SU1696581A1 - Электролит дл гальванического осаждени медного покрыти - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к гальванотехнике , в частности к сернокислым электролитам меднени , и может быть использовано Изобретение относитс  к гальванотехнике , в частности к сернокислым электролитам меднени , и может быть использовано, при изготовлении функциональных провод щих медных покрытий гибридных интегральных микросхем. Цель изобретени  - получение покрытий с высоким классом чистоты поверхности при низких плотност х тока. Согласно изобретению электролит содержит , г/л: сернокислую медь 100 - 250; серную кислоту 70 - 250; парамолибдат или паравольфрамат аммони  5 - 20. В качестве окислител , который переводит осаждаемую на катоде медь в одновалентное состо ние (не достига  двухвалентного состо ни ), используетс  парамолибдат или паравольфрамат аммони . Введение одной из этих добавок обеспечивает получение блест щих осадков меди при плотност х тока 0,1 - 0,1 А/дм2 без какого-либо наблюдапри изготовлении функциональных провод щих медных покрытий гибридных интегральных микросхем. Целью изобретени   вл етс  получение покрытий с высоким классом чистоты поверхности при низких плотност х тока. Электролит дл  гальванического осаждени  медного покрыти  содержит, г/л: сернокислую медь 100 - 250, серную кислоту 70 - 250, парамолибдат или паравольфрамат аммони  5 - 20. Введение в состав электролита в качестве окислител  парамолибдата или паравольфрамата аммони  способствует осаждению покрытий со средней высотой микронеровностей 0,079 - 0,065 (г12 ) при низких плотност х тока 0,Я - 1 А/дм без локального растворени  меди.2 табл. емого локального подтравливани  покрыти . Снижение концентрации парамолибдата или паравольфрамата аммони  ниже 5 г/л существенно уменьшает блеск и мало устран ет шероховатость покрыти . Напротив , увеличение концентрации названных добавок выше 20 г/л приводит к малой их устойчивости в растворе (образование молибденовой сини дл  парамолибдата). Это св зано с тем, что с ростом концентрации парамолибдата в растворе требуетс  повышенна  концентраци  серной кислоты. Однако ее предел ограничен высаливающим эффектом сульфат-иона, снижающего растворимость медного купороса. В табл. 1 приведены данные о химическом составе электролита. Примеры практического испытани  предлагаемого и известного электролитов приведены в табл. 2. w Ј о о о ел 00

Description

Осаждение меди производитс  в диапазоне плотностей тока 0,1-8 А/дм2. Чистота поверхности оцениваетс  с помощью профилограф профилометра Калибр-201. Коэффициент бокового разрастани  оцени- ваетс  с помощью микроскопа БИОЛАМ-М и МИС-11. Состо ние поверхности (внешний вид) оцениваетс  с помощью микроскопа МБС-9. Дл  приготовлени  электролита используютс  компоненты марки Ч и ХЧ вода-деионизованна .

Медное покрытие толщиной не мене 15 мкм осаждаетс  на образцы из ситалла (бо- росиликатное стекло 60 х 48 мм чистотой поверхности 4 с предварительно нанесен- ной вакуумно-плавленным методом плен- кой меди толщиной 1 мкм),

Исход  из данных табл. 2, наличие в составе электролита добавок парамолибда- та или паравольфрамата аммони  дает воз-

можность получать осадки меди с высоким, классом чистоты поверхности v 12 - -14 в,

широком диапазоне плотностей тока 0,1-8 А/дм , низким коэффициентом бокового разрастани  0,21 - 0,41, без увеличени  удельного сопротивлени  и без следов локального растворени  меди при низких (0,1 - 1 А/дм2) плотност х тока.

Claims (1)

1. Формула изобретени  Электролит дл  гальванического осаждени  медного покрыти , содержащий сернокислую медь, серную кислоту и окислитель, о т- личающийс  тем, что, с целью получени  покрытий с высоким классом чистоты поверхности при низких плотност х тока, он в качестве окислител  содержит парамолибдат или паравольфрамат при следующем содержании компонентов, г/л; сернокисла  медь 100 - 250; серна  кислота 70 -250; парамолибдат или паравольфрамат аммони  5-20.

   Та бл и ца1

   Таблица