CS252111B1 - Způsob čiitiní součástek - Google Patents
Způsob čiitiní součástek Download PDFInfo
- Publication number
- CS252111B1 CS252111B1 CS841294A CS129484A CS252111B1 CS 252111 B1 CS252111 B1 CS 252111B1 CS 841294 A CS841294 A CS 841294A CS 129484 A CS129484 A CS 129484A CS 252111 B1 CS252111 B1 CS 252111B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- cleaning
- components
- volume
- alkyl
- vol
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims abstract description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical class C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- -1 aliphatic monocarboxylic acid ester Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 abstract description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 description 1
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N pentachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)(Cl)Cl BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A40/00—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production
- Y02A40/10—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production in agriculture
- Y02A40/25—Greenhouse technology, e.g. cooling systems therefor
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
Způsob čištění součástek zejméne
v průmyslu elektroniky a elektrotechniky.
Navržená směs rozpouštědel umožňuje
rychlejší, kvalitativně i kvantitativně
lepší odstranění nečistot s povrchu
součástek, než tomu bylo u dosavadních
způsobů čištění. Je možno pracovat i v parách
směsi rozpouštědel. V případě požadavku
ne dosažení vysokého stupně čistoty
se odstraní poslední zbytky rozpouštědel
i nečistot v nich rozpuštěných za vakue
a zvýšené teploty. Popsaného způsobu
čištění lze použít všude tam, kde se
dosud používalo k čištění rozpouštědel
Description
Vynález řeší zlepšení čištění součástek a jejich souborů, jako. jsou například desky s plošnými spoji, osazená součástkami. Podmínkou dobré funkce všech druhů povrchové ochrany je obecně dostatečné očištění upravovaných součástek před nanášením prostředků povrchové ochrany. Povrchové ochrana se tedy rozpadá na dvě hlavní operace, z nichž prvou operací je čištění a to rozhoduje o kvalitě celé povrchové ochrany. Neexistuje totiž povrchová ochrana, které by byla schopna dobře chránit špatně očištěné desky s plošnými spoji. Jedním ze základních problémů výroby elektronických součástek a zařízení, například součástkami osazených desek s plošnými spoji, jsou výpadky jejich,činnosti, k nimž dochází za jejich provozu. Výpadky jsou důsledkem degradačních procesů, které jsou vyprovokovány zejména vlhkostí s náhlými změnami teploty. Proto je nutno desky s plošnými spoji chránit, což se děje povrchovou ochranou. Čistota desky s plošnými spoji je v moderní elektronice považována za prvořadou podmínku pro dodržení vyhovující kvality povrchové ochrany. Naopak nedostatky v Čistotě desek jsou nejčastější příčinou závad ve funkci desek, o čemž jsou obecně známa vyjádření řady odborníků. Nečistoty, například soli přítomné na povrchu desek s plošnými spoji, reagují s vlhkostí za vzniku elektrolytu.
V ČSSR se ve strojírenství běžně používá odmašťování v parách trichlorethylénu, dnes častěji perchlorethylénu. Dřívější zkoušky autora vynálezu prokázaly, že takové zpracování nedává záruku dobrého vyčištění ani odmaštění, protože nedochází v mnoha případech ani k úplnému smočení povrchu vodou. V elektrotechnice se pak používají postupy, shrnuté v tab 1.
Tabulka. Přehled způsobů čištění desek s plošnými spoji, obvyklých v ČSSR:
Odmaštění v parách trichlorethylénu nebo PK 3000, perchlorethylénu. 0011/001
Ultrazvukem v perchlorethylénu či freonu, PK 3000.
nebo freonu + ethylalkohol. 0014/003
Ponor neb místní odmaštění v a) psrchlor, PK 3000
b) perchlor-freon, c) ethylslkohol-freon. 0012/002
Odmaštování ve směsi freonu 11 a děnatur.
lihu + omytí isopropylalkoholem.
Omytí vodou, destilovanou vodou a isopropylalkoholem.
Kartáčování ethylalkoholem, deneturovaným etherem, čištění v roztoku NaHCO^I emulgátor ..
T + destilovaná voda, oplach vodovodní vodou, oplach destilovanou vodou, ofoukání vzduchem, oplaeh ethylalkoholem, denaturoveným etherem.
Postupy čištění u ostatních výrobců v ČSSR i ve světě se podle dostupných informací podstatně neliší. Nevýhodou současných způsobů čištění desek s plošnými spoji je malá účinnost čištění, takže se toto musí často opakovat, je zdlouhavé a jeho závady jsou nejčastější příčinou závad desek s plošnými spoji. Další nevýhodou stávajících způsobů čištění v oblasti elektroniky je absorpce malých zbytků rozpouštědel s nečistotami v nich obsaženými v laminátu desek s plošnými spoji a nedokonalost odstranění obou těchto eložek.
Podstata vynálezu spočívá v navržení nového způsobu čištění součástek a souborů součástek, jako jsou například desky s tištěnými spoji, osazané součástkami vyznačený tím, že se k čištění používá nově navržené směsi rozpouštědel, sestávající z 25 až 40 obj. % chlorovaného uhlovodíku o počtu uhlíkových atomů 1 a? 4, odlišného od sloučeniny vzorce
R - CC13 kúe R je vodík, alkyl Ci halogenovaný alkyl; 25 až 40 obj. % esteru.alifatické monokarboxylové kyseliny, jehož kyselina má počet atomů uhlíku 1 až 2 a alkohol má počet atomů uhlíku 1 až 5; 10 až 25 obj. % sloučeniny vzorce
R - CC13 kdy R je vodík, alkyl či halogenovaný alkylJ 10 až 25 obj. % nasyceného alifatického alkoholu a počtu atomů uhlíku 1 až 5 a že se po čiSténí a suSení běžným způsobem odstraní poslední zbytky roztoku vakuovým sušením za laboratorní nebo zvýěené teploty, přičemž hodnoty vakua a zvýěené teploty jsou zcela závislé na odolnosti součástek, které jsou čištěny.
Navržená směs rozpouštědel umožňuje rychlejší rozpouštění nečistot a protože zavádí do procesu čištění další vhodné složky, je rozpouštěna i širší paleta nečistot. Prakticky zcela odpadá dříve dosti častá nutnost čištění opakovat. Pokud se směs aplikuje jako odmaštování v parách, pak se mohou uplatnit i azeotropické vlastnosti směsi. Je-li požadována vysoké čistota součástek, umožňuje navržené odstranění posledních zbytků rozpouštědel - včetně nečistot v nich obsažených - za vhodného ještě přípustného vakua a teploty kvalitativně i kvantitativně lepší stupeň vyčištění. Nová je skutečnost, že v tomto případě dochází při sušení nejen k vytékání posledních zbytků rozpouštědel, což je při zahřívání roztoků za vakua*i bez něj zcela běžné, ale že jsou za těchto podmínek, při stávajícím podstatném poklesu koncentrace nečistot, spolu se zbytky rozpouštědel strhávány i poslední zbytky nečistot, což přináší výrazný zlepšující účinek.
Popsaný způsob čištění se používá při čištění desek s plošnými spoji i při čištění jiných součástek v elektronice. Tak byly například s úspěchem aplikovány tyto směsy:
obj. % dichlorethanu 1,2; 25 obj. % methylesteru kyseliny propionové; 10 obj. % pentachlorethanu a 40 obj. % ethylalkoholu - nebo 40 obj. % 1,2 dichlorethanu, 25 obj. % methylesteru kyseliny propionové, 25 obj. % chloroformu e 10 obj. % ethylalkoholu - nebo 25 obj. % 1,2 dichlorethanu, 40 obj. % methylesteru kyseliny propionové, 10 obj. % methylchloroformu a 25 obj. % ethylalkoholu. Čištěno bylo štětečkem. Po odtékání rozpouštědel za laboratorních podmínek bylo sušeno při 50 kPa a 40 °C. Potvrdily se všechny předpoklady, popsané v předcházejících odstavcích. Čištění bylo rychlejší a kvalitnější, než u dříve popsaných postupů, nebylo ho nutno opakovat.
Navrhovaný postup čištění se dá použít v elektrotechnice, v elektronice, ale i všude tam, kde byla až dosud používána k čištění rozpouštědla buč samotná, nebo tato s příměsí dalších látek. Krom strojírenství lze popsaný postup čištění použít i v dalších průmyslových odvětvích, nakonec i v oblasti spotřebního průmyslu a jinde.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZUZpůsob ČiětŠní součástek a souborů součástek, jako jsou například desky s tištěnými spoji, osazené součástkami vyznačené tím, že se k čištění používá směsi rozpouštědel, sestávající z25 až 40 obj. % chlorovaného uhlovodíku o počtu uhlíkových atomů 1 až 4, odlišného od sloučeniny vzorceR - CC13 kde R je vodík, alkyl či halogenovaný alkyl; 25 až 40 obj. % esteru alifatické monokarboxylové kyseliny, jehož kyselina má počet atomů uhlíku 1 až 2 a alkohol má počet atomů uhlíku , až 5;10 až 25 obj. % sloučeniny vzorce R - CC13 kde B je vodík, alkyl či halogenovaný alkyl; 10 až 25 obj. % nasyceného alifatického alkoholu o počtu atomů uhlíku 1 až 5 a že ee po čištění a sušení běžným způsobem odstraní poslední zbytky roztoku vakuovým sušením za laboratorní nebo zvýšené teploty, přičemž hodnoty vakua a zvýšené teploty jsou určeny hodnotami, které jsou ještě pro čištěné součástky přípustné.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS841294A CS252111B1 (cs) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | Způsob čiitiní součástek |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS841294A CS252111B1 (cs) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | Způsob čiitiní součástek |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS129484A1 CS129484A1 (en) | 1985-05-15 |
CS252111B1 true CS252111B1 (cs) | 1987-08-13 |
Family
ID=5346958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS841294A CS252111B1 (cs) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | Způsob čiitiní součástek |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS252111B1 (cs) |
-
1984
- 1984-02-24 CS CS841294A patent/CS252111B1/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS129484A1 (en) | 1985-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6589355B1 (en) | Cleaning processes using hydrofluorocarbon and/or hydrochlorofluorocarbon compounds | |
EP2683850B1 (en) | Azeotropic and azeotrope-like compositions of methyl perfluoroheptene ethers and transdichloroethylene and uses thereof | |
US5445757A (en) | Compositions comprising pentafluorobutane and use of these compositions | |
JP2961924B2 (ja) | 物品の溶剤清浄化方法 | |
US20190136159A1 (en) | Butylpyrrolidone based cleaning agent for removal of contaminates from electronic and semiconductor devices | |
JP3266260B2 (ja) | エポキシ製品を洗浄する方法 | |
KR100192681B1 (ko) | 이염기 에스테르 및 탄화수소 용매로 구성되는, 인쇄 회로판용 세정 조성물 | |
JPH03243698A (ja) | 清浄剤として有用なフルフリルアルコール混合物 | |
JP3323697B2 (ja) | オクタメチルトリシロキサンの共沸混合物を含む及び共沸混合物様組成物を含む組成物並びにこの組成物の使用方法 | |
KR100354301B1 (ko) | 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매조성물 및 이를 사용한 물품의 청정화 또는 건조방법 | |
US5073291A (en) | Novel azeotrope-type solvent mixture of methanol and 1,4-dihydroperfluorobutane and process for cleaning electronic components with the aid of the same | |
EP2110462B1 (en) | Compositions for degreasing metal surfaces | |
JPH03227400A (ja) | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法 | |
KR100394159B1 (ko) | 세정방법및세정장치 | |
CS252111B1 (cs) | Způsob čiitiní součástek | |
CA2044607C (en) | Peroxide composition for removing organic contaminants and method of using same | |
EP0519431B1 (de) | Azeotropartiges Gemisch aus Methanol und 1H-Perfluorhexan | |
JPH05202390A (ja) | フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用 | |
JP2901090B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP3246694B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
JPH08302397A (ja) | オクタメチルシクロテトラシロキサン共沸様組成物 | |
US4524011A (en) | Flux removal solvent blend | |
JPH05239495A (ja) | ペースト用洗浄剤 | |
JPH07204591A (ja) | 洗浄システム | |
JP2916800B2 (ja) | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法 |