CS206087B1 - Vykrývací a korekturní lak - Google Patents

Vykrývací a korekturní lak Download PDF

Info

Publication number
CS206087B1
CS206087B1 CS524579A CS524579A CS206087B1 CS 206087 B1 CS206087 B1 CS 206087B1 CS 524579 A CS524579 A CS 524579A CS 524579 A CS524579 A CS 524579A CS 206087 B1 CS206087 B1 CS 206087B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
lacquer
solution
water
etching
correction
Prior art date
Application number
CS524579A
Other languages
English (en)
Inventor
Zdenek Jelinek
Jitka Vaclavkova
Jaroslav Sotola
Bohumil Povolny
Original Assignee
Zdenek Jelinek
Jitka Vaclavkova
Jaroslav Sotola
Bohumil Povolny
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Jelinek, Jitka Vaclavkova, Jaroslav Sotola, Bohumil Povolny filed Critical Zdenek Jelinek
Priority to CS524579A priority Critical patent/CS206087B1/cs
Publication of CS206087B1 publication Critical patent/CS206087B1/cs

Links

Landscapes

  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

Vynález še týká nového vykrývacího a korekťurního laku pro ochranu povrchu před působením leptacího roztoku, zejména pro přípravu tiskových forem hlubotiskových, ofsetových a knihtiskových.
V současné době se pro vykrývání hlubotiskových kopií před leptacím procesem používá roztoku bitumenu v toluenu a xylenu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku chloridu železitého k povrchu leptaného hlubotiskového válce v místech, která nemají být leptána. Po ukončení leptacího procesu se lak z hlubotiskové formy odstraňuje smýváním pomocí toluenu a xylenu. Tyto látky přecházejí přitom do odpadních vod, z nichž jsou oddělovány ve speciálních jímkách. Kromě toho se pro vykrývání hlubotiskových kopií v zahraničí používá a u nás je navrhován vodný roztok polyvinylpyrolidonu. Tento lak se po vyleptání hlubotiskové formy odstraňuje proudem vody.
Pro přípravu ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách se pro vykrývání ofsetových kopií před leptáním používá roztoku polyvinylaeetátu v etanolu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku (směs nasycených roztoků chloridů zinečnatého a vápenátého a kyseliny chlorovodíkové) k povrchu leptané ofsetové desky v místech, která nemají být leptána. Po ukončení leptacího procesu se lak z ofsetové formy odstraňuje proudem vody a mechanicky. Lak vytváří nerozpustné klky, které je třeba odstraňovat, aby nedošlo k ucpání odpadního potrubí. ___
Pro přípravu knihtiskových forem se pro korekturu a vykrývání připravené kopie před leptacím procesem používá roztoku šelaku v etanolu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku (zředěná kyselina dusičná a povrchově aktivní látky) k povrchu leptaného štočku v místech, která nemají být leptána. Po ukončení procesu se vrstva laku odstraňuje z povrchu štočku oplachem ve vodovém roztoku hydroxidu sodného.
Nevýhody používaných laků spočívají v tom, že uvedené vykrývací laky jsou ve většině případů ve vodě nerozpustné a z tiskových forem je třeba je odstraňovat buď zdravotně nevyhovujícími rozpustidly, nebo mechanicky ve vodném prostředí. V o.bou případech vzniká nezbytnost odstraňovat je z vody, aby nedošlo buď k nežádoucímu úniku organických rozpustidel do odpadových vod nebo k zanesení odpadového potrubí. Organická rozpustidla kromě toho vyžadují dodržení bezpečnostních předpisů platných pro hořlaviny
'20608.7. ΐ
I. a II. třídy Póly vinyípyrolidonový lak a lak šelakový využívají složek, které nejsou tuzemskěBo původu.1 Výše uvedené nedostatky nemá vykrývací a korekturní lak podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom,} že sestává z 5 až 80 % kondenzačního produktu fenolu,, krezolu, xylenolu, ťezorcinu, pyrokatechinu a jejich! homologů s formaldehydem, 20 až 95% etanolu a případně z 0,5 až 3% indikačního barviva. Tento lak je; po nanesení a zaschnutí ve vodě zcela nerozpustný a dokonale chrání vykrytá místa před působením kyselých; leptacích roztoků. - . . ί
Odstraňování laku z tiskové formy je dosahováno působením vodného roztoku hydroxidu alkalického; kovu o koncentraci 0,5 až 10%, s přísadou 1 až 20% denaturovaného etanolu. Tim vznikne podobně jákoj d fenolátů produkt rdžpůsíňý ve vodě. Přitom volné OH-skupiny kondenzačního produktu R—OH (kde Ř je fenol, krezol, xylenol, rezorcin, pyrokatechin a jejich homology ve formě kondenzátu s formaldehydem^ reagují podle rovnice
R—OH + H—O“ R—O“ + H2O
V alkalickém prostředí je rovnováha v rovnici posunována převážně na pravou stranu. ;
Výhody navrhovaného laku spočívají v tom, že se odstraní používání s vodou'nemísitelných organických) rozpouštědel a tím jejich obtížné oddělování z odpadních vod, zjednoduší se čištěnj odpadních vod a odstraní se zanášení odpadních potrubí. Zvýší se bezpečnost a hygiena práce., Znečištění'odpadních vod produkty vznikajícími při působení alkoholického roztoku hydroxidu alkalického kovu je zanedbatelné.
.λLak se připraví rozpuštěním potřebného, množství uvedených kondenzačních produktů a vhodného; líbarviva v etanolu za varu pod zpětným chladí^nr, , . ~ i
Vymývací roztok se připraví rozpuštěním potřebného množství hydroxidu alkalického kovu ve vodě. Lak se na tiskovou desku nanáší pomocí štětce nebo jiného kreslícího prostředku. Po ukončení leptacího procesu se lak z povrchu tiskové formy odstraní ponořením dó smývacího roztoku nebo pomocí tamponu namočeného do roztoku. Po odstranění laku následuje oplach vodou.
Příklad 1: · I — vykrývací lak: smísí se
600 ml denaturovaného etanolu,
400 g kondenzačního produktu fenolu, krezolu, xylenolu, rezorcinu, pyrokatechinu a jejich homologů.
s formaldehydem a g barviva (zásaditá modř B ze skupiny fuchsinu obsahujícícho naftalénové jádro);
- vykrývací lak:
smísí se .
600 ml denaturovaného etanolu,
400 g kondenzačního produktu fenolu, krezolu, xylenolu, rezorcinu, pyrokatechinu a jejich homologů s formaldehydem, zbavených nadbytku volného fenolu a g barviva (zásaditá modř B ze skupiny fuchsinu obsahujícího naftalénové jádro);
Příklad 2 ’
- smývací roztok: r smísí se
5-50 g hydroxidu sodného a :
1000 ml vody;
— smývací roztok: · smísí se
5-50 hydroxidu sodného,
800 ml vody a
200 ml denaturovaného etanolu.
Využití vykrývacího a korekturního laku podle vynálezu je možné v oblasti hlubotisku, ofsetu, knihtisku' při přípravě tiskových forem. Mimo oblast polygrafie u všech leptacích procesů s kyselými vodnými leptacími roztoky (elektronika, spoje). Nahrazuje až dosud používané přípravky, které vytvářejí_na povrchu leptaných desek filmy vesměs nerozpustné ve vodě. Odstraňování těchto filmů komplikuje procesy, přípravy tiskových fórem a často i způsob čištění, odpadních vod. Navrhovaný lak lze z povrchu desek odstranit jednoduše rozpuštěním ve vodném roztoku alkalického hydroxidu.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU 'ί 206 087 í Vykrývací a korekturní lak pro ochranu povrchů před působením léptacího roztoku, zejména pro výrobu hlubotiskové ofsetové a knihtiskové formy, vyznačený tím, že sestává z 5 až 80 % kondenzačního produktu fenolů, krezolu, xylenolu, resorcinu, pyrokatechinonu a jejich homologů s formaldehydem, 20 až 95 % etanolu apřípadně z 0,5až 3% indikačníhobarviva,__________ '
CS524579A 1979-07-27 1979-07-27 Vykrývací a korekturní lak CS206087B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS524579A CS206087B1 (cs) 1979-07-27 1979-07-27 Vykrývací a korekturní lak

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS524579A CS206087B1 (cs) 1979-07-27 1979-07-27 Vykrývací a korekturní lak

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS206087B1 true CS206087B1 (cs) 1981-06-30

Family

ID=5396965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS524579A CS206087B1 (cs) 1979-07-27 1979-07-27 Vykrývací a korekturní lak

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS206087B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3669660A (en) Lithographic plate developing composition and process of use thereof
DE865860C (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion
US3300309A (en) Moisture-resistant planographic plates and methods of producing same
DE2147947C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE3856553T2 (de) Wärmebehandlungsverfahren zum Erleichtern der Entfernung eines positiven Photoresists mit Entschichtungslösungen
DE1422474A1 (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
GB1604170A (en) Water developable lithographic printing plate
DE1124817B (de) Kopierschichten fuer Druckformen aus Naphthochinon-(1, 2)-diazidsulfonsaeureestern
DE1114705C2 (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
GB1586586A (en) Photoresist materials
JPS5647041A (en) Production of positive type photosensitive lithographic printing plate
CA1164723A (en) Process for heating printing plates
JPH0141974B2 (cs)
DE1200133B (de) Verfahren zum Entwickeln von Flachdruckformen
US3406065A (en) Process for the reversal development of reproduction coatings containing o-naphthoquinone diazide compounds
CS206087B1 (cs) Vykrývací a korekturní lak
US3201241A (en) Developer for diazo-type printing plates and the use thereof
DE1053930B (de) Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege
FI59755C (fi) Foerfarande foer avlaegsnandet av ett skikt fraon en yta vilket skikt aer ett material innehaollande polyvinylalkohol och en i foerfarandet anvaendbar komposition
US4517275A (en) Light-sensitive mixture based on O-naphthoquinone-diazides, and light-sensitive copying material prepared therefrom
DE1572068A1 (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
US3199981A (en) Light sensitive layers
JPS5498613A (en) Photosensitive composition
FR2452731B1 (cs)
EP0436617B1 (en) Baking treatment of lithographic printing plate