CS261098B1 - Magnctrňnová vývěva - Google Patents

Magnctrňnová vývěva Download PDF

Info

Publication number
CS261098B1
CS261098B1 CS874487A CS448787A CS261098B1 CS 261098 B1 CS261098 B1 CS 261098B1 CS 874487 A CS874487 A CS 874487A CS 448787 A CS448787 A CS 448787A CS 261098 B1 CS261098 B1 CS 261098B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
vacuum
vacuum pump
magnetron
pump
diffusion
Prior art date
Application number
CS874487A
Other languages
English (en)
Slovak (sk)
Other versions
CS448787A1 (en
Inventor
Jozef Matuska
Rudolf Harman
Original Assignee
Jozef Matuska
Rudolf Harman
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jozef Matuska, Rudolf Harman filed Critical Jozef Matuska
Priority to CS874487A priority Critical patent/CS261098B1/cs
Publication of CS448787A1 publication Critical patent/CS448787A1/cs
Publication of CS261098B1 publication Critical patent/CS261098B1/cs

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

2 6 1 η 9 8 4
Vynález sa týká magnetrónovej vývevy, uktorej rieši konštrukciu vývevy a jej umiest-nenie vo vákuovej komoře.
Doposial' sa používajú pře získanie vákuapre účely naprašovania 3 skupiny vývev: di-fúzne olejové vývevy, turbomolekulárne vý-vevy a kryogénne vývevy. Prvý druh patřímedzi najrozšírenejšie vývevy, ale och ne-výhodou je spatný prúd olejových pár, kto-ré smerujú z pracovnej plochy difúznej vý-vevy smerom k vstupu do vývevy. Tentoprúd, zapříčiněný rozptylom olejových párna krajoch trysky a odrazom molekúl pra-covnej kvapaliny od roznych povrchov, spó-sobuje zhoršenie adhézie vrstvy ku podlož-ke a zníženie kvality vrstvy v dosledku za-budovanía molekúl oleja do naprašovanéhomateriálu. I keď sa zníženie spatného prúdudosahuje róznymi lapačmi pár, pre súčasnéaplikácie nie je jeho vplyv zanedbatelný.V oblasti pracovných tlakov naprašovacíchsystémov 0,1—1 Pa spatný prúd prudko na-rastá. Preto sa medzi vákuovú komoru a di-fúznu vývevu vkládá škrtiaca klapka, kte-rá zabezpečí potřebný tlakový spád presprávnu činnost difúznej vývevy, ale súčas-ne zníži jej čerpaciu rýchlosť. V dosledkutýchto nevýhod sa v poslednom období na-hradzujú difúzne olejové vývevy v zariade-niach pre přípravu tenkých vrstiev zložitej-šími kryogénnymi, resp, turbomolekulárny-mi vývevami, které vytvárajú čisté vákuumbez oleja.
Vyššie uvedené nedostatky pri použití di-fúznej vývevy odstraňuje magnetrónová vý-veva podl'a vynálezu, ktorej podstata spo-čívá v tom, že sa skládá z anody a katody.Anoda má na straně smerom ku katodě při-pevněné rebrá. Katoda má na vonkajšej stra-ně připevněný terč odprašovaného mate-riálu a pólové nástavce. Vo vnútri katody jeumiestnený magnetický obvod tak usporia-daný, aby nad povrchom terča vznikla jednaalebo niekofko oblastí, nad ktorou sa vek-tor, kolmý na směr siločiar magnetickej in-dukcie, uzatvára do seba. Anoda a katodasú umiestnené vo vákuovom potrubí medzivákuovou komorou a difúznou vývevou. Výhodou magnetrónovej vývevy podl'a vy-nálezu je, že pri použití difúznej vývevy u-možňuje získáť pre potřeby naprašovaniakvalitně vákuum bez olejových pár. Magne-trónová výveva podlá vynálezu, umiestne-ná vo1 vákuovom systéme medzi komorou adifúznou vývevou, potlačí spatné prúdenieolejových pár na základe rozkladu pár vovýboji a ionizácii ich zložiek, ktoré sú ná-sledovně viazané vrstvou kovu, naprašova-nou na rebrovanú stranu anódy. Súčasnezvyšuje čerpaciu rýchlosť vákuovéh© systé-mu v dosledku chemickej sorpcii čerpanýchplynov naprašovanou vrstvou kovu.
Na pripojenom výkrese je na obr. 1 zjed-nodušené znázorněný příklad realizáciemagnetrónovej vývevy podlá vynálezu.
Magnetrónová výveva sa skládá zo stlp-cového magnetrónu a dutej anódy. Magne-trón obsahuje tri erózne zóny, v ktorýchje oprašovaný materiál terča 2. Vo vnútrikatody 1 je umiestnený magnetický obvod4, kterého magnetické pole ďalej tvarujúpólové nástavce 3, umiestnené na povrchukatody 1. Aby montáž vývevy vo vákuovejaparatúre nevyžadovala mechanickú úpravuvákuovej komory, napájacie napátia a chla-diaca voda do magnetrónu sa privádza cezvákuovú komoru 14 pomocou kovového ve-denia 10 a kombinované] vodnej-elektrickejpriechodky 9. Anomálny tlejivý výboj 5, vdosledku kterého je odprašovaný materiálterča 2, hoří nad tým miestom terča, kde si-ločiary magnetickej indukcie 8 vytvárajútunelové magnetické pole nad povrchom ter-ča 2.
Anoda 6 je pre zvačšenie aktívneho po-vrchu vybavená rebrami 7 a tiež je chlade-ná vodou, privádzanou cez kovové vedenie15 a vodnú priechodku 16. V čerpacomsystéme na obr. 1 je magnetrónová vývevapodl'a vynálezu vložená do potrubia 17 me-dzi vákuovou komorou 14 a difúznou výve-vou 19. Pri zapínaní magnetrónovej vývevysa najprv rotačnou vývevou 22 vyčerpá vá-kuová komora 14 cez ventil 21. Potom saventil 21 zavrie, otvorí sa ventil 20 a za-hřeje sa olej difúznej vývevy na pracovnúteplotu. Po dosiahnutí tejto teploty sa otvo-rí ventil 18. Po vyčerpaní komory difúznouvývevou sa otvorí ventil 13, cez ktorý sanapúšťa do komory pracovný plyn a zapá-lí sa výboj magnetrónovej vývevy 5. Po u-stálení prietoku plynu sa privedie napája-cie napátie na naprašovací magnetrón 11a začne naprašovanie vrstvy na vzorku 12.Cerpacia rýchlosť magnetrónovej vývevy, ur-čená na základe sorpcných účinkov čistéhoTi, sa pohybuje v rozsahu 500—1 500 1/s preCO, C02, H2, HaO, N2, 02, He a skupiny—CH—.
Ako vyplývá z uvedených vlastností, mag-netrónová výveva podlá vynálezu umožnízlepšit pracovně vákuum počas naprašova-nia vrstvy. Zachytí a bude viazať spatnýprúd pár olejovej vývevy, a súčasne v ob-lasti tlakov 0,1—1 Pa výrazné zváčší čer-paciu rýchlosť vákuového systému pre ply-ny, ktoré pri naprašovaní v Ar tvoria ne-žiadúcu zložku pracovnej atmosféry a do-stávajú sa do vákuovej. komory natékánímcez netěsnosti, resp. ako nečistoty pracov-ného plynu. V porovnaní s kryogénnymi ale-bo turbomolekulárnymi vývevami je úpravavákuovej aparatúri pomocou magnetrónovejvývevy menej náročná. Λ.

Claims (1)

  1. 261038 PREDMET Magnetrónová výveva pre čerpanie plynov,ktorá sa vyznačuje tým, že je zložená z anó-.dy (6j, ktorá má na vnútornej straně reb-rá (7), a katody (1), na ktorej je z vonkaj-šej strany připevněný terč odprašovanéhomateriálu (2) a pólové nástavce (3), a vovnútri katody (1) je umiestnený magnetic-ký obvod (4) tak usporiadaný, aby nad po- VYNÁLEZU vrchom terča (2j vznikla jedna alebo nie-kolko oblastí, nad ktorou sa vektor kolmýna siločiary magnetickéj indukcie (8) u-zatvára do seba, pričom anoda (6) a kato-da (1) sú umiestnené vo vákuovom potru-bí (17) medzi vakuovou komorou (14j a di-fúznou vývevou (19). 1 list výkresov
CS874487A 1987-06-18 1987-06-18 Magnctrňnová vývěva CS261098B1 (sk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS874487A CS261098B1 (sk) 1987-06-18 1987-06-18 Magnctrňnová vývěva

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS874487A CS261098B1 (sk) 1987-06-18 1987-06-18 Magnctrňnová vývěva

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS448787A1 CS448787A1 (en) 1988-05-16
CS261098B1 true CS261098B1 (sk) 1989-01-12

Family

ID=5387728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS874487A CS261098B1 (sk) 1987-06-18 1987-06-18 Magnctrňnová vývěva

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS261098B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS448787A1 (en) 1988-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK0809717T3 (da) Gasmanifold til et apparat til katodeforstøvning borte fra aksen
WO2001077402A2 (en) Method and apparatus for magnetron sputtering
TW200936886A (en) Multi-port pumping system for substrate processing chambers
JPS5912744B2 (ja) スパッタコ−ティング方法およびこれに使用する装置
RU2009125585A (ru) Способ и устройство для покрытия подложек
US3252652A (en) Process and apparatus for the production of high vacuums
TW201020335A (en) Vacuum processing apparatus and vacuum processing method
CS261098B1 (sk) Magnctrňnová vývěva
JP2013545891A (ja) モジュール式コータ分離
FR2829037A1 (fr) Dispositif a enceintes multiples pour l'evaporation fractionnee et la separation d'une solution
CN100398693C (zh) 多功能复合磁控等离子体溅射装置
RU2311492C1 (ru) Устройство для высокоскоростного магнетронного распыления
JP2895554B2 (ja) 多層被膜を有する真空容器及び真空機器用部品
CN218596492U (zh) 一种磁控溅射装置
JPS5531115A (en) Anti-contamination, vacuum plasma film-forming apparatus
RU2194087C2 (ru) Способ получения бериллиевой и бериллийсодержащей фольги и устройство для его осуществления
JP3574558B2 (ja) プラズマ処理装置
GB1394655A (en) Deposition of thin layers from the vapour phase under the simultaneous action of an ionised gas
JPS57131361A (en) Zinc plating method by multi-stages vapor deposition
JPS58118119A (ja) 反応性イオンプレ−テイング装置
KR20090071724A (ko) 듀얼 진공 펌프 시스템
JP2000192883A (ja) 複合クライオポンプとこれを使用した排気方法及び再生方法
JPS56163262A (en) Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment
CN115011949A (zh) 前驱物循环式原子层沉积设备与方法
JPS6425976A (en) Sputtering device