CS271002B1 - Feeding device - Google Patents
Feeding device Download PDFInfo
- Publication number
- CS271002B1 CS271002B1 CS846667A CS246486A CS271002B1 CS 271002 B1 CS271002 B1 CS 271002B1 CS 846667 A CS846667 A CS 846667A CS 246486 A CS246486 A CS 246486A CS 271002 B1 CS271002 B1 CS 271002B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- alloys
- nickel
- crystallizer
- rinsing
- functional
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000007714 electro crystallization reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 8
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910001208 Crucible steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WWROLJOPANFMFE-UHFFFAOYSA-M [Na+].NS([O-])=O Chemical compound [Na+].NS([O-])=O WWROLJOPANFMFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002153 silicon-carbon composite material Substances 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M sodium;(2-carboxyphenyl) sulfate Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Description
Vynález ee týká způsobu vytváření ochranných funkčních vrstev z niklu nebo jeho slitin, na pracovních plochách krystalizátorů.The invention relates to a process for forming protective functional layers of nickel or its alloys on the working surfaces of crystallizers.
V současné sobě nevykazují krystalizátory pro plynulé odlévání oceli, vyráběné z mědi nebo jejich slitin, přijatelnou životnost. Proto je nezbytné opatřit funkční povrch krystalizátorů ochranným povlakem. Nevýhodou měděných krystalizátorů je rovněž ta skutečnost, že při průchodu odlévané oceli krystalizátorem dochází к nežádoucí difúzi mědi do povrchové vrstvy bramy, což způsobuje defekty při následném válcování materiálu. V zahraničí jsou v současné době používány jak krystalizátory nechráněné, tak i krystalizátory opatřené ochrannou funkční vrstvou, vytvořenou jejich úpravou tvrdým chromováním. Chrom sice vykazuje vynikající vlastnosti z hlediska odolnosti proti opotřebení, ale vlastní zhotovování chromové vrstvy je velmi problematické. Technologie katodického vylučování chrómu je spojena a řadou nevýhod, spočívajících ve velmi nízké katodické proudové účinnosti procesu. Z uvedených skutečností plyne malá rychlost vylučování. Současně dochází v důsledku strhávání elektrolytu silně se vyvíjejícím vodíkem i к nežádoucímu znečišťování pracovního prostředí toxickým elektrolytem. V neposlední řadě je nevýhodou i velmi nízká hloubková účinnost procesu. Tyto nevýhody naznačují, že opatřit funkční plochu krystalizátoru ochrannou chromovou vrstvou o tloušťce dostačující na všech místech jejího povrchu, je velmi obtížné. V zahraničí byly dále pokusně použity kombinované ochranné vrstvy z elektrolytického niklu, bezproudové vyloučené slitiny nikl-fosfor a elektrolytického chrómu. Praktické použití uvedené vrstvy ee však z důvodů vysokých nákladů na jejich úpravu a nízkého efektu při jejich využití neosvědčilo a od uvažované úpravy bylo upuštěno. Ze zahraničních literárních pramenů je známa rovněž možnost užití kompozitu křemík - uhlík в niklovou matricí. U žádných uvedených úprav vsak nejsou uvedeny zprávy o tom, jakým způsobem lze uvedené vrstvy vytvářet. Jedná ее o nejpodstatnější nedostatek, protože při smykovém namáhání ochranné vrstvy při teplotách do 45o °C je třeba zajistit nejen dobré vlastnosti vyloučené elektrolytické vrstvy, ale i její dostatečnou adhezi ke korpusu krystalizátoru.At the present time, the continuous casting crystallizers of steel made of copper or their alloys do not show acceptable durability. It is therefore necessary to provide a protective coating to the functional surface of the crystallizers. A disadvantage of copper crystallizers is also the fact that when the cast steel passes through the crystallizer, undesirable copper diffusion occurs to the slab surface layer, causing defects in the subsequent rolling of the material. Abroad, both unprotected crystallizers and crystallizers with a protective functional layer formed by hard chrome treatment are currently used. Although chromium shows excellent wear resistance properties, the actual fabrication of the chromium layer is very problematic. Cathodic chromium depletion technology is associated with a number of drawbacks of the very low cathodic current efficiency of the process. This results in a low elimination rate. At the same time, due to the electrolyte entrainment by the strongly evolving hydrogen, undesirable pollution of the working environment with toxic electrolyte also occurs. Last but not least, the very low depth efficiency of the process is a disadvantage. These drawbacks suggest that providing a functional surface of the crystallizer with a protective chrome layer of a thickness sufficient at all points of its surface is very difficult. Above all, combined protective layers of electrolytic nickel, electroless deposited nickel-phosphorus alloy and electrolytic chromium were used experimentally. However, the practical use of said layer ee did not prove useful due to the high treatment costs and the low effect in their use and the treatment considered was abandoned. Foreign literary sources also know the possibility of using a silicon-carbon composite in a nickel matrix. However, there are no reports on how these layers can be created for any of these modifications. This is the most important drawback, since the shear stress of the protective layer at temperatures up to 45 ° C requires not only good properties of the deposited electrolytic layer, but also its sufficient adhesion to the crystallizer body.
Uvedené nevýhody odstraňuje způsob vytváření ochranných funkčních vrstev z niklu nebo jeho slitin na pracovních plochách krystalizátorů. Opracovaný povrch krystalizátoru, zhotoveného z mědi nebo jejích slitin, se nejprve povrchově upraví, poté odmastí, opláchne a po následném moření a po opětovném oplachu se podrobí katodické elektrokrystalizaci v elektrolyzéru к vyloučení nejméně jedné kovové funkční vrstvy na bázi niklu nebo jeho slitin o tloušťce od 1 do lo mm. Za účelem zvýšení přilnavosti se dodatečné mechanické opracování povrchu krystalizátoru provede čištěním, leptáním a podobně. Podstata vynálezu spočívá v tom, že se funkční povrch krystalizátoru před elektrokrystalizací opatří průběžným drážkováním s negativními úhly.These disadvantages are eliminated by the method of forming protective functional layers of nickel or its alloys on the working surfaces of the crystallizers. The treated surface of the crystallizer made of copper or its alloys is first surface treated, then degreased, rinsed and subjected to cathodic electrocrystallization in an electrolyser after subsequent pickling and rinsing to eliminate at least one nickel-based metal functional layer or its alloys having a thickness of 1 to lo mm. In order to increase the adhesion, the post-treatment of the surface of the crystallizer is carried out by cleaning, etching and the like. SUMMARY OF THE INVENTION The principle of the invention is that the functional surface of the crystallizer is provided with continuous angling with negative angles prior to electrocrystallization.
Způsob podle vynálezu umožňuje vytvoření ochranné vrstvy na bázi niklu, s možností využití legur i dispergovaných, keramických částic, vykazujících vysokou odolnost proti opotřebení i dobrou přilnavost к podkladu v podmínkách vyskytujících se v provozu krystalizátorů. Možnost použití samotné niklové vrstvy znamená výrazné zlepšení odolnosti povrchu krystalizátoru proti opotřebení pouze při normální teplotě, nebo při teplotách dosahujících nejvýše 2oo °C. Teploty o 2oo až 25o °C vyšší, které se v některých místech povrchu krystalizátoru vyskytují, však výhody dané použitím niklu značně omezují. Proto je výhodou způsobu podle vynálezu, že vytvářená niklová vrstva Je podstatně méně citlivá к teplotní expozici. Způsob podle vynálezu zajišťuje v důsledku drážkování s negativními úhly velmi dobrou přilnavost vylučované vrstvy i v daných podmínkách, což je velmi významné pro použitelnost galvanoplastické technologie.The method according to the invention makes it possible to form a nickel-based protective layer, with the possibility of using both alloy and dispersed ceramic particles, exhibiting high wear resistance and good adhesion to the substrate under the conditions occurring in the crystallizer operation. The possibility of using the nickel layer alone means a significant improvement in the wear resistance of the crystallizer surface only at normal temperature or at temperatures of not more than 200 ° C. However, the temperatures of about 20 ° C to about 25 ° C higher that occur at some points in the surface of the crystallizer significantly reduce the benefits of using nickel. Therefore, it is an advantage of the method of the invention that the nickel layer formed is substantially less sensitive to thermal exposure. The method according to the invention ensures, due to the grooving with negative angles, a very good adhesion of the deposited layer even under given conditions, which is very important for the applicability of the galvanoplastic technology.
Podrobné znaky způsobu podle vynálezu jsou uvedeny v níže uvedených příkladech, jimiž však není předmět vynálezu jednoznačně determinován ani limitován.The details of the process according to the invention are given in the examples below, but the invention is not intended to be determined or limited thereto.
Způsob zpracování povrchu měděného krystalizátoru po mechanickém opracování probíhá tak, že po hrubém i konečném odmaštění jsou mořením v minerální kyselině odstraněnyThe method of surface treatment of the copper crystallizer after mechanical treatment is carried out in such a way that after coarse and final degreasing they are removed by pickling in mineral acid
CS 271002 Bl případné zbytky odmašťovacích substancí a oxidy, načež je po oplachu vzorek aktivován v kyselém roztoku, který nekontaminuje elektrolyt, v němž následuje proces růstu ochranné vrstvy. Potom je krystalizátor bez oplachu ponořen do elektrolytu. Ochranná vrstva má za základ nikl, který může být podle potřeby legován kovovými i nekovovými elementy, například fosforem, nebo manganem. Jako heterogenní složka mohou být užity jemně dispergované kysličníky, karbidy, sirníky, případně další kovové sloučeniny e vysokou odolností proti opotřebení za podmínek vyskytujících se na funkčním povrchu krystalizátorů. Příklad 1CS 271002 B1 any residues of degreasing substances and oxides, after which the sample is activated after rinsing in an acidic solution that does not contaminate the electrolyte followed by a protective layer growth process. The crystallizer is then immersed in the electrolyte without rinsing. The protective layer is based on nickel, which can be alloyed with metallic and non-metallic elements, for example phosphorus or manganese, as required. As a heterogeneous component, finely dispersed oxides, carbides, sulfides and possibly other metal compounds with high wear resistance can be used under conditions occurring on the functional surface of the crystallizers. Example 1
Povrch vzorku krystalizátoru, určeného к nanesení ochranné funkční vrstvy, byl opatI řen průběžným obvodovým drážkováním s negativním úhlem к vodorovné ose 6o° a hloubce drážky 1 mn. Poté byl krystalizátor vyčištěn a zhruba odmaštěn perchloretylenem. Odmaštění bylo ukončeno suspenzí vídenského vápna ve vodě. Po následujícím oplachu tekoucí 4 vodou byl vzorek mořen po dobu 2 minut v 15% kyselině chlorovodíkové, která odstranila případné zbytky vídeňského vápna a oxidickou vrstvu na povrchu vzorku. Poté byl vzorek opláchnut destilovanou vodou a dále podroben moření v roztoku lo% kyseliny amidosulfonové a to po dobu 5 minut. Poté byl vzorek oplachu přenesen do elektrolytu na bázi kyseliny amidosulfonové pro vylučování kompozitu karbidu křemíku s niklovou matricí. Vyloučená niklová ochranná funkční vrstva vykazovala velmi dobrou přilnavost i odolnost proti adhezivnímu opotřebení.The surface of the crystallizer sample to be applied to the protective functional layer was provided with continuous circumferential grooving with a negative angle to the horizontal axis of 60 ° and a groove depth of 1 mn. The crystallizer was then cleaned and roughly degreased with perchlorethylene. Degreasing was completed with a suspension of Viennese lime in water. After rinsing with running 4 water, the sample was pickled for 2 minutes in 15% hydrochloric acid, which removed any residual Viennese lime and an oxide layer on the sample surface. The sample was then rinsed with distilled water and subjected to pickling in a 10% amidosulfonic acid solution for 5 minutes. Then, the rinse sample was transferred to an amidosulfonic acid electrolyte to precipitate a silicon carbide composite with a nickel matrix. The deposited nickel protective functional layer showed very good adhesion and resistance to adhesive wear.
Příklad 2Example 2
Povrch vzorku krystalizátoru byl nejprve mechanicky opracován a to průběžnou obvodovou drážkou в negativním úhlem к vodorovné ose 75° a hloubce drážky 1,5 mm. Horní konec zářezu byl opatřen rádiem o,l mm a byl posunut směrem к pokovovanému předmětu o o,5 mm. Poté byl povrch krystalizátoru odmaštěn v chloroformu a poté katodicky pokoven při teplotě 8o °C v elektrolytu obsahujícím 15 g/1 hydroxydu sodného, 4o g/1 fosforečnanu sodného a lo g/1 sulfosalicylanu sodného. Poté následoval oplach v tekoucí vodě a po dobu 1 minuty v lo° kyselině sírové. Po následném oplachu v destilované vodě následovala konečná aktivace povrchu v 8% kyselině eulfosalicylové, po níž byl vzorek přenesen do elektrolytu pro vylučování niklu s přísadou manganu, jehož nosnými anionty byla kyselina amidosulfonová a kyselina sulfoaalicylová. Vyloučená ochranná vrstva na funkční ploše krystalizátoru vykazovala velmi dobrou přilnavost i odolnost proti opotřebení za vyšších teplot.The surface of the crystallizer sample was first machined using a continuous circumferential groove at a negative angle to the horizontal axis of 75 ° and a groove depth of 1.5 mm. The top end of the indentation was provided with a radius of 0.1 mm and was shifted towards the plated object by 0.5 mm. Then, the surface of the crystallizer was degreased in chloroform and then cathodically plated at 80 ° C in an electrolyte containing 15 g / l sodium hydroxide, 40 g / l sodium phosphate and 10 g / l sodium sulfosalicylate. This was followed by rinsing in running water and for 1 minute in 10 ° sulfuric acid. Subsequent rinsing in distilled water was followed by a final surface activation in 8% eulfosalicylic acid, which was transferred to a manganese-containing nickel-depleting electrolyte, the carrier anions of which were amidosulfonic acid and sulfoaalicylic acid. The deposited protective layer on the functional surface of the crystallizer showed very good adhesion and wear resistance at higher temperatures.
Příklad 3Example 3
Povrch vzorku krystalizátoru byl opatřen drážkováním o hloubce 1,2 mm a s negativními úhly 65°. Po naleptání byl krystalizátor zhruba odmaštěn technickým benzinem, dáp le v reversovaném režimu elektrolyticky odmaštěn při proudové hustotě lo A/dm v cyklu * 1:8 (anod : katod) v elektrolytu obsahujícím 4o g/1 hydroxidu sodného, 4o g/1 křemiČitanu sodného, lo g/1 aminosulfananu sodného, a to při teplotě 7o °C. Po následujícím oplachu v destilované vodě byl vzorek dále po dobu 2 minut vnořen v 8% roztoku kyseliny amidosulfonové. Poté byl vzorek bez oplachu podroben pokovení v elektrolytu pro vylučování disperzní pseudoslitiny kysličníku hlinitého s niklovou matricí v sulfonátovém elektrolytu. Tímto způsobem byl funkční povrch vzorku opatřen dobře přilnavou ochrannou vrstvou, odolnou proti opotřebení, která byla poté obroušena.The surface of the crystallizer sample was provided with a groove of 1.2 mm depth and negative angles of 65 °. After etching, the crystallizer was roughly degreased with technical gasoline, followed by electrolytic degreasing at a current density of lo A / dm of * 1: 8 (anode: cathode) in an electrolyte containing 4 g / l sodium hydroxide, 4 g / l sodium silicate. 1.0 g / l of sodium aminosulfanate at 70 ° C. After rinsing in distilled water, the sample was further immersed in 8% amidosulfonic acid solution for 2 minutes. Then, the sample without rinsing was subjected to electroplating in an electrolyte to precipitate a dispersed alumina pseudoalloy with a nickel matrix in the sulfonate electrolyte. In this way, the functional surface of the sample was provided with a well-adhering, wear-resistant protective layer which was then abraded.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS246486A1 CS246486A1 (en) | 1987-09-17 |
| CS271002B1 true CS271002B1 (en) | 1990-08-14 |
Family
ID=5361864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS846667A CS271002B1 (en) | 1986-04-05 | 1986-04-05 | Feeding device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS271002B1 (en) |
-
1986
- 1986-04-05 CS CS846667A patent/CS271002B1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS246486A1 (en) | 1987-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Di Bari | Electrodeposition of nickel | |
| CN101243211B (en) | Pretreatment of magnesium substrates for electroplating | |
| Schwartz | Deposition from aqueous solutions: an overview | |
| GB2099460A (en) | Plating bath for the immersion deposition of gold | |
| US3726771A (en) | Process for chemical nickel plating of aluminum and its alloys | |
| CN103882492A (en) | Chemical plating posttreatment method of metallic matrix | |
| CN85105468A (en) | The pre-brush plating method for brazing of welding-resistant metal | |
| PL185431B1 (en) | Method of treating outer surfaces of continuous casting mould components made of copper or its alloys, including nickel plating stage and stage of removing the nickel coating from that surface | |
| US4416738A (en) | Chromium plating | |
| ES2264735T3 (en) | PRE-TREATMENT PROCESS FOR THE COATING OF ALUMINUM MATERIALS. | |
| CS271002B1 (en) | Feeding device | |
| US4170525A (en) | Process for plating a composite structure | |
| US6284123B1 (en) | Electroplating formulation and process for plating iron onto aluminum/aluminum alloys | |
| CN101498014B (en) | Electroplating process for metallic surface wear-resistance coating | |
| Hajdu | Surface preparation for electroless nickel plating | |
| CZ6499A3 (en) | Cold-walled continuous casting metal element of copper or copper alloy having a metal coating on the outer surface and a method of coating it | |
| CN101338445B (en) | Wear resistant coating of piston ring for internal-combustion engine and electroplating process | |
| EP0010989B1 (en) | Method of plating aluminium | |
| CS212001B1 (en) | Method of electrolytic precipitation of the nickle and alloying elements alloys layers | |
| EP1036221B1 (en) | Electroplating formulation and process for plating iron directly onto aluminum or aluminum alloys | |
| US5605565A (en) | Process for attaining metallized articles | |
| US3186925A (en) | Chromium plating process with a pure nickel strike | |
| Protsenko et al. | The corrosion-protective traits of electroplated multilayer zinc-iron-chromium deposits | |
| SU796250A1 (en) | Method of electrolytical precipitation on metallic articles | |
| Schaffert et al. | A Sulfate‐Chloride Solution for Iron Electroplating and Electroforming |