CS206087B1 - Vykrývací a korekturní lak - Google Patents
Vykrývací a korekturní lak Download PDFInfo
- Publication number
- CS206087B1 CS206087B1 CS524579A CS524579A CS206087B1 CS 206087 B1 CS206087 B1 CS 206087B1 CS 524579 A CS524579 A CS 524579A CS 524579 A CS524579 A CS 524579A CS 206087 B1 CS206087 B1 CS 206087B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- lacquer
- solution
- water
- etching
- correction
- Prior art date
Links
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 5
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 claims description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 claims 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 6
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940075894 denatured ethanol Drugs 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 125000002256 xylenyl group Chemical group C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 3
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical group Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 2
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 2
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 2
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000004707 phenolate Chemical class 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
Vynález še týká nového vykrývacího a korekťurního laku pro ochranu povrchu před působením leptacího roztoku, zejména pro přípravu tiskových forem hlubotiskových, ofsetových a knihtiskových.
V současné době se pro vykrývání hlubotiskových kopií před leptacím procesem používá roztoku bitumenu v toluenu a xylenu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku chloridu železitého k povrchu leptaného hlubotiskového válce v místech, která nemají být leptána. Po ukončení leptacího procesu se lak z hlubotiskové formy odstraňuje smýváním pomocí toluenu a xylenu. Tyto látky přecházejí přitom do odpadních vod, z nichž jsou oddělovány ve speciálních jímkách. Kromě toho se pro vykrývání hlubotiskových kopií v zahraničí používá a u nás je navrhován vodný roztok polyvinylpyrolidonu. Tento lak se po vyleptání hlubotiskové formy odstraňuje proudem vody.
Pro přípravu ofsetových tiskových forem na vícekovových podložkách se pro vykrývání ofsetových kopií před leptáním používá roztoku polyvinylaeetátu v etanolu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku (směs nasycených roztoků chloridů zinečnatého a vápenátého a kyseliny chlorovodíkové) k povrchu leptané ofsetové desky v místech, která nemají být leptána. Po ukončení leptacího procesu se lak z ofsetové formy odstraňuje proudem vody a mechanicky. Lak vytváří nerozpustné klky, které je třeba odstraňovat, aby nedošlo k ucpání odpadního potrubí. ___
Pro přípravu knihtiskových forem se pro korekturu a vykrývání připravené kopie před leptacím procesem používá roztoku šelaku v etanolu. Lak slouží k zamezení přístupu leptacího roztoku (zředěná kyselina dusičná a povrchově aktivní látky) k povrchu leptaného štočku v místech, která nemají být leptána. Po ukončení procesu se vrstva laku odstraňuje z povrchu štočku oplachem ve vodovém roztoku hydroxidu sodného.
Nevýhody používaných laků spočívají v tom, že uvedené vykrývací laky jsou ve většině případů ve vodě nerozpustné a z tiskových forem je třeba je odstraňovat buď zdravotně nevyhovujícími rozpustidly, nebo mechanicky ve vodném prostředí. V o.bou případech vzniká nezbytnost odstraňovat je z vody, aby nedošlo buď k nežádoucímu úniku organických rozpustidel do odpadových vod nebo k zanesení odpadového potrubí. Organická rozpustidla kromě toho vyžadují dodržení bezpečnostních předpisů platných pro hořlaviny
'20608.7. ΐ
I. a II. třídy Póly vinyípyrolidonový lak a lak šelakový využívají složek, které nejsou tuzemskěBo původu.1 Výše uvedené nedostatky nemá vykrývací a korekturní lak podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom,} že sestává z 5 až 80 % kondenzačního produktu fenolu,, krezolu, xylenolu, ťezorcinu, pyrokatechinu a jejich! homologů s formaldehydem, 20 až 95% etanolu a případně z 0,5 až 3% indikačního barviva. Tento lak je; po nanesení a zaschnutí ve vodě zcela nerozpustný a dokonale chrání vykrytá místa před působením kyselých; leptacích roztoků. - . . ί
Odstraňování laku z tiskové formy je dosahováno působením vodného roztoku hydroxidu alkalického; kovu o koncentraci 0,5 až 10%, s přísadou 1 až 20% denaturovaného etanolu. Tim vznikne podobně jákoj d fenolátů produkt rdžpůsíňý ve vodě. Přitom volné OH-skupiny kondenzačního produktu R—OH (kde Ř je fenol, krezol, xylenol, rezorcin, pyrokatechin a jejich homology ve formě kondenzátu s formaldehydem^ reagují podle rovnice
R—OH + H—O“ R—O“ + H2O
V alkalickém prostředí je rovnováha v rovnici posunována převážně na pravou stranu. ;
Výhody navrhovaného laku spočívají v tom, že se odstraní používání s vodou'nemísitelných organických) rozpouštědel a tím jejich obtížné oddělování z odpadních vod, zjednoduší se čištěnj odpadních vod a odstraní se zanášení odpadních potrubí. Zvýší se bezpečnost a hygiena práce., Znečištění'odpadních vod produkty vznikajícími při působení alkoholického roztoku hydroxidu alkalického kovu je zanedbatelné.
.λLak se připraví rozpuštěním potřebného, množství uvedených kondenzačních produktů a vhodného; líbarviva v etanolu za varu pod zpětným chladí^nr, , . ~ i
Vymývací roztok se připraví rozpuštěním potřebného množství hydroxidu alkalického kovu ve vodě. Lak se na tiskovou desku nanáší pomocí štětce nebo jiného kreslícího prostředku. Po ukončení leptacího procesu se lak z povrchu tiskové formy odstraní ponořením dó smývacího roztoku nebo pomocí tamponu namočeného do roztoku. Po odstranění laku následuje oplach vodou.
Příklad 1: · I — vykrývací lak: smísí se
600 ml denaturovaného etanolu,
400 g kondenzačního produktu fenolu, krezolu, xylenolu, rezorcinu, pyrokatechinu a jejich homologů.
s formaldehydem a g barviva (zásaditá modř B ze skupiny fuchsinu obsahujícícho naftalénové jádro);
- vykrývací lak:
smísí se .
600 ml denaturovaného etanolu,
400 g kondenzačního produktu fenolu, krezolu, xylenolu, rezorcinu, pyrokatechinu a jejich homologů s formaldehydem, zbavených nadbytku volného fenolu a g barviva (zásaditá modř B ze skupiny fuchsinu obsahujícího naftalénové jádro);
Příklad 2 ’
- smývací roztok: r smísí se
5-50 g hydroxidu sodného a :
1000 ml vody;
— smývací roztok: · smísí se
5-50 hydroxidu sodného,
800 ml vody a
200 ml denaturovaného etanolu.
Využití vykrývacího a korekturního laku podle vynálezu je možné v oblasti hlubotisku, ofsetu, knihtisku' při přípravě tiskových forem. Mimo oblast polygrafie u všech leptacích procesů s kyselými vodnými leptacími roztoky (elektronika, spoje). Nahrazuje až dosud používané přípravky, které vytvářejí_na povrchu leptaných desek filmy vesměs nerozpustné ve vodě. Odstraňování těchto filmů komplikuje procesy, přípravy tiskových fórem a často i způsob čištění, odpadních vod. Navrhovaný lak lze z povrchu desek odstranit jednoduše rozpuštěním ve vodném roztoku alkalického hydroxidu.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU 'ί 206 087 í Vykrývací a korekturní lak pro ochranu povrchů před působením léptacího roztoku, zejména pro výrobu hlubotiskové ofsetové a knihtiskové formy, vyznačený tím, že sestává z 5 až 80 % kondenzačního produktu fenolů, krezolu, xylenolu, resorcinu, pyrokatechinonu a jejich homologů s formaldehydem, 20 až 95 % etanolu apřípadně z 0,5až 3% indikačníhobarviva,__________ '
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS524579A CS206087B1 (cs) | 1979-07-27 | 1979-07-27 | Vykrývací a korekturní lak |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS524579A CS206087B1 (cs) | 1979-07-27 | 1979-07-27 | Vykrývací a korekturní lak |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS206087B1 true CS206087B1 (cs) | 1981-06-30 |
Family
ID=5396965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS524579A CS206087B1 (cs) | 1979-07-27 | 1979-07-27 | Vykrývací a korekturní lak |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS206087B1 (cs) |
-
1979
- 1979-07-27 CS CS524579A patent/CS206087B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3669660A (en) | Lithographic plate developing composition and process of use thereof | |
| DE865860C (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion | |
| US3300309A (en) | Moisture-resistant planographic plates and methods of producing same | |
| DE2147947C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
| DE3856553T2 (de) | Wärmebehandlungsverfahren zum Erleichtern der Entfernung eines positiven Photoresists mit Entschichtungslösungen | |
| DE1422474A1 (de) | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen | |
| GB1604170A (en) | Water developable lithographic printing plate | |
| DE1124817B (de) | Kopierschichten fuer Druckformen aus Naphthochinon-(1, 2)-diazidsulfonsaeureestern | |
| DE1114705C2 (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen | |
| GB1586586A (en) | Photoresist materials | |
| JPS5647041A (en) | Production of positive type photosensitive lithographic printing plate | |
| CA1164723A (en) | Process for heating printing plates | |
| JPH0141974B2 (cs) | ||
| DE1200133B (de) | Verfahren zum Entwickeln von Flachdruckformen | |
| US3406065A (en) | Process for the reversal development of reproduction coatings containing o-naphthoquinone diazide compounds | |
| CS206087B1 (cs) | Vykrývací a korekturní lak | |
| US3201241A (en) | Developer for diazo-type printing plates and the use thereof | |
| DE1053930B (de) | Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege | |
| FI59755C (fi) | Foerfarande foer avlaegsnandet av ett skikt fraon en yta vilket skikt aer ett material innehaollande polyvinylalkohol och en i foerfarandet anvaendbar komposition | |
| US4517275A (en) | Light-sensitive mixture based on O-naphthoquinone-diazides, and light-sensitive copying material prepared therefrom | |
| DE1572068A1 (de) | Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen | |
| US3199981A (en) | Light sensitive layers | |
| JPS5498613A (en) | Photosensitive composition | |
| FR2452731B1 (cs) | ||
| EP0436617B1 (en) | Baking treatment of lithographic printing plate |