CS232871B1 - Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi - Google Patents
Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi Download PDFInfo
- Publication number
- CS232871B1 CS232871B1 CS1009182A CS1009182A CS232871B1 CS 232871 B1 CS232871 B1 CS 232871B1 CS 1009182 A CS1009182 A CS 1009182A CS 1009182 A CS1009182 A CS 1009182A CS 232871 B1 CS232871 B1 CS 232871B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- metal
- copper
- metals
- cathode
- electrolytic bath
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
Vynález se týká elektrolytické lázně pro vylučování kovů, zvláště mědi, z roztoků obsahujících povrchově aktivní látky, zpravidla organické přísady, které umožňují získat na katodě kov s hladkým povrchem. Doposud používané povrchově aktivní látky např. thiomočovina nebo sulfitové louhy, však obsahují síru, která zhoršuje kvalitu vylučovaného kovu. Tento nedostatek se odstraňuje použitím alkylfenolu etylenoxidovaného např. monononylaryleteru decietylenglykolu, který neobsahuje síru, takže vyloučený kov má hladký povrch a obsah síry je nižší. Používá se při elektrolytické rafinaci kovů, zejména mědi.
Description
Vynález se týká elektrolytické lázně pro vylučování mědi a řeší získávání katodového kovu s nízkým obsahem síry.
Doposud je známa lázeň pro elektrolytické vylučování kovů, zvláště mědi, z roztoků, která obsahuje organické přísady, zpravidla povrchově aktivní látky, které umožňují získat na katodě vrstvu kovu s hladkým povrchem, Oako povrchově aktivních látek se používá např. thiomočoviny nebo sulfltových louhů, které se kombinují s koloidní látkou zpravidla s klihem nebo želatinou. Běžně používané povrchově aktivní látky přidávané do elektrolytu však obsahují síru, jejíž část přechází do kovu vylučujícího se na katodě a zhoršuje jeho kvalitu.
Uvedený nedostatek odstraňuje elektrolytická lázeň pro vylučování kovů, zvláště mědi, podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že k elektrolytu se přidává povrchově aktivní látka alkylfenol etylenoxidovaný, např. monononylaryleter polyetylenglykolu obecného vzorce
CgHlg <ZZ> 0 .(C2H40)nH, kde n je číslo větší než 8. Tato látka se dávkuje v množství 3 až 50 mg na 1 kg vylučovaného kovu v kombinaci s koloidní látkou, jakou je např. klih nebo želatina, jejichž množství je 50 až 200 mg na 1 kg kovu, Alkylfenol etylenoxidovaný neobsahuje síru, což umožňuje získat na katodě kov s nízkým obsahem síry a s velmi kvalitním hladkým povrchem.
Příklad
Pro vylučování kovu byl použit provozní elektrolyt s obsahem 35 g mědi ma 1 litr a 150 g kyseliny sírové na 1 litr. Hus-2 2 tota proudu na katodě byla 200 A.m , plocha katod 3 dm , rychlost
232 871 cirkulace elektrolytu 0,243 až 0,292 l.min*^. Do nátokové nádrže s elektrolytem se kontinuálně dávkoval v jednom vodném roztoku monononylaryleter decietylenglykolu (j-(10-hydroxipolyetoxy)-4-nonylbenzen] v množství 20 mg na 1 kg vyloučené mědi a klih v množství 150 mg na 1 kg vyloučené mědi. Kov vyloučený na katodě měl hladký povrch a chemickou analýzou byl zjištěn obsah síry menší než 0,0015 %. Napětí na vaně nebylo vyšší než při použití thiomočoviny.
U běžného způsobu elektrolytické rafinace s použitím stávajících organických přísad obsahujících síru (např. thiomočoviny) je obsah síry v katodové mědi vyšší. Norma ČSN 42 3102 a ČSN 42 3103 připouští pro mě3 o čistotě 99,95 a 99,90 % obsah síry až 0,005 %.
Vynálezu lze použít při elektrolytické rafinaci kovů, zejména mědi.
Claims (1)
- Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi tvořená síranem měňna, tým, kyselinou sírovou a různými příměsemi, vyznačující se tím, že obsahuje organickou přísadu monononylaryleter decietylen * glykol v množství 3 až 50 mg na 1 kg vyloučeného kovu a klih nebo želatinu v množství 50 až 200 mg na 1 kg vyloučeného kovu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS1009182A CS232871B1 (cs) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS1009182A CS232871B1 (cs) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS232871B1 true CS232871B1 (cs) | 1985-02-14 |
Family
ID=5447911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS1009182A CS232871B1 (cs) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS232871B1 (cs) |
-
1982
- 1982-12-31 CS CS1009182A patent/CS232871B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4473448A (en) | Electrodeposition of chromium | |
| EP0907767B1 (de) | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen | |
| DE1621180A1 (de) | Verfahren und Bad zum galvanischen Abscheiden von Goldueberzuegen | |
| US5730854A (en) | Alkoxylated dimercaptans as copper additives and de-polarizing additives | |
| DE4023444C2 (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupfer aus einem wäßrigen, alkalischen, Cyanid-freien Bad, bei dem sowohl eine lösliche als auch eine unlösliche Anode verwendet wird | |
| US4157945A (en) | Trivalent chromium plating baths | |
| US4356067A (en) | Alkaline plating baths and electroplating process | |
| CS232871B1 (cs) | Elektrolytická lázeň pro vylučování mědi | |
| US4417956A (en) | Alkaline plating baths and electroplating process | |
| DE2630980A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung | |
| US3389064A (en) | Electrolytic refining of copper and tank house electrolyte useful therein | |
| CA1053174A (en) | Bath for the electrodeposition of gold | |
| DE2541304C2 (cs) | ||
| US2101580A (en) | Process for obtaining bright zinc coating | |
| US4330380A (en) | Electrodeposition of sulfur-bearing nickel | |
| US3767539A (en) | Acid galvanic copper bath | |
| GB1438554A (en) | Electrodeposition of bright nickel-iron or nickel-cobalt-iron deposits | |
| US4511443A (en) | Method of thiourea addition to electrolytic solutions useful for copper refining | |
| EP0137776B1 (en) | Method of maintaining and testing for proper concentrations of thiourea in copper refining electrolysis cells | |
| US2556635A (en) | Electrolytic refining of copper | |
| US1607870A (en) | Electrolytic refining of metals | |
| US3520785A (en) | Electroplating gold and thiomalate electrolyte therefor | |
| JPH0141717B2 (cs) | ||
| SU1696581A1 (ru) | Электролит дл гальванического осаждени медного покрыти | |
| US1515042A (en) | Electrolyte and composition for forming the same |