CS248756B1 - Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje - Google Patents

Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje Download PDF

Info

Publication number
CS248756B1
CS248756B1 CS848768A CS876884A CS248756B1 CS 248756 B1 CS248756 B1 CS 248756B1 CS 848768 A CS848768 A CS 848768A CS 876884 A CS876884 A CS 876884A CS 248756 B1 CS248756 B1 CS 248756B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
printed circuit
circuit board
adhesive layer
forming
laminated dielectric
Prior art date
Application number
CS848768A
Other languages
English (en)
Other versions
CS876884A1 (en
Inventor
Leo Kula
Josef Machovsky
Vladimir Vavroch
Milos Zeman
Jindrich Vilim
Original Assignee
Leo Kula
Josef Machovsky
Vladimir Vavroch
Milos Zeman
Jindrich Vilim
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leo Kula, Josef Machovsky, Vladimir Vavroch, Milos Zeman, Jindrich Vilim filed Critical Leo Kula
Priority to CS848768A priority Critical patent/CS248756B1/cs
Publication of CS876884A1 publication Critical patent/CS876884A1/cs
Publication of CS248756B1 publication Critical patent/CS248756B1/cs

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

Očelem řešení je chemickou vazbou zvýšit adhezi mezi pojivém adhezní vrstvy a vyleptaným motivem plošného spoje v měděné vrstvě na základní sklolaminátové desce při vytvářeni vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje. Zvýšení adheze se dosáhne tím, že se na povrch vyleptaného motivu působí před navalením adhezní vrstvy chemickým oxidačním činidlem při zvýšené teplotě 45 až 95 °C po dobu 20 s až 900 s. Chemické oxidační činidlo je alkalický roztok chloritanu sodného nebo persíranu amonného.

Description

Vynález se týká způsobu vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje, která obecně zahrnuje základní desku například na bázi sklolaminátu jednostranně nebo oboustranně plátovanou měděnou fólií s vyleptaným motivem obvykle pro rozvod napájení a země s jednostranně nebo oboustranně aplikovanou adhezní vrstvou s uloženým propojovacím motivem drátových vodičů.
Technologie plošných drátových spojů jsou vhodné pro realizaci zásuvných a propojovacích desek elektronických zařízení. Principiálně jsou desky vytvářeny souřadnicově řízeným kladením propojovacího motivu izolovaných drátových vodičů do adhezní vrstvy s termosetickým charakterem, která je fixována na základní desce, nesoucí na svém povrchu rozvod napájení a země pro výslednou desku plošného drátového spoje.
Ve výsledné desce plošného drátového spoje, která vznikla slaminováním polotovaru s nakladenými drátovými vodiči, bývá zpravidla její povrch překryt lepicími listy, čímž je zabráněno jejímu snadnému mechanickému poškození. Pro osazování elektronickými součástkami je deska plošného drátového spoje opatřena terminálními body ve formě prokovených otvorů, které zajištují napojení na vnitřní vodivé dráhy desky.
Na stavební prvky elektronických zařízení jsou kladeny stále větší požadavky z hlediska jejich odolnosti vůči klimatickému, tepelnému a mechanickému namáháni. Tato skutečnost se v oblasti konstrukce propojovacích a zásuvných desek odráží v požadavku na dosažení maximální pevnosti skladby jejich vrstveného dielektrika. Nesplnění požadované hodnoty tohoto parametru je mnohdy limitní pro použití desek pro danou aplikaci. Zpravidla pro výslednou pevnost skladby vrstveného dielektrika je limitující rozhraní mezi měděnými vrstvami a polymerním pojivém.
Dosud se pro zvýšeni adheze měděných vrstev k polymernímu pojivu aplikované adhezní vrstvy provádí mechanické nebo chemické zdrsňování mechanickým kartáčováním nebo chemickým zaleptáním např. v lázní na bázi vodného roztoku persíranu amonného, persiranu sodného nebo peroxidu vodíku v kyselém prostředí. Tím je dosaženo mechanického zakotvení polymerního pojivá do povrchu měděné vrstvy. Nevýhodou těchto způsobů je malá adheze polymerního pojivá ke kovové vrstvě, což má za následek nízkou odolnost vůči mechanickému namáhání a vznik zmetkovitosti.
Zlepšení oproti stávajícímu stavu je u desky plošného drátového spoje dosaženo způsobem podle vynálezu. Tento způsob je založen na tom, že pojivo adhezní vrstvy je k povrchu vyleptaného motivu v měděné fólii kotveno jak mechanickými, tak i chemickými vazbami. Tohoto stavu je dosaženo tak, že po mechanickém i chemickém zdrsnění povrchu motivu vyleptaného v měděné fólii naplátované na základní desce je před aplikací adhezní vrstvy působeno chemickým oxidačním činidlem s výhodou alkalickým roztokem chloritanu sodného nebo persiranu amonného, zpravidla za zvýšené teploty 45 až 95 °C po dobu 20 až 900 s. Nové a vyšší účinky tohoto způsobu spočívají v jeho snadné reprodukovatelnosti ve výrobním procesu. Mechanická i chemická vazba mezi pojivém adhezní vrstvy a měděnou vrstvou plošného spoje zvyšují adhezi a tím i odolnost vůči mechanickému namáhání výsledné desky, což se příznivě projevuje v uživatelských parametrech těchto desek a ve výrobních nákladech, spojených s jejich produkcí.
Dále uvedené příklady dokreslují způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje.
Příklad 1
Základní deska s vyleptaným motivem v oboustranně naplátované měděné fólii byla upravena před navalením adhezní vrstvy následujícím způsobem:
- mechanické kartáčování zaleptání povrchu v lázni o složeni:
persíran sodný............. 200 g/1 kyselina sírová konc........5 ml/1, doba expozice 15 až 30 s,
- oxidační působení v lázni o složení:
chloritan sodný 50% ........ 70 g/1 hydroxid sodný .............115 g/1 fosforečnan sodný .......... 10 g/1, pracovní teplota 90 ±5 °C, doba expozice 20 až 40 s, vzhled povrchu mědi je ocelově lesklý, což je optimální stav.
Přiklad 2
Základní deska byla připravena stejným způsobem jako v příkladě 1 s tím rozdílem, že doba expozice v oxidačně působící lázni byla proudloužena na 300 s s výsledným vzhledem povrchu mědi sametově černým. V tomto případě dochází k silné chemické vazbě polymerniho pojivá adhezní vrstvy k měděné vrstvě, což je žádoucí pro dosažení homogenity výsledného dielektrika, avšak adhezní vrstva se při poruše ve výrobním cyklu jen velmi obtížně snímá.
Příklad 3
Základní deska byla připravena stejným způsobem jako v příkladě 1 s tím rozdílem, že doba expozice byla prodloužena na 900 s při teplotě 45 °C, povrch mědi získal ocelově matný vzhled.

Claims (2)

1. Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje, zahrnující základní desku na bázi sklolaminátu jednostranně nebo oboustranně plátovanou měděnou fólií s vyleptanými motivy plošných spojů s navalenou adhezní vrstvou, vyznačený tím, že na povrch vyleptaného motivu v měděné fólii naplátované na základní desce se působí před navalením adhezní vrstvy chemickým oxidačním činidlem za teploty 45 až 95 °C podobu 20 až 900 s.
2. Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje podle bodu 1, vyznačený tím, že chemickým oxidačním činidlem je alkalický roztok chloritanu sodného nebo persíranu amonného.
CS848768A 1984-11-19 1984-11-19 Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje CS248756B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS848768A CS248756B1 (cs) 1984-11-19 1984-11-19 Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS848768A CS248756B1 (cs) 1984-11-19 1984-11-19 Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS876884A1 CS876884A1 (en) 1985-07-16
CS248756B1 true CS248756B1 (cs) 1987-02-12

Family

ID=5438711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS848768A CS248756B1 (cs) 1984-11-19 1984-11-19 Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS248756B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS876884A1 (en) 1985-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0180981B1 (en) A process for the surface treatment of copper products
US4717439A (en) Process for the treatment of copper oxide in the preparation of printed circuit boards
ATE378801T1 (de) Oberflächenbehandelte kupferfolie und ihre herstellung und kupferkaschiertes laminat daraus
DE69824133T2 (de) Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Leiterplatten
TW201217589A (en) Method for manufacturing copper foil for printed circuit board and copper foil for printed circuit board
US6962642B2 (en) Treating copper surfaces for electronic applications
US4421608A (en) Method for stripping peel apart conductive structures
CS248756B1 (cs) Způsob vytvoření skladby vrstveného dielektrika desky plošného drátového spoje
JP2002124762A (ja) 多層プリント配線板の製造方法
JP2003273509A (ja) 配線基板およびその製造方法
JPH02146793A (ja) 印刷回路基板の製造方法
JPH01101697A (ja) フレキシブル印刷配線板の製造方法
KR840001643B1 (ko) 인쇄 회로용 동박(銅箔)
Lin et al. Treatment of Metal Foil
JPS60143693A (ja) 多層配線板の形成法
JPS6312142B2 (cs)
JPS6419795A (en) Flexible printed wiring board with multilayered pattern and manufacture thereof
CN114980573A (zh) 电路板的制作方法、电路板及电子装置
JPH0476783B2 (cs)
JPS62266895A (ja) 耐熱性単層及び多層積層基板の製法
JPH045754B2 (cs)
JPS6083399A (ja) 多層プリント回路板及びその製造方法
JPS6227557B2 (cs)
JPH02241087A (ja) 内層用回路板の銅回路の処理方法
JPS62218124A (ja) 金属と樹脂層との積層体の製造法