CS249651B1 - Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes - Google Patents
Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes Download PDFInfo
- Publication number
- CS249651B1 CS249651B1 CS831568A CS156883A CS249651B1 CS 249651 B1 CS249651 B1 CS 249651B1 CS 831568 A CS831568 A CS 831568A CS 156883 A CS156883 A CS 156883A CS 249651 B1 CS249651 B1 CS 249651B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- anode
- wire
- baths
- galvanizing
- acid
- Prior art date
Links
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title abstract description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title abstract description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 title 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 claims abstract description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 210000000744 eyelid Anatomy 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910000372 mercury(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011686 zinc sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000009529 zinc sulphate Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Zařízeni pro kontinuální elektrolytické zinkování drátu v kyselých lázních spočívá v použití kompaktní nerozpustné anody, situované ležmo pod protahovacimi dráty. Anoda má rovinný nebo profilovaný tvar a je s anodovým rámem spojena v jeden vodivý celek. Je rovněž opatřena výřezy pro únik kyslíku. Toto zařízení umožní podstatné sníženi Šířky galvanizačních van, zlepšeni jejich obsluhy a vyšší využití elektrické energie. Alternativně vytváří podmínky pro zinkování dvojnásobného počtu drátů ve stávajících vanách.Continuous electrolytic equipment galvanizing wire in acid baths the use of compact insoluble anodes, situated underneath the stretching wires. The anode is flat or profiled shape and is connected to the anode frame in one conductive unit. It is also provided with cutouts for oxygen leakage. This device will allow Significant reduction in galvanizing width baths, improving their operation and higher utilization electricity. Alternatively, it creates zinc conditions double the number of wires in the existing one baths.
Description
Vynález se týká zařízení pro kontinuální elektrolytické zinkování drátu v kyselých lázních.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for the continuous electrolytic galvanizing of wire in acid baths.
Při elektrolytickém zinkování drátu v kyselých lázních se zpravidla používá rozpustných zinkových anod, volně postavených na anodový rám nebo uchycených na anodových závěsech, přičemž pokovovaný drát probíhá mezi dvojicí anod. Příklad uspořádání uvádí obr. 1, který znázorňuje příčný řez galvanizační vanou 1, do které zasahuje anodový rám 2, na kterém jsou uloženy anody 3, mezi kterými je protahován drát D.In electrolytic galvanizing of the wire in acid baths, soluble zinc anodes are generally used, freely placed on the anode frame or attached to the anode hinges, with the metallized wire extending between the anode pair. An example of the arrangement is shown in Fig. 1, which shows a cross-section of a galvanizing bath 1 into which an anode frame 2 engages, on which anodes 3 are placed, between which wire D is drawn.
Uvedené zařízení má řadu nevýhod. V průběhu elektrolýzy se v důsledku úbytku anod mění jejich plocha povrchu a vzdálenost od drátu, je zapotřebí provádět průběžnou kontrolu a výměnu anod a odstraňovat odpad anod z anodového rámu, přitom využití anod v důsledku jejioh nerovnoměrného rozpouštění je malé a náklady na povlakový kov jsou vysoké.This device has a number of disadvantages. During electrolysis, their surface area and wire distance change as a result of anode loss, continuous anode inspection and replacement, and anode scrap removal from the anode frame are required, while the use of anodes due to their uneven dissolution is low and coating metal costs are high .
Tyto nevýhody částečně odstraňuje zařízení dle způsobu Tainton, kde jsou místo zinkových anod použity nerozpustné anody a elektrolýzou způsobený úbytek koncentrace Zn SO^ a pokles pH se eliminuje rozpouštěním zinkových odpadů v HgSO^ ve vyluhovaoích vanách a průběžnou cirkulaci elektrolytu mezi vyluhovací a pracovní vanou. Ani ono však neodstraňuje další nedostatky, projevující se jak u konvenčního zařízení, tak i u zařízení dle způsobu Tainton, a to především prostorovou náročnost (šířku) žinkovacích van a vysoké ztráty elektrické energie z titulu přechodového odporu mezi anodovým rámem a jednotlivými anodami a velkého odporu elektrolytu z důvodu poměrně velké vzdálenosti drátu od anod.These drawbacks are partially eliminated by the Tainton process, where insoluble anodes are used instead of zinc anodes and the loss of ZnSO4 concentration caused by electrolysis and the pH drop is eliminated by dissolving zinc waste in HgSO4 in leach baths and continuous electrolyte circulation between the leaching and working tub. However, neither does it eliminate the other drawbacks of both conventional and Tainton devices, namely the spatial demands (width) of the galvanizing tubs and the high electrical losses due to the transient resistance between the anode frame and the individual anodes and the high electrolyte resistance. due to the relatively large distance of the wire from the anodes.
Výše uvedené nedostatky odstraňuje zařízení podle vynálezu. Jeho podstata spočívá v tom, že kladný pól tvoří kompaktní nerozpustná anoda, umístěná pod protahovanými dráty. Anoda je rovinného tvaru nebo s výhodou profilovaná, kde se dosáhne příznivějšího postavení drátu vůči anodě, což u kyselé lázně s typicky malou hloubkovou účinností je zvlášť výhodné ·The above-mentioned drawbacks are overcome by the device according to the invention. It is based on the fact that the positive pole is a compact insoluble anode located under the drawn wires. The anode is of planar shape or preferably profiled where a more favorable position of the wire with respect to the anode is achieved, which is particularly advantageous for an acid bath with typically low depth efficiency.
249 651249 651
Příklady provedení znázorňují obr. 2 a 3, kde jsou uvedeny příčné řezy gaivanizačnimi vanami. Obr. 2 představuje kompaktní nerozpustnou anodu rovinného tvaru 3, opatřenou otvory pro únik kyslíku 4, spojenou v jeden oelek s anodovým rámem 2· Tento komplet je umístěn v pracovní vaně 1 Nad anodou probíhá drát D. Při tomto uspořádání byl pokovoo ván drát 0 2,2 mm, proudová hustota 38,7 A/dm , doba zinkování 131 s. Za těchto podmínek byl vyroben galvanický zinkový povlak o hmotnosti 163 g/m2. Tloušíka povlaku byla po obvodě stejnoměrná.2 and 3 are cross-sectional views of gaivanization tubs. Giant. 2 represents a compact, insoluble anode of planar shape 3, provided with oxygen leakage holes 4, connected in one eyelid to the anode frame 2. mm, the current density of 38.7 A / dm, 131 galvanizing time. Under these conditions, made by galvanic zinc coating of 163 g / m 2. The coating thickness was uniformly circumferential.
Obr. 3 představuje kompaktní profilovanou nerozpustnou anodu 3, opatřenou otvory pro únik kyslíku 4, spojenou v jeden vodivý celek s anodovým rámem 2. Nad anodou probíhá drát D.Giant. 3 shows a compact profiled insoluble anode 3 provided with oxygen leakage holes 4 connected in one conductive unit to the anode frame 2. Wire D extends above the anode.
Zařízení pro elektrolytické zinkování drátu podle tohoto vynálezu umožní podstatné snížení šířky gaivanizačnioh van, zlepšení jejioh obsluhy a větší využití elektrické ener gie. Alternativně vytváří podmínky pro zinkování dvojnásobného počtu drátů ve stávajících vanách.The electrolytic galvanizing device of the present invention will allow for a substantial reduction in the width of the gaivanization tubs, an improvement in its operation, and a greater use of electrical energy. Alternatively, it creates the conditions for zinc double the number of wires in existing tubs.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS831568A CS249651B1 (en) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS831568A CS249651B1 (en) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS156883A1 CS156883A1 (en) | 1984-05-14 |
CS249651B1 true CS249651B1 (en) | 1987-04-16 |
Family
ID=5350382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS831568A CS249651B1 (en) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS249651B1 (en) |
-
1983
- 1983-03-07 CS CS831568A patent/CS249651B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS156883A1 (en) | 1984-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR890005305A (en) | Process of electroplating metal | |
CN210117426U (en) | Continuous electrolysis equipment for reducing copper sulfate concentration in plating solution | |
CN105543948B (en) | It is a kind of for PCB electroplate accompany plating plate/drag cylinder plate move back process for copper | |
CN105780074A (en) | Steel piece cyanide-free copper plating method adopting applied magnetic field | |
US2541721A (en) | Process for replenishing nickel plating electrolyte | |
CN109097792A (en) | A kind of electrolysis unit from low concentration cupric cyanide barren solution recycling copper and cyanide | |
CS249651B1 (en) | Device for wire electrolytic zinc plating in acid bathes | |
US8980068B2 (en) | Nickel pH adjustment method and apparatus | |
CN110528042A (en) | A kind of semiconductor devices electro-plating method and the activated bath for plating | |
US3799850A (en) | Electrolytic process of extracting metallic zinc | |
US2358029A (en) | Process of electrodepositing indium | |
RU2067624C1 (en) | Process of electrolytic extraction of metal from solution containing its ions and gear for its implementation | |
CN210596303U (en) | PCB gold plating groove anode assembly | |
JPH0423000B2 (en) | ||
CN216585279U (en) | Chip circuit board surface coating device | |
CN217556342U (en) | External metal ion electrolysis supplementary device | |
CN113881967B (en) | Impurity removal method for lead electrolyte | |
JPS57116799A (en) | Method for copper plating | |
CN221854817U (en) | Plating tank assembly and mounting mechanism for nickel plating of alkali solution hydrogen production plate | |
CN218203153U (en) | Device for metallographic electrolytic polishing corrosion | |
CN220224399U (en) | Integrated electroplating equipment for deplating and electroplating | |
JPS57158395A (en) | Method and apparatus for preventing plating on back side in electroplating | |
CN213624446U (en) | Precipitation preventing device for chemical nickel plating | |
CN210683451U (en) | Electrogalvanizing waste water recovery processing device | |
FR2371530A1 (en) | PALLADIUM ELECTRODEPOSITION PROCESS |