CS272137B1 - Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku - Google Patents

Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku Download PDF

Info

Publication number
CS272137B1
CS272137B1 CS888024A CS802488A CS272137B1 CS 272137 B1 CS272137 B1 CS 272137B1 CS 888024 A CS888024 A CS 888024A CS 802488 A CS802488 A CS 802488A CS 272137 B1 CS272137 B1 CS 272137B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
single crystal
crucible
melt
impurities
neck
Prior art date
Application number
CS888024A
Other languages
English (en)
Other versions
CS802488A1 (en
Inventor
Ludmila Ing Csc Boublikova
Original Assignee
Ludmila Ing Csc Boublikova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ludmila Ing Csc Boublikova filed Critical Ludmila Ing Csc Boublikova
Priority to CS888024A priority Critical patent/CS272137B1/cs
Publication of CS802488A1 publication Critical patent/CS802488A1/cs
Publication of CS272137B1 publication Critical patent/CS272137B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Způsob odstraňováni nečistot z horní časti monokrystalu taženého z kelímku metodou Czoohralskóho; při němž se po vytažení 1/20 až 1/5 celkové dálky monokrystalu zvýši teplota taveniny o 5 až 10 za současného sledováni zužováni monokrystalu až do vytvořeni krčku; jehož průměr dosáhne hodnoty 2 až 3 mm; načež se teplota eníží postupně na původní hodnotu; přičemž monokrystal doroste do požadovaného průměru. Taženi se ukonči; když objem taveniny v kelímku se zmenši na 1/10 až 1/20 původního; po vychladnuti se zbytek taveniny z kelímku odstraní a monokrystal se spouštěním do kelímku znovu roztaví; ale Jen po krček .oddělující hlavni spodní část od horního dílu monokrystalu, ve kterém jsou nakoncentrovány nečistoty s rozdělóváclm koeficientem větším než 1. Tento postup se dvakrát opakuje, až se získá monokrystal sestávající ze dvou malých horních části oddělených vzájemně krčky od hlavního dolního dílu monokrystalu š nej-, nižší koncentrací nečistot.

Description

Vynález ee týká způsobu odstranění nečistot z horní části monokrystalu,' taženého z kelímku metodou Czochralského.
Některé pevné létky lze připravit ve velmi čistém stavu metodou rekrystalizace,' založené na skutečnosti,’ že rozdělovači koeficient většiny nečistotě tj, podíl jejich koncentrace v pevné a kapalné fázi je různý od 1, Znamená to tedy,! že nečistoty se buí hromadí v kapalné fázi,1 tj,’ tavenině při rozdělovacím koeficientu menším než 1; nebo naopak přednostně přecházejí do pevné fáze,· tj, do krystalu při rozdělovacím koeficientu větším než 1. Proto jsou začátky a konce krystalů silně znečištěny·1 Při rekrystalizaci je proto nutno tyto části krystalu neustále odstraňovat· Při přípravě krystalů velmi čistého germania metodou trojnásobného tažení podle Corleye IEEE Trans.Nucl.Sci, 1974 byly před novou krystalizaci odstraňovány jen spodní části krystalů,' a to jejich odlomením nebo odříznutím. Tím se snižovala koncentrace nečistot, které mají rozdělovači koeficient menší než 1^ což je případ většiny příměsí v germaniu, avšak koncentrace nečistot s rozdělovacím koeficientem větším než 1, například béru, jedné z hlavních nečistot v krystalu germania o rozdělovacím koeficientu 18 se neměnila,! protože před novou krystalizaci se vždy roztavila celá zbývající část krystalu až po zárodek. Proto byl hledán způsob, jak vyřadit horní část monokrystalu, obsahující většinu nečistot, aniž by se musel monokrystal vyjmout z komory tažicího zařízení a horní část krystalu odříznout.
Nevýhody dosavadní metody odstraňuje způsob odstranění nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že v po vytažení 1/20 až 1/5 celkové délky monokrystalu se zvýšením teploty taveniny o 5 až 10 °C provede zúžení až do vytvoření úzkého krčku o průměru 2 až 3 mm. Potom se teplota taveniny sníží na původní hodnotu, aby rostoucí monokrystal dosáhnul požadovaného průměru. Tažení se přeruší,· když se objem taveniny v kelimku zmenši na 1/10 až 1/20 původního objemu. Po vychladnutí se odstraní zbytek taveniny z kelímku, ve kterém zůstává většina nečistot o rozdělovacím koeficientu menším než 1, potom se vytažený monokrystal, jeho hlavní dolní část znovu roztaví pomalým spouštěním do kelímku až po krček,· oddělující horní malou část monokrystalu se zvýšenou koncentrací nečistot s rozdělovacím koeficientem větším než 1. Při tomto způsobu nedojde k dodatečnému znečištění monokrystalu jako například při odřezáváni silně znečištěných částí. Tento způsob lze několikrát opakovat, přičemž se vždy zmenší roztavená vsádka o odstraněné zatuhlé zbytky z předchozí krystalizace a o horní neroztavený díl monokrystalu. Výsledkem vícenásobného tažení je monokrystal,· sestávající ze 2 až 3 malých horních částí a z dolní hlavní části s nejnižším obsahem nečistot.
Vyšší technický účinek způsobu podle vynálezu ee projevuje tím, že umožňuje připravit monokrystaly s nízkou koncentrací nečistot, jak je uvedeno v příkladu.
Příklad
Tažení monokrystalů germania bylo provedeno na zařízení Leybold & Heraeus 250/200 Ge. Oo kelímku byla vložena oleptaná vsádka Ge, Po jejím roztavení v proudu čistého vodíku byl proveden nátav zárodku při 10 otáčkách kelímku/min, a 40 otáčkách zárodku/min. Po rozšířeni krystalu na 20 mm v průměru a po vytažení 2 cm bylo zvýšením teploty o 10 °C dosaženo zúžení na průměr zárodku,' tj, 3 mm. Po prodloužení zárodku na 1 cm byla teplota snížena na původní hodnotu. Tím se dosáhlo rozšířeni rostoucího monokrystalu na požadovaných 20 mm v průměru. (Jemnou regulací teploty byl udržován tento průměr rostoucího monokrystalu až do vytažení 9/10 původní vsádky. Po vychladnutí byl zatuhlý zbytek Ge z kelímku odstraněn a spodní hlavni část připraveného monokrystalu byla opět až po krček v kelímku roztavena. Tímto způsobem byly provedeny další dvě rekrystalizace. Výsledkem byl monokrystal s koncentrací nečistot 5 až 9 . 10 atomů/cm^ v dolní hlavní části,· zatím co koncentrace nečistot v obou horních dílech převyšovala tuto hodnotu.
Způsobu odstranění nečistot z horní části monokrystalu taženého z kelímku podle vynálezu lze využít při přípravě monokrystalů germania pro výrobu detektorů ionizujícího záCS 272137 Bl řeni i monokrystalů pro jiné účely, u kterých·, se požaduje vysoká čistota.
předmět vynálezu

Claims (1)

  1. Způsob odstraněni nečistot z horní části monokrystalu, taženého z kelímku metodou Czochralského částečným ponořením monokrystalického zárodku do taveniny udržované nad teplotou táni materiálu a tažením monokryatalu, vyznačující ee tim/ že po vytaženi 1/20 až 1/5 celkové délky monokryatalu ee zvýší teplota taveniny o 5 až 10 °C, přičemž se sleduje zužováni roatouciho monokrystalu až do vytvořeni krčku, jehož průměr dosahuje hodnoty 2 až 3 mm, potom se teplota aniž! na původní hodnotu až monokrystal doroste do požadovaného průměru a taženi ee přeruší, když es objem taveniny zmenši na 1/10 až 1/20 původního objemu,' po vychladnuti ee zbytek zatuhlé taveniny odetrani,' potom se dolní hlavní část monokrystalu znovu roztaví až po krček/ oddělující horní malý díl, tento postup ee alespoň dvakrát opakuje a tak ee připraví monokryatal, seatávajici ze dvou malých horních Části s nejvySšim obsahem nečistot o rozdělovacím koeficientu větčim než 1 a hlavní nejčíetši dolní čáeti, vzájemně oddělené krčkem*
CS888024A 1988-12-06 1988-12-06 Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku CS272137B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS888024A CS272137B1 (cs) 1988-12-06 1988-12-06 Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS888024A CS272137B1 (cs) 1988-12-06 1988-12-06 Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS802488A1 CS802488A1 (en) 1990-04-11
CS272137B1 true CS272137B1 (cs) 1991-01-15

Family

ID=5430285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS888024A CS272137B1 (cs) 1988-12-06 1988-12-06 Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS272137B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS802488A1 (en) 1990-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101545134B (zh) 利用含杂质硅材料制备高纯度单晶硅棒的方法及其装置
US20030209186A1 (en) Controlled neck growth process for single crystal silicon
US3768983A (en) Single crystal beryllium oxide growth from calcium oxide-beryllium oxide melts
US8163083B2 (en) Silica glass crucible and method for pulling up silicon single crystal using the same
JPH05194083A (ja) シリコン棒の製造方法
US4957712A (en) Apparatus for manufacturing single silicon crystal
JPS647040B2 (cs)
EP0219776B1 (en) Crucible recovering method and apparatus therefor
CS272137B1 (cs) Způsob odstraněni nečistot z horní části krystalu taženého z kelímku
KR930006694B1 (ko) 인산결정을 제조하는 방법
JP2525300B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
JPH06227891A (ja) シリコン単結晶引上げ用ルツボ
WO2001063022A2 (en) Controlled neck growth process for single crystal silicon
US3261722A (en) Process for preparing semiconductor ingots within a depression
JP4144060B2 (ja) シリコン単結晶の育成方法
RU2641760C1 (ru) Способ очистки поверхности расплава при выращивании монокристаллов германия
US5968260A (en) Method for fabricating a single-crystal semiconductor
DE3611950A1 (de) Verfahren zum abtrennen von festen raktionsprodukten, wie kohlenstoff, aus carbothermisch erzeugtem silizium
JP2009249262A (ja) シリコン単結晶の製造方法
CN114808106B (zh) 一种GaAs单晶生长工艺
WO1986006109A1 (en) Method and apparatus for growing single crystal bodies
JP2008156185A (ja) シリコン単結晶製造用原料とその製造方法ならびにシリコン単結晶の製造方法
JPH0753294A (ja) シリコン単結晶の成長方法
RU1700954C (ru) Способ выращивани монокристаллов германата висмута
RU2189407C2 (ru) Способ получения монокристаллов кремния при нарушении монокристаллического роста