CS261613B1 - Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní - Google Patents
Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní Download PDFInfo
- Publication number
- CS261613B1 CS261613B1 CS859653A CS965385A CS261613B1 CS 261613 B1 CS261613 B1 CS 261613B1 CS 859653 A CS859653 A CS 859653A CS 965385 A CS965385 A CS 965385A CS 261613 B1 CS261613 B1 CS 261613B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- solution
- copolymers
- weight
- protective lacquer
- amount
- Prior art date
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
Lak je tvořen roztokem polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo khpolymerů akrylátů a/nebo metakrylátů s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
Description
Lak je určen k ochraně proti působení kyselých leptacích lázní, např. při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách v kombinaci Cr, Cu, Fe.
K odleptávání chrómu roztokem CaCh, ZnCh + HC1 se v současné době využívá novolakové pryskyřice rozpuštěné v etanolu, která po nanesení na poškozená místa světlocitlivé vrstvy a po odpaření etanolu vytváří film odolný proti působení kyselé leptací lázně.
Nedostatkem dosud známých roztoků je jejich hořlavost, protože obsahují alkohol, dále jejich rychlé zasychání způsobované odpařováním etanolu, což má za následek změnu konsistence při technologickém použití. Posléze je jejich nedostatkem nutnost použití louhu či lihu k jejich odmývání, což vyvolá potřebu další technologické operace a tím zvyšuje náklady na výrobu tiskových forem.
Podstatu ochranného laku podle vynálezu proti působení kyselých leptacích lázní obsahujících případně chlorid vápenatý a/nebo zinečnatý, například při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách, tvoří vodný roztok polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo kopolymerů akrylátů a/nebo metakrylátů s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku. Za účelem urychlení zasychavosti může ochranný lak obsahovat organické rozpouštědlo ze skupiny zahrnující meíylalkohol, etylalkohol, propylalkohol, izopropylalkohol, aceton, etylénglykolmonometyléter a etylénglykolmonoetyléter v množství nejvýše 50 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
Ochranný lak může dále obsahovat rozpuštěné nebo rozptýlené barvivo, za účelem zvýšení barevného kontrastu, v množství nejvýše 5 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku. Pro zlepšení povrchových vlastností roztoku může ochranný lak rovněž obsahovat smáčedla v množství nejvýše 5 %, vztaženo na hmotnost roztoku.
Účelem vynálezu je využití polymerů rozpustných ve vodném prostředí, ale vytvářejících v kyselém prostředí nerozpustné filmy, které se však snadno odstraní vodou po leptání. Využívá se polymerů obsahujících v řetězci skupiny, které působením alkálií nebo amoniaku převedou polymer na vodorozpustný. Přítomností minerálních kyselin přecházejí na původní nerozpustnou formu nebo síťují účinkem vícemocných kovů, např. Zn2+ nebo Ca2+ z lsptacího roztoku.
Příklad 1
Ke 100 ml 50% vodného roztoku amoniakem zmýdelněného kopolymerů akrylonitriletylakrylátu se přidá za míchání 1 g metylenové modři rozpuštěné ve 200 ml roztoku etanol-voda (1:1).
Příklad 2
K navážce 10 g polymeru mnloinanhydridu se styrenem se přilije 12 ml čpavkové vody (obsah NHj mezi 25 — 29 %) a 1,0 ml acetonu se za stálého míchání zmýdelní. Po rozpuštění se k tomuto roztoku přidá 15 ml roztoku obsahujícího 0,5 g Saturnové violeti a 0,1 ml smáčedla Slovafol 910 ve vodě.
Příklad 3
K 55 ml 35% roztoku sodné soli kopolymeru maleinanhydridu se styrenem se přidá 10 ml 5% vodného roztoku Saturnové zeleni s 0,2 ml smáčedla Spolion.
Výhody ochranného laku podle vynálezu spočívají v tom, že neobsahuje žádná organická rozpouštědla, nebo zcela zanedbatelné množství. Nedochází tedy k podstatným změnám konsistence laku při skladování v otevřených nádobách. Vzhledem k absenci organických rozpouštědel nebo jen nízkému obsahu je nový přípravek nehořlavý. Výchozí suroviny jsou stadardní a běžně dostupné. Z ekonomického hlediska je ve srovnání s dosud používanými roztoky levnější. Další výhodou je skutečnost, že ochranný film se při leptání nenaruší, ale snadno se pak odstraní vodou. Lak je tudíž výhodný pro aplikaci na vícekovové ofsetové podložky zpracovávané v automatických zařízeních, neboť odpadá nutnost odstranění retušovacího prostředku mimo automat, desku je možno bezprostředně po leptání odvrstvit v automatickém zařízení. Tím dojde k úsporám technologických časů a materiálů dosud nezbytných k odstranění retušovacího laku na bázi novolakové pryskyřice (NaOH a etanolj. Polymery užité v navrženém systému dovolují jeho použití i k ochraně netisknoucích míst na hliníkových podložkách a dojde k dalšímu zjednodušení a sjednocení technologií v ofsetových kopírnách.
Claims (4)
1. Ochranný lak proti působení kyselých leptacích lázní obsahujících případně chlorid vápenatý a/nebo zinečnatý, například při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách, vyznačený tím, že je tvořen vodným roztokem polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo kopolymerů akrylátů a/nebo metakrylátú s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
VYNALEZU
2. Ochranný lak podle bodu 1 vyznačený tím, že obsahuje organické rozpouštědlo ze skupiny zahrnující metylalkohol, etylalkohol, propylalkohol, izopropylalkohol, aceton, etylénglykolmonometyléter a etylénglykolmonoetyléter v množství nejvýše 50 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
3. Ochranný lak podle bodů 1 a 2 vyznačený tím, že obsahuje rozpuštěné nebo rozptýlené barvivo, v množství nejvýše 5 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
4. Ochranný lak podle bodů 1, 2 a 3 vyznačený tím, že obsahuje smáčedla v množství nejvýše 5 %, vztaženo na hmotnost roztoku.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS859653A CS261613B1 (cs) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS859653A CS261613B1 (cs) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS965385A1 CS965385A1 (en) | 1988-07-15 |
| CS261613B1 true CS261613B1 (cs) | 1989-02-10 |
Family
ID=5445910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS859653A CS261613B1 (cs) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS261613B1 (cs) |
-
1985
- 1985-12-20 CS CS859653A patent/CS261613B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS965385A1 (en) | 1988-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5045435A (en) | Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation | |
| EP2677365B1 (en) | Developer composition for printing plate, developer and method for manufacturing printing plate | |
| JPH0138289B2 (cs) | ||
| US5304587A (en) | Water resistant security ink composition | |
| CA2191946A1 (en) | Method for the production of anhydride modified polyvinyl acetals useful for photosensitive compositions | |
| US4457999A (en) | Light-sensitive 1,2 quinone diazide containing mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein imaged produced therein is visible under yellow safety light | |
| KR100628451B1 (ko) | 용제계 펜 잉크 | |
| JPS5924847A (ja) | 照射されたネガチブ作用を有する感光性複写膜の水性アルカリ性現像剤及び該複写膜の現像方法 | |
| US4055515A (en) | Developer for printing plates | |
| US4776892A (en) | Process for stripping light-hardened photoresist layers | |
| CA1128803A (en) | Photopolymerizable mixture containing a phenazine derivative as photoinitiator | |
| CA2361340C (en) | Process for the treatment of an erasable lithographic printing plate | |
| KR880002517B1 (ko) | 감광성 조성물 | |
| US4221859A (en) | Photopolymerizable composition with oxalic acid photoinitiator | |
| CS261613B1 (cs) | Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní | |
| US3679479A (en) | Washout-preservative for lithographic printing plates | |
| US3558609A (en) | Azido azomethines for reprographic copying compositions | |
| JPS60213943A (ja) | 現像液組成物 | |
| US3661573A (en) | Light-sensitive compounds | |
| IL33511A (en) | Light-sensitive material for the preparation of a multi-metal offset printing plate,and process for the preparation therefor | |
| US4933260A (en) | Water based photopolymerizable resin composition | |
| KR950000237B1 (ko) | 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물 | |
| JPS5822736B2 (ja) | ゲンゾウエキソセイブツ | |
| JPH067264B2 (ja) | 支持体上に配置されたネガチブ型の露光した複写層を現像するための現像剤 | |
| US5143815A (en) | Light-sensitive mixture based on 1,2-naphthoquinone-diazides, and reproduction material produced with this mixture |