CS252111B1 - Způsob čiitiní součástek - Google Patents

Způsob čiitiní součástek Download PDF

Info

Publication number
CS252111B1
CS252111B1 CS841294A CS129484A CS252111B1 CS 252111 B1 CS252111 B1 CS 252111B1 CS 841294 A CS841294 A CS 841294A CS 129484 A CS129484 A CS 129484A CS 252111 B1 CS252111 B1 CS 252111B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
cleaning
components
volume
alkyl
vol
Prior art date
Application number
CS841294A
Other languages
English (en)
Other versions
CS129484A1 (en
Inventor
Jindrich Peterka
Original Assignee
Jindrich Peterka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jindrich Peterka filed Critical Jindrich Peterka
Priority to CS841294A priority Critical patent/CS252111B1/cs
Publication of CS129484A1 publication Critical patent/CS129484A1/cs
Publication of CS252111B1 publication Critical patent/CS252111B1/cs

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A40/00Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production
    • Y02A40/10Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production in agriculture
    • Y02A40/25Greenhouse technology, e.g. cooling systems therefor

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

Způsob čištění součástek zejméne v průmyslu elektroniky a elektrotechniky. Navržená směs rozpouštědel umožňuje rychlejší, kvalitativně i kvantitativně lepší odstranění nečistot s povrchu součástek, než tomu bylo u dosavadních způsobů čištění. Je možno pracovat i v parách směsi rozpouštědel. V případě požadavku ne dosažení vysokého stupně čistoty se odstraní poslední zbytky rozpouštědel i nečistot v nich rozpuštěných za vakue a zvýšené teploty. Popsaného způsobu čištění lze použít všude tam, kde se dosud používalo k čištění rozpouštědel

Description

Vynález řeší zlepšení čištění součástek a jejich souborů, jako. jsou například desky s plošnými spoji, osazená součástkami. Podmínkou dobré funkce všech druhů povrchové ochrany je obecně dostatečné očištění upravovaných součástek před nanášením prostředků povrchové ochrany. Povrchové ochrana se tedy rozpadá na dvě hlavní operace, z nichž prvou operací je čištění a to rozhoduje o kvalitě celé povrchové ochrany. Neexistuje totiž povrchová ochrana, které by byla schopna dobře chránit špatně očištěné desky s plošnými spoji. Jedním ze základních problémů výroby elektronických součástek a zařízení, například součástkami osazených desek s plošnými spoji, jsou výpadky jejich,činnosti, k nimž dochází za jejich provozu. Výpadky jsou důsledkem degradačních procesů, které jsou vyprovokovány zejména vlhkostí s náhlými změnami teploty. Proto je nutno desky s plošnými spoji chránit, což se děje povrchovou ochranou. Čistota desky s plošnými spoji je v moderní elektronice považována za prvořadou podmínku pro dodržení vyhovující kvality povrchové ochrany. Naopak nedostatky v Čistotě desek jsou nejčastější příčinou závad ve funkci desek, o čemž jsou obecně známa vyjádření řady odborníků. Nečistoty, například soli přítomné na povrchu desek s plošnými spoji, reagují s vlhkostí za vzniku elektrolytu.
V ČSSR se ve strojírenství běžně používá odmašťování v parách trichlorethylénu, dnes častěji perchlorethylénu. Dřívější zkoušky autora vynálezu prokázaly, že takové zpracování nedává záruku dobrého vyčištění ani odmaštění, protože nedochází v mnoha případech ani k úplnému smočení povrchu vodou. V elektrotechnice se pak používají postupy, shrnuté v tab 1.
Tabulka. Přehled způsobů čištění desek s plošnými spoji, obvyklých v ČSSR:
Odmaštění v parách trichlorethylénu nebo PK 3000, perchlorethylénu. 0011/001
Ultrazvukem v perchlorethylénu či freonu, PK 3000.
nebo freonu + ethylalkohol. 0014/003
Ponor neb místní odmaštění v a) psrchlor, PK 3000
b) perchlor-freon, c) ethylslkohol-freon. 0012/002
Odmaštování ve směsi freonu 11 a děnatur.
lihu + omytí isopropylalkoholem.
Omytí vodou, destilovanou vodou a isopropylalkoholem.
Kartáčování ethylalkoholem, deneturovaným etherem, čištění v roztoku NaHCO^I emulgátor ..
T + destilovaná voda, oplach vodovodní vodou, oplach destilovanou vodou, ofoukání vzduchem, oplaeh ethylalkoholem, denaturoveným etherem.
Postupy čištění u ostatních výrobců v ČSSR i ve světě se podle dostupných informací podstatně neliší. Nevýhodou současných způsobů čištění desek s plošnými spoji je malá účinnost čištění, takže se toto musí často opakovat, je zdlouhavé a jeho závady jsou nejčastější příčinou závad desek s plošnými spoji. Další nevýhodou stávajících způsobů čištění v oblasti elektroniky je absorpce malých zbytků rozpouštědel s nečistotami v nich obsaženými v laminátu desek s plošnými spoji a nedokonalost odstranění obou těchto eložek.
Podstata vynálezu spočívá v navržení nového způsobu čištění součástek a souborů součástek, jako jsou například desky s tištěnými spoji, osazané součástkami vyznačený tím, že se k čištění používá nově navržené směsi rozpouštědel, sestávající z 25 až 40 obj. % chlorovaného uhlovodíku o počtu uhlíkových atomů 1 a? 4, odlišného od sloučeniny vzorce
R - CC13 kúe R je vodík, alkyl Ci halogenovaný alkyl; 25 až 40 obj. % esteru.alifatické monokarboxylové kyseliny, jehož kyselina má počet atomů uhlíku 1 až 2 a alkohol má počet atomů uhlíku 1 až 5; 10 až 25 obj. % sloučeniny vzorce
R - CC13 kdy R je vodík, alkyl či halogenovaný alkylJ 10 až 25 obj. % nasyceného alifatického alkoholu a počtu atomů uhlíku 1 až 5 a že se po čiSténí a suSení běžným způsobem odstraní poslední zbytky roztoku vakuovým sušením za laboratorní nebo zvýěené teploty, přičemž hodnoty vakua a zvýěené teploty jsou zcela závislé na odolnosti součástek, které jsou čištěny.
Navržená směs rozpouštědel umožňuje rychlejší rozpouštění nečistot a protože zavádí do procesu čištění další vhodné složky, je rozpouštěna i širší paleta nečistot. Prakticky zcela odpadá dříve dosti častá nutnost čištění opakovat. Pokud se směs aplikuje jako odmaštování v parách, pak se mohou uplatnit i azeotropické vlastnosti směsi. Je-li požadována vysoké čistota součástek, umožňuje navržené odstranění posledních zbytků rozpouštědel - včetně nečistot v nich obsažených - za vhodného ještě přípustného vakua a teploty kvalitativně i kvantitativně lepší stupeň vyčištění. Nová je skutečnost, že v tomto případě dochází při sušení nejen k vytékání posledních zbytků rozpouštědel, což je při zahřívání roztoků za vakua*i bez něj zcela běžné, ale že jsou za těchto podmínek, při stávajícím podstatném poklesu koncentrace nečistot, spolu se zbytky rozpouštědel strhávány i poslední zbytky nečistot, což přináší výrazný zlepšující účinek.
Popsaný způsob čištění se používá při čištění desek s plošnými spoji i při čištění jiných součástek v elektronice. Tak byly například s úspěchem aplikovány tyto směsy:
obj. % dichlorethanu 1,2; 25 obj. % methylesteru kyseliny propionové; 10 obj. % pentachlorethanu a 40 obj. % ethylalkoholu - nebo 40 obj. % 1,2 dichlorethanu, 25 obj. % methylesteru kyseliny propionové, 25 obj. % chloroformu e 10 obj. % ethylalkoholu - nebo 25 obj. % 1,2 dichlorethanu, 40 obj. % methylesteru kyseliny propionové, 10 obj. % methylchloroformu a 25 obj. % ethylalkoholu. Čištěno bylo štětečkem. Po odtékání rozpouštědel za laboratorních podmínek bylo sušeno při 50 kPa a 40 °C. Potvrdily se všechny předpoklady, popsané v předcházejících odstavcích. Čištění bylo rychlejší a kvalitnější, než u dříve popsaných postupů, nebylo ho nutno opakovat.
Navrhovaný postup čištění se dá použít v elektrotechnice, v elektronice, ale i všude tam, kde byla až dosud používána k čištění rozpouštědla buč samotná, nebo tato s příměsí dalších látek. Krom strojírenství lze popsaný postup čištění použít i v dalších průmyslových odvětvích, nakonec i v oblasti spotřebního průmyslu a jinde.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    Způsob ČiětŠní součástek a souborů součástek, jako jsou například desky s tištěnými spoji, osazené součástkami vyznačené tím, že se k čištění používá směsi rozpouštědel, sestávající z
    25 až 40 obj. % chlorovaného uhlovodíku o počtu uhlíkových atomů 1 až 4, odlišného od sloučeniny vzorce
    R - CC13 kde R je vodík, alkyl či halogenovaný alkyl; 25 až 40 obj. % esteru alifatické monokarboxylové kyseliny, jehož kyselina má počet atomů uhlíku 1 až 2 a alkohol má počet atomů uhlíku , až 5;
    10 až 25 obj. % sloučeniny vzorce R - CC13 kde B je vodík, alkyl či halogenovaný alkyl; 10 až 25 obj. % nasyceného alifatického alkoholu o počtu atomů uhlíku 1 až 5 a že ee po čištění a sušení běžným způsobem odstraní poslední zbytky roztoku vakuovým sušením za laboratorní nebo zvýšené teploty, přičemž hodnoty vakua a zvýšené teploty jsou určeny hodnotami, které jsou ještě pro čištěné součástky přípustné.
CS841294A 1984-02-24 1984-02-24 Způsob čiitiní součástek CS252111B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS841294A CS252111B1 (cs) 1984-02-24 1984-02-24 Způsob čiitiní součástek

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS841294A CS252111B1 (cs) 1984-02-24 1984-02-24 Způsob čiitiní součástek

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS129484A1 CS129484A1 (en) 1985-05-15
CS252111B1 true CS252111B1 (cs) 1987-08-13

Family

ID=5346958

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS841294A CS252111B1 (cs) 1984-02-24 1984-02-24 Způsob čiitiní součástek

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS252111B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS129484A1 (en) 1985-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6589355B1 (en) Cleaning processes using hydrofluorocarbon and/or hydrochlorofluorocarbon compounds
EP2683850B1 (en) Azeotropic and azeotrope-like compositions of methyl perfluoroheptene ethers and transdichloroethylene and uses thereof
US5445757A (en) Compositions comprising pentafluorobutane and use of these compositions
JP2961924B2 (ja) 物品の溶剤清浄化方法
US20190136159A1 (en) Butylpyrrolidone based cleaning agent for removal of contaminates from electronic and semiconductor devices
JP3266260B2 (ja) エポキシ製品を洗浄する方法
KR100192681B1 (ko) 이염기 에스테르 및 탄화수소 용매로 구성되는, 인쇄 회로판용 세정 조성물
JPH03243698A (ja) 清浄剤として有用なフルフリルアルコール混合物
JP3323697B2 (ja) オクタメチルトリシロキサンの共沸混合物を含む及び共沸混合物様組成物を含む組成物並びにこの組成物の使用方法
KR100354301B1 (ko) 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매조성물 및 이를 사용한 물품의 청정화 또는 건조방법
US5073291A (en) Novel azeotrope-type solvent mixture of methanol and 1,4-dihydroperfluorobutane and process for cleaning electronic components with the aid of the same
EP2110462B1 (en) Compositions for degreasing metal surfaces
JPH03227400A (ja) ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法
KR100394159B1 (ko) 세정방법및세정장치
CS252111B1 (cs) Způsob čiitiní součástek
CA2044607C (en) Peroxide composition for removing organic contaminants and method of using same
EP0519431B1 (de) Azeotropartiges Gemisch aus Methanol und 1H-Perfluorhexan
JPH05202390A (ja) フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用
JP2901090B2 (ja) 洗浄方法および洗浄装置
JP3246694B2 (ja) 物品の洗浄方法
JPH08302397A (ja) オクタメチルシクロテトラシロキサン共沸様組成物
US4524011A (en) Flux removal solvent blend
JPH05239495A (ja) ペースト用洗浄剤
JPH07204591A (ja) 洗浄システム
JP2916800B2 (ja) ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法