CS261613B1 - Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní - Google Patents

Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní Download PDF

Info

Publication number
CS261613B1
CS261613B1 CS859653A CS965385A CS261613B1 CS 261613 B1 CS261613 B1 CS 261613B1 CS 859653 A CS859653 A CS 859653A CS 965385 A CS965385 A CS 965385A CS 261613 B1 CS261613 B1 CS 261613B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
solution
copolymers
weight
protective lacquer
amount
Prior art date
Application number
CS859653A
Other languages
English (en)
Other versions
CS965385A1 (en
Inventor
Zdenek Ing Adamek
Original Assignee
Zdenek Ing Adamek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Ing Adamek filed Critical Zdenek Ing Adamek
Priority to CS859653A priority Critical patent/CS261613B1/cs
Publication of CS965385A1 publication Critical patent/CS965385A1/cs
Publication of CS261613B1 publication Critical patent/CS261613B1/cs

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

Lak je tvořen roztokem polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo khpolymerů akrylátů a/nebo metakrylátů s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.

Description

Lak je určen k ochraně proti působení kyselých leptacích lázní, např. při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách v kombinaci Cr, Cu, Fe.
K odleptávání chrómu roztokem CaCh, ZnCh + HC1 se v současné době využívá novolakové pryskyřice rozpuštěné v etanolu, která po nanesení na poškozená místa světlocitlivé vrstvy a po odpaření etanolu vytváří film odolný proti působení kyselé leptací lázně.
Nedostatkem dosud známých roztoků je jejich hořlavost, protože obsahují alkohol, dále jejich rychlé zasychání způsobované odpařováním etanolu, což má za následek změnu konsistence při technologickém použití. Posléze je jejich nedostatkem nutnost použití louhu či lihu k jejich odmývání, což vyvolá potřebu další technologické operace a tím zvyšuje náklady na výrobu tiskových forem.
Podstatu ochranného laku podle vynálezu proti působení kyselých leptacích lázní obsahujících případně chlorid vápenatý a/nebo zinečnatý, například při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách, tvoří vodný roztok polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo kopolymerů akrylátů a/nebo metakrylátů s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku. Za účelem urychlení zasychavosti může ochranný lak obsahovat organické rozpouštědlo ze skupiny zahrnující meíylalkohol, etylalkohol, propylalkohol, izopropylalkohol, aceton, etylénglykolmonometyléter a etylénglykolmonoetyléter v množství nejvýše 50 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
Ochranný lak může dále obsahovat rozpuštěné nebo rozptýlené barvivo, za účelem zvýšení barevného kontrastu, v množství nejvýše 5 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku. Pro zlepšení povrchových vlastností roztoku může ochranný lak rovněž obsahovat smáčedla v množství nejvýše 5 %, vztaženo na hmotnost roztoku.
Účelem vynálezu je využití polymerů rozpustných ve vodném prostředí, ale vytvářejících v kyselém prostředí nerozpustné filmy, které se však snadno odstraní vodou po leptání. Využívá se polymerů obsahujících v řetězci skupiny, které působením alkálií nebo amoniaku převedou polymer na vodorozpustný. Přítomností minerálních kyselin přecházejí na původní nerozpustnou formu nebo síťují účinkem vícemocných kovů, např. Zn2+ nebo Ca2+ z lsptacího roztoku.
Příklad 1
Ke 100 ml 50% vodného roztoku amoniakem zmýdelněného kopolymerů akrylonitriletylakrylátu se přidá za míchání 1 g metylenové modři rozpuštěné ve 200 ml roztoku etanol-voda (1:1).
Příklad 2
K navážce 10 g polymeru mnloinanhydridu se styrenem se přilije 12 ml čpavkové vody (obsah NHj mezi 25 — 29 %) a 1,0 ml acetonu se za stálého míchání zmýdelní. Po rozpuštění se k tomuto roztoku přidá 15 ml roztoku obsahujícího 0,5 g Saturnové violeti a 0,1 ml smáčedla Slovafol 910 ve vodě.
Příklad 3
K 55 ml 35% roztoku sodné soli kopolymeru maleinanhydridu se styrenem se přidá 10 ml 5% vodného roztoku Saturnové zeleni s 0,2 ml smáčedla Spolion.
Výhody ochranného laku podle vynálezu spočívají v tom, že neobsahuje žádná organická rozpouštědla, nebo zcela zanedbatelné množství. Nedochází tedy k podstatným změnám konsistence laku při skladování v otevřených nádobách. Vzhledem k absenci organických rozpouštědel nebo jen nízkému obsahu je nový přípravek nehořlavý. Výchozí suroviny jsou stadardní a běžně dostupné. Z ekonomického hlediska je ve srovnání s dosud používanými roztoky levnější. Další výhodou je skutečnost, že ochranný film se při leptání nenaruší, ale snadno se pak odstraní vodou. Lak je tudíž výhodný pro aplikaci na vícekovové ofsetové podložky zpracovávané v automatických zařízeních, neboť odpadá nutnost odstranění retušovacího prostředku mimo automat, desku je možno bezprostředně po leptání odvrstvit v automatickém zařízení. Tím dojde k úsporám technologických časů a materiálů dosud nezbytných k odstranění retušovacího laku na bázi novolakové pryskyřice (NaOH a etanolj. Polymery užité v navrženém systému dovolují jeho použití i k ochraně netisknoucích míst na hliníkových podložkách a dojde k dalšímu zjednodušení a sjednocení technologií v ofsetových kopírnách.

Claims (4)

1. Ochranný lak proti působení kyselých leptacích lázní obsahujících případně chlorid vápenatý a/nebo zinečnatý, například při zhotovování ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách, vyznačený tím, že je tvořen vodným roztokem polymerů ze skupiny kyseliny akrylové a/nebo metakrylové nebo jejich kopolymerů s akryláty nebo metakryláty nebo s akrylonitrilem, nebo kopolymerů akrylátů a/nebo metakrylátú s akrylonitrilem, nebo kopolymerů maleinanhydridu se styrenem, přičemž obsah sušiny polymeru nebo kopolymerů ve vodném roztoku je roven 3 až 60 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
VYNALEZU
2. Ochranný lak podle bodu 1 vyznačený tím, že obsahuje organické rozpouštědlo ze skupiny zahrnující metylalkohol, etylalkohol, propylalkohol, izopropylalkohol, aceton, etylénglykolmonometyléter a etylénglykolmonoetyléter v množství nejvýše 50 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
3. Ochranný lak podle bodů 1 a 2 vyznačený tím, že obsahuje rozpuštěné nebo rozptýlené barvivo, v množství nejvýše 5 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost roztoku.
4. Ochranný lak podle bodů 1, 2 a 3 vyznačený tím, že obsahuje smáčedla v množství nejvýše 5 %, vztaženo na hmotnost roztoku.
CS859653A 1985-12-20 1985-12-20 Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní CS261613B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS859653A CS261613B1 (cs) 1985-12-20 1985-12-20 Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS859653A CS261613B1 (cs) 1985-12-20 1985-12-20 Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS965385A1 CS965385A1 (en) 1988-07-15
CS261613B1 true CS261613B1 (cs) 1989-02-10

Family

ID=5445910

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS859653A CS261613B1 (cs) 1985-12-20 1985-12-20 Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS261613B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS965385A1 (en) 1988-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5045435A (en) Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation
EP2677365B1 (en) Developer composition for printing plate, developer and method for manufacturing printing plate
JPH0138289B2 (cs)
US5304587A (en) Water resistant security ink composition
CA2191946A1 (en) Method for the production of anhydride modified polyvinyl acetals useful for photosensitive compositions
US4457999A (en) Light-sensitive 1,2 quinone diazide containing mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein imaged produced therein is visible under yellow safety light
KR100628451B1 (ko) 용제계 펜 잉크
JPS5924847A (ja) 照射されたネガチブ作用を有する感光性複写膜の水性アルカリ性現像剤及び該複写膜の現像方法
US4055515A (en) Developer for printing plates
US4776892A (en) Process for stripping light-hardened photoresist layers
CA1128803A (en) Photopolymerizable mixture containing a phenazine derivative as photoinitiator
CA2361340C (en) Process for the treatment of an erasable lithographic printing plate
KR880002517B1 (ko) 감광성 조성물
US4221859A (en) Photopolymerizable composition with oxalic acid photoinitiator
CS261613B1 (cs) Ochranný lak proti působení kyselých leptaoích lázní
US3679479A (en) Washout-preservative for lithographic printing plates
US3558609A (en) Azido azomethines for reprographic copying compositions
JPS60213943A (ja) 現像液組成物
US3661573A (en) Light-sensitive compounds
IL33511A (en) Light-sensitive material for the preparation of a multi-metal offset printing plate,and process for the preparation therefor
US4933260A (en) Water based photopolymerizable resin composition
KR950000237B1 (ko) 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물
JPS5822736B2 (ja) ゲンゾウエキソセイブツ
JPH067264B2 (ja) 支持体上に配置されたネガチブ型の露光した複写層を現像するための現像剤
US5143815A (en) Light-sensitive mixture based on 1,2-naphthoquinone-diazides, and reproduction material produced with this mixture