CS232871B1 - Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi - Google Patents

Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi Download PDF

Info

Publication number
CS232871B1
CS232871B1 CS1009182A CS1009182A CS232871B1 CS 232871 B1 CS232871 B1 CS 232871B1 CS 1009182 A CS1009182 A CS 1009182A CS 1009182 A CS1009182 A CS 1009182A CS 232871 B1 CS232871 B1 CS 232871B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
metal
copper
metals
cathode
electrolytic bath
Prior art date
Application number
CS1009182A
Other languages
English (en)
Inventor
Jaroslav Drasar
Original Assignee
Jaroslav Drasar
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jaroslav Drasar filed Critical Jaroslav Drasar
Priority to CS1009182A priority Critical patent/CS232871B1/cs
Publication of CS232871B1 publication Critical patent/CS232871B1/cs

Links

Landscapes

  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Abstract

Vynález se týká elektrolytické lázně pro vylučování kovů, zvláště mědi, z roztoků obsahujících povrchově aktivní látky, zpravidla organické přísady, které umožňují získat na katodě kov s hladkým povrchem. Doposud používané povrchově aktivní látky např. thiomočovina nebo sulfitové louhy, však obsahují síru, která zhoršuje kvalitu vylučovaného kovu. Tento nedostatek se odstraňuje použitím alkylfenolu etylenoxidovaného např. monononylaryleteru decietylenglykolu, který neobsahuje síru, takže vyloučený kov má hladký povrch a obsah síry je nižší. Používá se při elektrolytické rafinaci kovů, zejména mědi.

Description

Vynález se týká elektrolytické lázně pro vylučování mědi a řeší získávání katodového kovu s nízkým obsahem síry.
Doposud je známa lázeň pro elektrolytické vylučování kovů, zvláště mědi, z roztoků, která obsahuje organické přísady, zpravidla povrchově aktivní látky, které umožňují získat na katodě vrstvu kovu s hladkým povrchem, Oako povrchově aktivních látek se používá např. thiomočoviny nebo sulfltových louhů, které se kombinují s koloidní látkou zpravidla s klihem nebo želatinou. Běžně používané povrchově aktivní látky přidávané do elektrolytu však obsahují síru, jejíž část přechází do kovu vylučujícího se na katodě a zhoršuje jeho kvalitu.
Uvedený nedostatek odstraňuje elektrolytická lázeň pro vylučování kovů, zvláště mědi, podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že k elektrolytu se přidává povrchově aktivní látka alkylfenol etylenoxidovaný, např. monononylaryleter polyetylenglykolu obecného vzorce
CgHlg <ZZ> 0 .(C2H40)nH, kde n je číslo větší než 8. Tato látka se dávkuje v množství 3 až 50 mg na 1 kg vylučovaného kovu v kombinaci s koloidní látkou, jakou je např. klih nebo želatina, jejichž množství je 50 až 200 mg na 1 kg kovu, Alkylfenol etylenoxidovaný neobsahuje síru, což umožňuje získat na katodě kov s nízkým obsahem síry a s velmi kvalitním hladkým povrchem.
Příklad
Pro vylučování kovu byl použit provozní elektrolyt s obsahem 35 g mědi ma 1 litr a 150 g kyseliny sírové na 1 litr. Hus-2 2 tota proudu na katodě byla 200 A.m , plocha katod 3 dm , rychlost
232 871 cirkulace elektrolytu 0,243 až 0,292 l.min*^. Do nátokové nádrže s elektrolytem se kontinuálně dávkoval v jednom vodném roztoku monononylaryleter decietylenglykolu (j-(10-hydroxipolyetoxy)-4-nonylbenzen] v množství 20 mg na 1 kg vyloučené mědi a klih v množství 150 mg na 1 kg vyloučené mědi. Kov vyloučený na katodě měl hladký povrch a chemickou analýzou byl zjištěn obsah síry menší než 0,0015 %. Napětí na vaně nebylo vyšší než při použití thiomočoviny.
U běžného způsobu elektrolytické rafinace s použitím stávajících organických přísad obsahujících síru (např. thiomočoviny) je obsah síry v katodové mědi vyšší. Norma ČSN 42 3102 a ČSN 42 3103 připouští pro mě3 o čistotě 99,95 a 99,90 % obsah síry až 0,005 %.
Vynálezu lze použít při elektrolytické rafinaci kovů, zejména mědi.

Claims (1)

  1. Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi tvořená síranem měňna, tým, kyselinou sírovou a různými příměsemi, vyznačující se tím, že obsahuje organickou přísadu monononylaryleter decietylen * glykol v množství 3 až 50 mg na 1 kg vyloučeného kovu a klih nebo želatinu v množství 50 až 200 mg na 1 kg vyloučeného kovu.
CS1009182A 1982-12-31 1982-12-31 Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi CS232871B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS1009182A CS232871B1 (cs) 1982-12-31 1982-12-31 Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS1009182A CS232871B1 (cs) 1982-12-31 1982-12-31 Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS232871B1 true CS232871B1 (cs) 1985-02-14

Family

ID=5447911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS1009182A CS232871B1 (cs) 1982-12-31 1982-12-31 Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS232871B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4473448A (en) Electrodeposition of chromium
EP0907767B1 (de) Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen
DE1621180A1 (de) Verfahren und Bad zum galvanischen Abscheiden von Goldueberzuegen
US5730854A (en) Alkoxylated dimercaptans as copper additives and de-polarizing additives
DE4023444C2 (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupfer aus einem wäßrigen, alkalischen, Cyanid-freien Bad, bei dem sowohl eine lösliche als auch eine unlösliche Anode verwendet wird
US4157945A (en) Trivalent chromium plating baths
US4356067A (en) Alkaline plating baths and electroplating process
CS232871B1 (cs) Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi
US4417956A (en) Alkaline plating baths and electroplating process
DE2630980A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung
US3389064A (en) Electrolytic refining of copper and tank house electrolyte useful therein
CA1053174A (en) Bath for the electrodeposition of gold
DE2541304C2 (cs)
US2101580A (en) Process for obtaining bright zinc coating
US4330380A (en) Electrodeposition of sulfur-bearing nickel
US3767539A (en) Acid galvanic copper bath
GB1438554A (en) Electrodeposition of bright nickel-iron or nickel-cobalt-iron deposits
US4511443A (en) Method of thiourea addition to electrolytic solutions useful for copper refining
EP0137776B1 (en) Method of maintaining and testing for proper concentrations of thiourea in copper refining electrolysis cells
US2556635A (en) Electrolytic refining of copper
US1607870A (en) Electrolytic refining of metals
US3520785A (en) Electroplating gold and thiomalate electrolyte therefor
JPH0141717B2 (cs)
SU1696581A1 (ru) Электролит дл гальванического осаждени медного покрыти
US1515042A (en) Electrolyte and composition for forming the same