CS271002B1 - Feeding device - Google Patents
Feeding device Download PDFInfo
- Publication number
- CS271002B1 CS271002B1 CS846667A CS246486A CS271002B1 CS 271002 B1 CS271002 B1 CS 271002B1 CS 846667 A CS846667 A CS 846667A CS 246486 A CS246486 A CS 246486A CS 271002 B1 CS271002 B1 CS 271002B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- alloys
- nickel
- crystallizer
- rinsing
- functional
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000007714 electro crystallization reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 8
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910001208 Crucible steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WWROLJOPANFMFE-UHFFFAOYSA-M [Na+].NS([O-])=O Chemical compound [Na+].NS([O-])=O WWROLJOPANFMFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002153 silicon-carbon composite material Substances 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M sodium;(2-carboxyphenyl) sulfate Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
Vynález ee týká způsobu vytváření ochranných funkčních vrstev z niklu nebo jeho slitin, na pracovních plochách krystalizátorů.
V současné sobě nevykazují krystalizátory pro plynulé odlévání oceli, vyráběné z mědi nebo jejich slitin, přijatelnou životnost. Proto je nezbytné opatřit funkční povrch krystalizátorů ochranným povlakem. Nevýhodou měděných krystalizátorů je rovněž ta skutečnost, že při průchodu odlévané oceli krystalizátorem dochází к nežádoucí difúzi mědi do povrchové vrstvy bramy, což způsobuje defekty při následném válcování materiálu. V zahraničí jsou v současné době používány jak krystalizátory nechráněné, tak i krystalizátory opatřené ochrannou funkční vrstvou, vytvořenou jejich úpravou tvrdým chromováním. Chrom sice vykazuje vynikající vlastnosti z hlediska odolnosti proti opotřebení, ale vlastní zhotovování chromové vrstvy je velmi problematické. Technologie katodického vylučování chrómu je spojena a řadou nevýhod, spočívajících ve velmi nízké katodické proudové účinnosti procesu. Z uvedených skutečností plyne malá rychlost vylučování. Současně dochází v důsledku strhávání elektrolytu silně se vyvíjejícím vodíkem i к nežádoucímu znečišťování pracovního prostředí toxickým elektrolytem. V neposlední řadě je nevýhodou i velmi nízká hloubková účinnost procesu. Tyto nevýhody naznačují, že opatřit funkční plochu krystalizátoru ochrannou chromovou vrstvou o tloušťce dostačující na všech místech jejího povrchu, je velmi obtížné. V zahraničí byly dále pokusně použity kombinované ochranné vrstvy z elektrolytického niklu, bezproudové vyloučené slitiny nikl-fosfor a elektrolytického chrómu. Praktické použití uvedené vrstvy ee však z důvodů vysokých nákladů na jejich úpravu a nízkého efektu při jejich využití neosvědčilo a od uvažované úpravy bylo upuštěno. Ze zahraničních literárních pramenů je známa rovněž možnost užití kompozitu křemík - uhlík в niklovou matricí. U žádných uvedených úprav vsak nejsou uvedeny zprávy o tom, jakým způsobem lze uvedené vrstvy vytvářet. Jedná ее o nejpodstatnější nedostatek, protože při smykovém namáhání ochranné vrstvy při teplotách do 45o °C je třeba zajistit nejen dobré vlastnosti vyloučené elektrolytické vrstvy, ale i její dostatečnou adhezi ke korpusu krystalizátoru.
Uvedené nevýhody odstraňuje způsob vytváření ochranných funkčních vrstev z niklu nebo jeho slitin na pracovních plochách krystalizátorů. Opracovaný povrch krystalizátoru, zhotoveného z mědi nebo jejích slitin, se nejprve povrchově upraví, poté odmastí, opláchne a po následném moření a po opětovném oplachu se podrobí katodické elektrokrystalizaci v elektrolyzéru к vyloučení nejméně jedné kovové funkční vrstvy na bázi niklu nebo jeho slitin o tloušťce od 1 do lo mm. Za účelem zvýšení přilnavosti se dodatečné mechanické opracování povrchu krystalizátoru provede čištěním, leptáním a podobně. Podstata vynálezu spočívá v tom, že se funkční povrch krystalizátoru před elektrokrystalizací opatří průběžným drážkováním s negativními úhly.
Způsob podle vynálezu umožňuje vytvoření ochranné vrstvy na bázi niklu, s možností využití legur i dispergovaných, keramických částic, vykazujících vysokou odolnost proti opotřebení i dobrou přilnavost к podkladu v podmínkách vyskytujících se v provozu krystalizátorů. Možnost použití samotné niklové vrstvy znamená výrazné zlepšení odolnosti povrchu krystalizátoru proti opotřebení pouze při normální teplotě, nebo při teplotách dosahujících nejvýše 2oo °C. Teploty o 2oo až 25o °C vyšší, které se v některých místech povrchu krystalizátoru vyskytují, však výhody dané použitím niklu značně omezují. Proto je výhodou způsobu podle vynálezu, že vytvářená niklová vrstva Je podstatně méně citlivá к teplotní expozici. Způsob podle vynálezu zajišťuje v důsledku drážkování s negativními úhly velmi dobrou přilnavost vylučované vrstvy i v daných podmínkách, což je velmi významné pro použitelnost galvanoplastické technologie.
Podrobné znaky způsobu podle vynálezu jsou uvedeny v níže uvedených příkladech, jimiž však není předmět vynálezu jednoznačně determinován ani limitován.
Způsob zpracování povrchu měděného krystalizátoru po mechanickém opracování probíhá tak, že po hrubém i konečném odmaštění jsou mořením v minerální kyselině odstraněny
CS 271002 Bl případné zbytky odmašťovacích substancí a oxidy, načež je po oplachu vzorek aktivován v kyselém roztoku, který nekontaminuje elektrolyt, v němž následuje proces růstu ochranné vrstvy. Potom je krystalizátor bez oplachu ponořen do elektrolytu. Ochranná vrstva má za základ nikl, který může být podle potřeby legován kovovými i nekovovými elementy, například fosforem, nebo manganem. Jako heterogenní složka mohou být užity jemně dispergované kysličníky, karbidy, sirníky, případně další kovové sloučeniny e vysokou odolností proti opotřebení za podmínek vyskytujících se na funkčním povrchu krystalizátorů. Příklad 1
Povrch vzorku krystalizátoru, určeného к nanesení ochranné funkční vrstvy, byl opatI řen průběžným obvodovým drážkováním s negativním úhlem к vodorovné ose 6o° a hloubce drážky 1 mn. Poté byl krystalizátor vyčištěn a zhruba odmaštěn perchloretylenem. Odmaštění bylo ukončeno suspenzí vídenského vápna ve vodě. Po následujícím oplachu tekoucí 4 vodou byl vzorek mořen po dobu 2 minut v 15% kyselině chlorovodíkové, která odstranila případné zbytky vídeňského vápna a oxidickou vrstvu na povrchu vzorku. Poté byl vzorek opláchnut destilovanou vodou a dále podroben moření v roztoku lo% kyseliny amidosulfonové a to po dobu 5 minut. Poté byl vzorek oplachu přenesen do elektrolytu na bázi kyseliny amidosulfonové pro vylučování kompozitu karbidu křemíku s niklovou matricí. Vyloučená niklová ochranná funkční vrstva vykazovala velmi dobrou přilnavost i odolnost proti adhezivnímu opotřebení.
Příklad 2
Povrch vzorku krystalizátoru byl nejprve mechanicky opracován a to průběžnou obvodovou drážkou в negativním úhlem к vodorovné ose 75° a hloubce drážky 1,5 mm. Horní konec zářezu byl opatřen rádiem o,l mm a byl posunut směrem к pokovovanému předmětu o o,5 mm. Poté byl povrch krystalizátoru odmaštěn v chloroformu a poté katodicky pokoven při teplotě 8o °C v elektrolytu obsahujícím 15 g/1 hydroxydu sodného, 4o g/1 fosforečnanu sodného a lo g/1 sulfosalicylanu sodného. Poté následoval oplach v tekoucí vodě a po dobu 1 minuty v lo° kyselině sírové. Po následném oplachu v destilované vodě následovala konečná aktivace povrchu v 8% kyselině eulfosalicylové, po níž byl vzorek přenesen do elektrolytu pro vylučování niklu s přísadou manganu, jehož nosnými anionty byla kyselina amidosulfonová a kyselina sulfoaalicylová. Vyloučená ochranná vrstva na funkční ploše krystalizátoru vykazovala velmi dobrou přilnavost i odolnost proti opotřebení za vyšších teplot.
Příklad 3
Povrch vzorku krystalizátoru byl opatřen drážkováním o hloubce 1,2 mm a s negativními úhly 65°. Po naleptání byl krystalizátor zhruba odmaštěn technickým benzinem, dáp le v reversovaném režimu elektrolyticky odmaštěn při proudové hustotě lo A/dm v cyklu * 1:8 (anod : katod) v elektrolytu obsahujícím 4o g/1 hydroxidu sodného, 4o g/1 křemiČitanu sodného, lo g/1 aminosulfananu sodného, a to při teplotě 7o °C. Po následujícím oplachu v destilované vodě byl vzorek dále po dobu 2 minut vnořen v 8% roztoku kyseliny amidosulfonové. Poté byl vzorek bez oplachu podroben pokovení v elektrolytu pro vylučování disperzní pseudoslitiny kysličníku hlinitého s niklovou matricí v sulfonátovém elektrolytu. Tímto způsobem byl funkční povrch vzorku opatřen dobře přilnavou ochrannou vrstvou, odolnou proti opotřebení, která byla poté obroušena.
Claims (1)
- Způsob vytváření ochranných funkčních vrstev z niklu nebo jeho slitin na pracovních plochách krystalizátorů, při kterém ee opracovaný povrch krystalizátorů, zhotoveného z mědi nebo jejích slitin, nejprve povrchově upraví, poté odmastí, opláchne ae a po následném moření a opětovném oplachu se podrobí katodické elektrokrystalizacl v elektrolyzéru к vyloučení nejméně jedné kovové funkční vrstvy na bázi niklu nebo jeho slitin o tloušťce od 1 do lo mm, načež ве pokovený povrch mechanicky opracuje, vyznačený tím, že se funkční povrch krystalizátoru před elektrokrystalizací opatří průběžným drážkováním s negativními uhly.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS246486A1 CS246486A1 (en) | 1987-09-17 |
| CS271002B1 true CS271002B1 (en) | 1990-08-14 |
Family
ID=5361864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS271002B1 (cs) |
-
1986
- 1986-04-05 CS CS846667A patent/CS271002B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS246486A1 (en) | 1987-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Di Bari | Electrodeposition of nickel | |
| Schwartz | Deposition from aqueous solutions: an overview | |
| GB2099460A (en) | Plating bath for the immersion deposition of gold | |
| CN101243211B (zh) | 用于电镀的镁基材的预处理 | |
| US3726771A (en) | Process for chemical nickel plating of aluminum and its alloys | |
| CN103882492A (zh) | 金属基体化学镀前处理方法 | |
| CN85105468A (zh) | 难焊金属的预刷镀钎焊法 | |
| JP3093219B2 (ja) | ニッケルの無電解めっき方法 | |
| PL185431B1 (pl) | Sposób obróbki powierzchni zewnętrznej z miedzi lub ze stopu miedzi elementu krystalizatora do odlewania ciągłego metali | |
| ES2264735T3 (es) | Proceso de pretratamiento para el recubrimiento de materiales de aluminio. | |
| CN101498014B (zh) | 金属表面抗磨镀层电镀工艺 | |
| CS271002B1 (en) | Feeding device | |
| US4170525A (en) | Process for plating a composite structure | |
| US6284123B1 (en) | Electroplating formulation and process for plating iron onto aluminum/aluminum alloys | |
| Hajdu | Surface preparation for electroless nickel plating | |
| GB1311854A (en) | Bearing surfaces formed of composite metal granule structures | |
| CZ6499A3 (cs) | Prvek kokily pro kontinuální lití kovů s chlazenou stěnou z mědi nebo slitiny mědi, mající na vnějším povrchu kovový povlak, a způsob jeho povlékání | |
| CN101338445B (zh) | 内燃机活塞环抗磨镀层及电镀工艺 | |
| Weisenberger et al. | Copper plating | |
| EP1036221B1 (en) | Electroplating formulation and process for plating iron directly onto aluminum or aluminum alloys | |
| US5605565A (en) | Process for attaining metallized articles | |
| US3186925A (en) | Chromium plating process with a pure nickel strike | |
| EP0010989A1 (en) | Method of plating aluminium | |
| Protsenko et al. | The corrosion-protective traits of electroplated multilayer zinc-iron-chromium deposits | |
| SU796250A1 (ru) | Способ электролитического осаждени СЕРЕбРА HA МЕТАлличЕСКиЕ издЕли |