ultrafialovou lampu a objímku umístěnou na vnější části alespoň jedné ultrafialové lampy.
5. Zařízení na úpravu tekutin podle kteréhokoli z výše uvedených nároků, vyzná -č u j í c í se t í m, že obsahuje několik radiačních zdrojových modulů umístěných po obvodu pouzdra pro vytvoření radiačního zdrojového kruhu.
6. Způsob úpravy tekutin v tělese, které se skládá ze vstupu tekutiny, výstupu tekutiny a zóny pro úpravu tekutiny s alespoň jedním, v této zóně umístěným, zdrojem záření, vyznačující se tím, že zahrnuje tyto kroky:
I. přivedení proudu tekutiny na vstup tekutiny
Ϊ2
II. odvedení proudu tekutiny od vstupu do zóny pro úpravu tekutiny paralelně k alespoň jednomu zdroji záření
III. ozáření toku tekutiny v zóně pro úpravu tekutiny
IV. přivedení proudu tekutiny k výstupu, přičemž tok tekutiny vstupem, výstupem a zónou pro úpravu tekutiny je v podstatě kolineární.
7. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že obsahuje další krok selektující vstup tekutiny, výstup tekutiny a zónu pro úpravu tekutiny mající v podstatě shodný průřez.
8. Způsob podle nároku 6 nebo 7, vyznačující se tím, že alespoň jeden radiační zdrojový modul obsahuje alespoň jednu ultrafialovou lampu a objímku umístěnou na vnější části alespoň jedné ultrafialové lampy.
9. Způsob podle kteréhokoli z nároků 6 až 8, v y z n a č u j í c í se t í m, že se odstraňují nečistoty z vnější části alespoň jednoho radiačního zdrojového zařízení.
10. Zařízení na úpravu tekutin podle nároku 9, vyznačující se tím, že dále obsahuje prvky pro odstraňování nečistot vytvářející reciproční vibrace objímky pro odstranění nečistot z objímky.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/323,808 US5504335A (en) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | Fluid treatment device and method |
PCT/CA1995/000578 WO1996011879A1 (en) | 1994-10-17 | 1995-10-17 | Uv fluid treatment device and method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ116397A3 true CZ116397A3 (en) | 1997-10-15 |
Family
ID=23260812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ971163A CZ116397A3 (en) | 1994-10-17 | 1995-10-16 | Process and apparatus for treating liquids by uv radiation |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5504335A (cs) |
EP (1) | EP0788462B1 (cs) |
JP (1) | JPH10509372A (cs) |
KR (1) | KR970707049A (cs) |
AT (1) | ATE176455T1 (cs) |
AU (1) | AU706711B2 (cs) |
BR (1) | BR9509356A (cs) |
CZ (1) | CZ116397A3 (cs) |
DE (1) | DE69507708T2 (cs) |
DK (1) | DK0788462T3 (cs) |
ES (1) | ES2130655T3 (cs) |
FI (1) | FI971559A (cs) |
HU (1) | HU219100B (cs) |
MX (1) | MX9702775A (cs) |
NO (1) | NO971720D0 (cs) |
NZ (1) | NZ293907A (cs) |
TW (1) | TW346476B (cs) |
WO (1) | WO1996011879A1 (cs) |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
US6083387A (en) * | 1996-06-20 | 2000-07-04 | Burnham Technologies Ltd. | Apparatus for the disinfection of fluids |
US5997812A (en) | 1996-06-20 | 1999-12-07 | Coolant Treatment Systems, L.L.C. | Methods and apparatus for the application of combined fields to disinfect fluids |
US6578188B1 (en) * | 1997-09-17 | 2003-06-10 | Numerical Technologies, Inc. | Method and apparatus for a network-based mask defect printability analysis system |
US7617474B2 (en) * | 1997-09-17 | 2009-11-10 | Synopsys, Inc. | System and method for providing defect printability analysis of photolithographic masks with job-based automation |
US7093229B2 (en) * | 1997-09-17 | 2006-08-15 | Synopsys, Inc. | System and method for providing defect printability analysis of photolithographic masks with job-based automation |
US6015229A (en) | 1997-09-19 | 2000-01-18 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for improved mixing in fluids |
US6342188B1 (en) * | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
KR100523009B1 (ko) | 1999-06-04 | 2005-10-20 | 헨리 코즐로프스키 | 유체의 자외선 광처리용 장치 |
US6264836B1 (en) | 1999-10-21 | 2001-07-24 | Robert M. Lantis | Method and apparatus for decontaminating fluids using ultraviolet radiation |
CA2306546C (en) | 2000-04-20 | 2006-06-27 | Photoscience Japan Corporation | Tube scraper |
US6594009B2 (en) | 2001-02-27 | 2003-07-15 | Honeywell International Inc. | Flow cytometer and ultraviolet light disinfecting systems |
GB0120993D0 (en) | 2001-08-30 | 2001-10-24 | Quay Technologies | Pulsed UV light source |
CA2458969C (en) * | 2001-09-20 | 2013-03-12 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
AU2003205480A1 (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-09 | Trojan Technologies Inc. | Uv fluid treatment device |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
AU2003245150A1 (en) * | 2002-06-19 | 2004-01-06 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6784440B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-31 | Boc, Inc. | Food sanitizing cabinet |
US7224426B2 (en) | 2002-07-31 | 2007-05-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical element |
US20040056201A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Fink Ronald G. | Food surface sanitation hood |
US7045102B2 (en) * | 2002-10-09 | 2006-05-16 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
US7160566B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-01-09 | Boc, Inc. | Food surface sanitation tunnel |
EP3111963B1 (en) | 2004-03-12 | 2021-01-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system comprising elongate radiation source assemblies |
CN102557313A (zh) * | 2004-04-15 | 2012-07-11 | 特洛伊人技术公司 | 水处理设备以及在流体处理系统中使用的处理筒 |
GB2429772B (en) * | 2004-04-19 | 2008-11-12 | Trojan Techn Inc | Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid |
CA2571129A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-12 | Trojan Technologies Inc. | Radiation sensor device and fluid treatment system containing same |
DE102004057076A1 (de) * | 2004-11-25 | 2006-06-22 | Wedeco Ag | Vorkammerreaktor |
FR2880014B1 (fr) * | 2004-12-27 | 2007-09-21 | Andre Tourasse | Appareil de traitement d'eau modulable principe uv |
JP2006187697A (ja) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Hitachi Ltd | ろ過浄化装置 |
GB2424475A (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-27 | Ex Technology Ltd | Air deodoriser apparatus with ozone producing first stage and ozone removing second stage. |
EP2097352B1 (en) | 2006-11-06 | 2012-06-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
US7862728B2 (en) | 2007-09-27 | 2011-01-04 | Water Of Life, Llc. | Ultraviolet water purification system |
US8529770B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-09-10 | Water Of Life, Llc. | Self-contained UV-C purification system |
US7800310B2 (en) | 2008-03-18 | 2010-09-21 | Butters Brian E | End-to-end lamp assembly and method of manufacturing same |
DE202008008577U1 (de) | 2008-06-25 | 2008-09-18 | Umex Gmbh Dresden | Vorrichtung zur Verhinderung des Strahlungsaustritts bei UV-Bestrahlungsanlagen |
DE202008016363U1 (de) * | 2008-12-11 | 2010-04-22 | Büttner, Klaus, Dipl.-Ing. | Vorrichtung zur Ballastwasserbehandlung |
US8269190B2 (en) | 2010-09-10 | 2012-09-18 | Severn Trent Water Purification, Inc. | Method and system for achieving optimal UV water disinfection |
EP2651550B1 (en) | 2010-12-16 | 2021-04-14 | Trojan Technologies | Radiation source module and fluid treatment system |
WO2013106914A1 (en) | 2012-01-20 | 2013-07-25 | Trojan Technologies | Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same |
US11020839B2 (en) | 2018-06-18 | 2021-06-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus of supplying slurry for planarization process and chemical-mechanical-polishing system including the same |
DE202023100378U1 (de) | 2023-01-27 | 2023-03-02 | TISMA Maschinenbau e. K. | Vorrichtung zur Verhinderung eines Strahlungsaustritts bei UV Reaktoren |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE266965C (cs) * | ||||
FR421296A (fr) * | 1910-10-10 | 1910-12-17 | Marius Paul Otto | Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets |
FR15618E (fr) * | 1911-04-11 | 1912-08-16 | Paul Gabriel Triquet | Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau |
US2413704A (en) * | 1944-12-04 | 1947-01-07 | Art Metal Company | Ultraviolet sterilizer |
US2670439A (en) * | 1950-07-05 | 1954-02-23 | Hanovia Chemical & Mfg Co | Apparatus for irradiating liquids |
DE855521C (de) * | 1950-12-28 | 1952-11-13 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten |
US3061721A (en) * | 1960-01-19 | 1962-10-30 | Brenner Al | Automatic tube cleaning device |
US3182191A (en) * | 1963-02-14 | 1965-05-04 | Puretest Water Purifier Co | Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source |
US3456107A (en) * | 1967-05-16 | 1969-07-15 | Aquacare Intern Ltd | Water sterilizing apparatus |
DE2213658C3 (de) * | 1972-03-21 | 1974-08-15 | Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) | Wasserentkeimungsanlage |
US4017734A (en) * | 1974-09-27 | 1977-04-12 | Ross Henry M | Water purification system utilizing ultraviolet radiation |
DE2732859A1 (de) * | 1977-07-21 | 1979-02-01 | Herbert Hans Wagner | Verfahren und vorrichtung zur desinfektion von luft |
CA1163086A (en) * | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
US4467206A (en) * | 1981-12-14 | 1984-08-21 | Extracorporeal Medical Specialties, Inc. | Method and apparatus for the irradiation of fluids |
US4602162A (en) * | 1983-12-27 | 1986-07-22 | Beckman Industrial Corporation | Monitoring port for ultraviolet water purification systems |
DE3441535A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-06-26 | Erich 7632 Friesenheim Rasche | Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung |
US4728368A (en) * | 1986-04-25 | 1988-03-01 | Pedziwiatr Edward A | Ultrasonic cleaning in liquid purification systems |
US4694179A (en) * | 1986-05-27 | 1987-09-15 | Lew Hyok S | Symbiotic filter-sterilizer |
US4757205A (en) * | 1986-06-10 | 1988-07-12 | Arlat Inc. | Ultraviolet water treatment apparatus |
US4767932A (en) * | 1986-09-26 | 1988-08-30 | Ultraviolet Purification System, Inc. | Ultraviolet purification device |
US4963750A (en) * | 1986-12-09 | 1990-10-16 | Wilson Robert L | Fluid media sterilization apparatus |
US5091152A (en) * | 1988-05-19 | 1992-02-25 | Thomas Sr Tim L | Apparatus for electrically destroying targeted organisms in fluids |
US4897246A (en) * | 1988-09-13 | 1990-01-30 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US5006244A (en) * | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4872980A (en) * | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
WO1990004454A1 (de) * | 1988-10-26 | 1990-05-03 | Wedeco Gesellschaft Für Entkeimungsanlagen Mbh | Vorrichtung zum bestrahlen von strömenden flüssigkeiten und/oder gasen mit uv-licht |
US4922114A (en) * | 1989-06-01 | 1990-05-01 | Hilary Boehme | Wiper mechanism |
US5227140A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-13 | Peroxidation Systems, Inc. | Modular self-cleaning oxidation chamber |
US5019256A (en) * | 1990-10-19 | 1991-05-28 | Fischer & Porter Company | Ultraviolet lamp rack assembly |
US5124131A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-23 | Ultraviolet Energy Generators, Inc. | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber |
US5266215A (en) * | 1993-04-27 | 1993-11-30 | Rolf Engelhard | Water purification unit |
US5368748A (en) * | 1994-02-17 | 1994-11-29 | Magnatech Corporation | Growth regulation of zebra mussels through magnetic water treatment |
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
-
1994
- 1994-10-17 US US08/323,808 patent/US5504335A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-10-14 TW TW084110818A patent/TW346476B/zh active
- 1995-10-16 NZ NZ293907A patent/NZ293907A/xx unknown
- 1995-10-16 CZ CZ971163A patent/CZ116397A3/cs unknown
- 1995-10-17 BR BR9509356A patent/BR9509356A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-10-17 JP JP8512816A patent/JPH10509372A/ja not_active Withdrawn
- 1995-10-17 AU AU36473/95A patent/AU706711B2/en not_active Ceased
- 1995-10-17 HU HU9702313A patent/HU219100B/hu not_active IP Right Cessation
- 1995-10-17 DK DK95934012T patent/DK0788462T3/da active
- 1995-10-17 DE DE69507708T patent/DE69507708T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-17 EP EP95934012A patent/EP0788462B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-17 WO PCT/CA1995/000578 patent/WO1996011879A1/en not_active Application Discontinuation
- 1995-10-17 ES ES95934012T patent/ES2130655T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-17 AT AT95934012T patent/ATE176455T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-10-17 MX MX9702775A patent/MX9702775A/es not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-14 FI FI971559A patent/FI971559A/fi unknown
- 1997-04-15 NO NO971720A patent/NO971720D0/no not_active Application Discontinuation
- 1997-04-16 KR KR1019970702481A patent/KR970707049A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10509372A (ja) | 1998-09-14 |
DE69507708T2 (de) | 1999-09-30 |
FI971559A0 (fi) | 1997-04-14 |
FI971559A (fi) | 1997-04-16 |
NZ293907A (en) | 1999-06-29 |
WO1996011879A1 (en) | 1996-04-25 |
HUT77069A (hu) | 1998-03-02 |
EP0788462B1 (en) | 1999-02-03 |
AU3647395A (en) | 1996-05-06 |
DE69507708D1 (de) | 1999-03-18 |
NO971720L (no) | 1997-04-15 |
HU219100B (hu) | 2001-02-28 |
MX9702775A (es) | 1998-04-30 |
DK0788462T3 (da) | 1999-09-20 |
BR9509356A (pt) | 1997-11-04 |
AU706711B2 (en) | 1999-06-24 |
US5504335A (en) | 1996-04-02 |
EP0788462A1 (en) | 1997-08-13 |
ES2130655T3 (es) | 1999-07-01 |
KR970707049A (ko) | 1997-12-01 |
ATE176455T1 (de) | 1999-02-15 |
TW346476B (en) | 1998-12-01 |
NO971720D0 (no) | 1997-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ116397A3 (en) | Process and apparatus for treating liquids by uv radiation | |
MXPA97002775A (en) | Device and method for treatment of fluids | |
EP0788463B1 (en) | Radiation module, its application and method for self-cleaning | |
KR100330268B1 (ko) | 유체처리시스템및그처리방법 | |
MXPA97002774A (en) | Module of radiation, its application and method paraautolimpi | |
CA2093018C (en) | Self-cleaning mechanism for oxidation chamber | |
US6500346B1 (en) | Fluid treatment device and method for treatment of fluid | |
US6193939B1 (en) | Apparatus for ultraviolet light treatment of fluids | |
JP3202988B2 (ja) | Uvランプの透過度を制御する装置 | |
USRE38173E1 (en) | Ultraviolet ray irradiation equipment having scrapper rings fitted to light transmission tubes | |
JPH02174989A (ja) | 液体純化装置 | |
US6642527B2 (en) | UV radiation device for treating fluids with a simplified radiation chamber | |
JPH0243984A (ja) | 紫外線殺菌装置 | |
US5792433A (en) | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps | |
US7550742B2 (en) | UV light redundancy system | |
CA2160729C (en) | Fluid treatment device and method | |
USRE39522E1 (en) | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes | |
CN1169705A (zh) | 紫外线(uv)流体处理装置和方法 | |
JP2017213498A (ja) | 超音波液体処理装置 | |
JPH08243555A (ja) | 光照射ランプの交換容易な光照射装置 | |
US3366441A (en) | Ultraviolet system for control of algae and slime within humidity control and similar systems | |
JPH08117741A (ja) | 浴槽用紫外線殺菌装置 | |
JPH0250089A (ja) | 水棲生物の付着防止装置 | |
RU1776639C (ru) | Устройство дл обеззараживани воды | |
CA2383686C (en) | Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic |