CS215696B1 - Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev - Google Patents

Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev Download PDF

Info

Publication number
CS215696B1
CS215696B1 CS732480A CS732480A CS215696B1 CS 215696 B1 CS215696 B1 CS 215696B1 CS 732480 A CS732480 A CS 732480A CS 732480 A CS732480 A CS 732480A CS 215696 B1 CS215696 B1 CS 215696B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
acid
bath
layers
thin layers
choice
Prior art date
Application number
CS732480A
Other languages
English (en)
Inventor
Eva Haskova
Original Assignee
Eva Haskova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eva Haskova filed Critical Eva Haskova
Priority to CS732480A priority Critical patent/CS215696B1/cs
Publication of CS215696B1 publication Critical patent/CS215696B1/cs

Links

Landscapes

  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev kovových i nekovových, nanesených různými způsoby na podklady skleněné,keramická,z plastických hmot, popř. kovové,se vyznačuje tím,že je tvořena roztokem silné kyseliny s přídavkem fluoridu s rozpustnoátí ve vodě a menSí,než 50 g/dm .Uvedeným podmínkám vyhovují CaFg,MgF^,SrFg,PbF^,FeFj,BaF^, LiF,AlFj ,JínF2 , ZnFg ,NaF ,CdFg , v kombinaci s běžnými silnými kyselinami, jako je HC1, H^SO^, HNOppopř. jiné,přičemž výběr kyseliny se řídí druhem podkladu.Účinnost lázně může být regulována výběrem fluoridu, výběrem kyseliny,zředěním kyseliny a teplotou lázně. Jsou uvedeny příklady snímání tenkých vrstev,složených střídavě z vrstev MgFg a TiOg, používaných v bižuterním průmyslu ke zdobení šatonů a tvarových kamenů a selektivního smývání těchto vrstev ze Satonů,opatřených na druhé straně vrstvou simili (Ag).

Description

Vynález se týká kyselé lázně s přísadou k odstranění tenkých vrstev.nanesených vakuovým naparováním,katodovým napraSováním nebo jiným způsobem na různé druhy podkladů,zvláště skleněné,keramické,z plastických hmot,popř. i kovové, a týká se kyselé lázně s přísadou k odstranění těchto vrstev.
Tenké vrstvy, nanesené na různé podklady, se široce využívají v optickém a bižuterním průmyslu, průmyslu užitkového skla a v elektrotechnice.Jejich chemické složení je velmi různé, od vrstev čistě kovových,jako je Au,Ag, Cr, Ni, nebo slitin různých kovů, přes tenké vrstvy kysličníkové až k vrstvám dichroickým,složeným např. ze střídavě nanášených vrstev MgF2 a TiOg, event. SiO2· Všechny tyto tenké vrstvy se vyznačují vysokou adhezi k podkladu a v případě potřeby jsou velmi obtížně odstranitelné. Je možné je částečně nebo úplně odstranit mechanicky,ovšem mechanické způsoby mohou poškodit /
podklad, což je nežádoucí. Z chemických způsobů odstraňování tenkých vrstev je znám způsob, který doporučuje k odstranění, tenkých vrstev ze skleněných podkladů kyselé 1 roztoky, obsahující jodid draselný nebo chlorid měánatý,případně s přídavkem kyseliny chlorovodíkové, zahřáté na teplotu 55 až 85°C. Těmito roztoky je možné odstranit tenké vrstvy kovové,kysličníkové i jiné ze skleněného podkladu, aniž by došlo k poškození optických vlastností podkladového skla. Nevýhodou uvedeného známého způsobu je to, že smývání tenkých vrstev, zvláště složených ze střídavě nanášených vrstev MgF2 a TiO2, široce používaných v bižutemím průmyslu, je časově velmi náročné, trvá desítky hodin a v některých případech nelze úplného odstranění tenkých vrstev dosáhnout vůbec.Výše uvedený nedostatek je odstraněn kyselou lázní s přísadou k odstranění tenkých vrstev dle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom,že lázeň je tvořena roztokem silné kyseliny a přísada j® fluorid s rozpustností ve vodě menší, než 50 g/dmP.
Uvedená kyselá lázeň s přísadou smívé tenké vrstvy z podkladu v době kratší,než 5 hod. bez poškození podkladu. Lázeň s koncentrací kyseliny menší, než IN 's přísadou smývá tenké vrstvy různých druhů, nanesené vedle sebe, selektivně.
Eůsobení lázně na tenké vrstvy spočívá pravděpodobně v tom, že v kyselém prostředí se z rozpuštěného podílu fluoridu uvolňují postupně ionty F“ v nepatrné koncentraci, které působí na materiál tenkých vrstev, přičemž koncentrace iontů F” není dostatečná na to, aby působily i na podklad a tím jej poškodily. *
Jako kyselou lázeň lze použít roztoky běžných kyselin, jako IIC1, HgSO^, IíMC^ pOpji i jiné a to ve všech koncentrcíoh. Výběr kyseliny se řídí jejím působením na podklad, pro podklad skleněný je nejvhodnější HC1. Přísadou do lázně je fluorid s rozpustností ve vodě menší, než 50 g/dm^, kterých je celá řada a podle své rozpustnosti vytváří posloupnost CaFg, MgF2 SrF2, PbF2, FeF^, BaF2, LiF, AlF^, MnFg, ZnF2,NaF, CdF.,. Množství přídavku do lázně není rozhodující. Z běžně dostupných fluoridů je nejvhodnější CaF2
NaF. Lázeň působí na tenké vrstvy už za pokojové teploty, ale každé zvýšení teploty vede ke zvýšení rychlosti smývání tenkých vrstev. Účinky lázně jsou též ovlivnitelné různými kombinacemi použitého fluoridu, použité kyseliny a její koncentrace. Jako nejrasantnější činidlo se jeví NaF v kombinaci s koncentrovanými kyselinami HG1, H2S0^ nebo
ΗΝΟβ, nejjemnějšího.působení lze dosáhnout pomocí CaF2 s silně zředěných kyselin .
( 0,5 až 1N) . Doba smývání je závislé na kvalitě nanesených vrstev, ve srovnání se zmíněným známým způsobem se však zkracuje lOx.Jsou-li na podkladě naneseny dva druhy vrstev, jako např. u bižuterních kamenů, které bývají opatřeny tenkými vrstvami MgF2 a TiO2 (dekor Titania) a z druhé strany similizovány ( vrstva Ag, pokryté vrstvou bronzu nebo hliníku a navrch ochráněná lakem ), lze při použití velmi zředěných kyselin snímat tyto dekory selektivně, tzn. že similizováné část zůstane zachována a tenkovrstvová úprava Titania se odstraní.
Příklad 1 •Šatony, jejichž špičková strana je upravena similizováním (vrstva Ag)e tabulková strana dekorem Titania ( tenké vrstvy MgF2 a TiO2 ) byly omývány v lázni.tvořené kyselinou chlorovodíkovou, zředěnou vodou v poměru 1 : 1 s přídavkem fluoridu vápenatého při teplotě 70° G. Všechny použité šatony byly za daných podmínek zcela zbaveny všech dekorů za 75 min. bez poškození podkladového skla.
Příklad 2
Šatony, dekorované jako v příkladě 1 byly omývány v roztoku HC1 0,5 N s přídavkem NaF při pokojové teplotě.Dekor Titania byl smyt během 30 min, vrstva simili (Ag) a podkladové sklo zůstaly neporušené.
Kyselé lázně s přísadou dle vynálezu mohou být použity pro odstraňování tenkých vrstev typu MgFg a TiO2 , používaných jako dekorů bižuterních kamenů a s velkou pravděpodobností mohou být užity i pro jiné typy tenkých vrstev a to pro vrstvy kovové ( Ag, AI a pod) a kysličníkové na podkladech skleněných, keramických z plastických hmot i kovových. Účinnost lázní · přísadou může být regulována výběrem základní kyseliny, jejím zředěním, výběrem fluoridu a do značné míry teplotou použité lázně.

Claims (1)

  1. Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev, vyznačující se tím, že je tvořena *3 roztokea silné kyseliny s přídavkem fluoridu s rozpustností ve vodě menší než 50g/dm .
CS732480A 1980-10-30 1980-10-30 Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev CS215696B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS732480A CS215696B1 (cs) 1980-10-30 1980-10-30 Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS732480A CS215696B1 (cs) 1980-10-30 1980-10-30 Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS215696B1 true CS215696B1 (cs) 1982-09-15

Family

ID=5422175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS732480A CS215696B1 (cs) 1980-10-30 1980-10-30 Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS215696B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5017267A (en) Composition and method for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces
US4957653A (en) Composition containing alkane sulfonic acid and ferric nitrate for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces, and method for stripping tin or tin-lead alloy
WO1997047786A1 (en) Composition for cleaning silver or copper
JP5733671B2 (ja) アルミニウムのための前処理プロセス及びそれに用いられる高エッチング洗浄剤
EP0575244A1 (fr) Procédé de traitement de substrats à base d'aluminium en vue de leur anodisation, bain mis en oeuvre dans ce procédé et concentré pour préparer le bain
US5707465A (en) Low temperature corrosion resistant aluminum and aluminum coating composition
US2213263A (en) Process of coating metals
JPS645110B2 (cs)
US20030116441A1 (en) Prevention of marine encrustation on bronze propellers
CS215696B1 (cs) Kyselá lázeň s přísadou k odstraňování tenkých vrstev
US3791940A (en) Process for sealing anodized aluminum
US6270842B1 (en) Method of galvanizing with molten zinc-aluminum alloy
CA2090349C (en) Composition and method for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces
CN112608034B (zh) 一种表面呈树叶状玻璃的加工方法
US2836526A (en) Aluminum surfacing
US3849208A (en) White, opaque conversion coating on aluminum
US20040115448A1 (en) Corrosion resistant magnesium and magnesium alloy and method of producing same
US2475945A (en) Method of chemically coating metallic articles of aluminum or predominantly of aluminm and solution for use therein
KR100484511B1 (ko) 불투명 판유리의 제조방법 및 그의 제조를 위한 부식액조성물
KR920006044B1 (ko) 표면처리 조성물
US3473970A (en) Patina finish on cupreous surfaces
JPS6030754B2 (ja) クロムめつきの光輝化方法
JP2000129470A (ja) パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液
JPH05171460A (ja) 表面処理アルミニウム材及びその処理法
KR100496674B1 (ko) 알루미늄 또는 알루미늄합금의 표면처리용액 및 이에 의해표면처리된 알루미늄 및 알루미늄합금