CS204967B2 - Xerographic band and method of making the same - Google Patents

Description

Vynález se týká xerografického pásu a způsobu jeho výroby.

Při xerografickém postupu se latentní elektrostatický obraz předmětu vytváří na zaznamenávacím prostředí, nazývaném xerografický povrch. . Xerografický povrch může sestávat z velmi tenké vrstvy fotoelektricky vodivého isolačního materiálu, například selenu, na vodivém kovovém podkladu, například mosazi. Latentní elektrostatický obraz vytvořený na xerografickém povrchu se vyvolá jako práškový obraz, který se pak přenese na list papíru a k němu připevní, čímž se vytvoří trvalý nátisk.

Je dále známo vytváření předmětů z niklu, například tenkého pruhu niklu, ' galvanoplastikou. Je dokonce také znám postup pro vytvoření nekončitého, avšak děrovaného pásu niklu galvanoplastikou.

Podkladová, z vodivého . kovu sestávající část xerografického povrchu může mít také podobu nekončitého ohebného pásu a v tomto případě se označuje jako xerografický pás. Nekonečný ohebný pás se obvykle zhotoví tím, že se navzájem, například svařením, spojí konce tenkého .mosazného pruhu. Bylo zjištěno, že šev vzniklý v místě spojení dvou. konců pruhu je zdrojem obtíží, jelikož snižuje celkovou pevnost a životnost pásu a vyžaduje, aby tiskací cyklus stroje nebo soustavy, kde se xerografického pásu užívá, byl upraven tak, aby se latentní elektrostatický obraz nevytvářel na xerografickém pásu taní,·· kde je umístěn šev.

Účelem vynálezu proto je vytvořit nekonečný ohebný bezešvý pás z vodivého materiálu, vhodný pro užití jako podklad xerografického pásu, a dále . nalézt způsob jeho výroby.

Nevýhody odstraňuje xerografický pás podle vynálezu, jehož podstatou je, že sestává z nekonečného ohebného bezešvého pruhu vodivého· materiálu, například niklu, který je tvořen elektrolytickou usazeninou a na kterém je uložena vrstva fotoelektricky vodivého isolačního materiálu, například selenu.

Způsob hotovení xerografického pásu podle vynálezu, při kterém se zhotoví galvanoplastikou nekonečný ohebný bezešvý pruh niklu a na tomto pruhu se vytvoří vrstva fotoelektricky vodivého isolačného materiállu, záleží v tom, že se pruh tvoří na zakřiveném povrchu válcovitého trnu z vodivého netečného- materiálu, vrstva niklu se s trnu sejme a pak se na této vrstvě niklu umístí vrstva fotoelektricky vodivého isolačního materiálu.

Podle výhodného provedení vynálezu se trnem -otáčí kolem svislé osy vůči anodové204967 mu · koši, obsahujícímu nikl v lázni sulfamátu nikelnatého.

Účelně je válcovitý pasivní povrch tvořen vnějším povrchem trnu a vrstva niklu se s trnu odstraní smrštěním trnu.

Podle dalšího provedení má trn tvar dutého válce, a válcovitý netečný povrch je vnitřním povrchem trnu a vrstva niklu se s trnu sejme vyložením.

Použitím bezešvého xerografického pásu podle vynálezu se zvýší celková pevnost a životnost pásu a značně se zjednoduší tiskací proces, neboť není nutno elektrostatický obraz situovat do přesně daných oblastí xerografického· pásu.

Jeden příklad vynálezu bude nyní popsán v souvislosti s přiloženým výkresem. Obr. 1 je axonometrický pohled na xerografický pás konstruovaný podle vynálezu. Obr. 2 je schematický pohled v řezu na přístroj pro zhotovení nekonečného ohebného bezešvého pásu niklu galvanoplastikou. Obr. 3 znázorňuje schematicky v řezu část jiného provedení přístroje · znázorněného· v obr. 2. Obr. 4 znázorňuje v nárysu a částečném řezu, jak se nekonečný ohebný bezešvý pás niklu, hotovený použitím přístroje· znázorněného v obr. 3, snímá s trnu, na · kterém je tvořen.

Obr. 1 znázorňuje xerografický pás 11 vytvořený podle vynálezu. Xerografický pás obsahuje nekonečný ohebný bezešvý . pruh niklu. Tloušťka niklového pruhu · je rovnoměrná a leží v rozmezí asi 0,076 mm až 0,25 mm. Na povrchu niklového pruhu 12 je vrstva 13 fotoelektricky vodivého isolačního materiálu. Fotoelektricky vodivý isolační materiál může sestávat například ze selenu nebo , ze 'slitiny selenu _; s· malými množstvími arsenu nebo telluru nebo zbarveného kysličníku zinečnatého, rozptýleného v pojidle tvořícím isolační film. · Vrstva se vytvoří na· niklovém pruhu 12 jakýmkoliv známým způsobem. Niklový pruh · 12 je vytvořen galvanoplastikou. Průměr a šířka xerografického pásu 11 jsou závislé na určitém xerografickém stroji nebo · soustavě, ve které má být xerografického pásu 11 použito. Průměr i šířka mohou být přibližně 25 cm nebo větší. Xerografický pás · 11 má rovnoměrnou tloušťku, · nemá žádné nespojitosti a má velmi nepatrné nebo dokonce žádné napětí v tahu.

V obr. 2 je znázorněno jedno· provedení přístroje k vytvoření niklového pruhu 12 galvanoplastikou. Válcově tvarovaný trn 21 je zavěšen · svisle v pokovovací nádrži 22. Trn 21 je · zhotoven z materiálu, který je netečný, vodivý, snáší se s roztokem· sloužícím pro poniklování a má vyšší koeficient roztažnosti než · nikl. Trn 21 může být například zhotoven z hliníku povlečeného niklem. Vnitřní plocha a · horní a dolní okraje trnu 21 jsou · maskovány neznázorněným vhodným nevodivým . materiálem, například · voskem. Trn 21 má kruhový průřez a může · být dutý. Pokovovací nádrž 21 je naplněna pokovovacím roztokem 23 ze sulfamátu · nikel natého. Teplota pokovovacího roztoku je mezi asi 40 °C a 65 °C a s výhodou mezí 60 °C a 62 °C. V pokovovací nádrží 22 je· kolem trnu 21 upraven prstencovitý anodový koš 24, který je vyplněn niklovými odřezky 25. Anodový koš 24 je souosý s trnem 21. Roztok sulfamátu nikelnatého může obsahovat následující složky v · následujících množstvích: sulfamát nikelnatý asi 29,92 g na . 1 litr; chlorid nikelnatý, je-li použit · 14,96 g na

Tittr;

kyselina boritá asi 41,20 g až 46,88 g na litr;

smáčedlo, jako laurylsíran sodný, asi 0,013 decilitr na 1 litr;

kovový nikl asi 74,8 g až 89,70 g na 1 litr; prostředek pro · snížení povrchového · napětí, například sodná sůl sacharinu, až asi 0,039 decilitr · na 1 litr. Množství niklových odřezků 25 postačuje pro 'doplňování niklu odčerpávaného z roztoku sulfamátu nikelnatého ' při galvanoplastice.

Trn ·21 je nosičem 26, opatřeným rameny a zhotoveným· z elektricky vodivého· materiálu, spojen s otáčivým hnacím hřídelem 27, který je rovněž z vodivého materiálu. Hnací hřídel 27 je nesen ložiskem 28 . . na rámovém dílu 29. Ložisko 28 je buď zhotoveno z isolačního materiálu, nebo je odisolováno od rámového . dílu · 29. Rámový díl 29 je neznázorněnými prostředky pohyblivý vodorovně a svisle, takže trn 21 může být zaveden do oblasti a z oblasti pokovovací nádrže 22, například jeho snižováním a zvedáním. Hnací hřídel 27 · je připojen na motor 31, · který je rovněž uložen · na rámovém členu 29. Hnací hřídel 27 je elektricky isolován od motoru 31 neznázorněnou isolační spojkou.

Pokovovací proud (stejnosměrný elektrický proud potřebný pro vytvoření galvanického povlaku na · katodickém povrchu trnu] je dodáván do pokovovací lázně 22 ze zdroje 32 stejnosměrného proudu. . Tento proud · musí procházet od niklového materiálu anody · ke katodě, tvořené trnem, čímž se . uzavře elektrický · obvod . se · stejnosměrným zdrojem 32.

Hustota proudu dodávaná stejnosměrným zdrojem· 32 · je asi 215,28 až 3229 ampérů na m2 a s · výhodou , . 1615 . ampérů na· čtverečný metr. · Kladný · pól stejnosměrného zdroje 32 je - · připojen na · anodový koš 24. Záporný pól stejnosměrného· zdroje 32 je spojen s kartáčem 33 a kluzným kroužkem 34, upravenými na hnacím hřídeli 27.

Pokovovací proud prochází od stejnosměrného zdroje 32 k anodovému koši 24, do pokovovacího · roztoku 23, do trnu 21 (který tvoří ·· katodu), do kovového nosiče 26, do hnacího · hřídele 27, , do kartáčku 33 a kluzného · kroužku · 34 a zpět ke stejnosměrnému zdroji 32. Kartáček 33 je nepohyblivý a · je v mechanickém a elektrickém kontaktu s. kluzným kroužkem 34, který · se otáčí s hnacím hřídelem 27, který je elektricky vodivý.

Při provozu se trn 21 sníží do; pokovovací lázně 22 a plynule se otáčí kolem své svislé osy. Když se trn 21 otáčí, ukládá se na jeho vnějším povrchu vrstva niklu 35. Vrstva niklu 35 má rovnoměrnou tloušťku, jelikož vzdálenost mezi trnem 21 a anadovým košem je stále stejná. Když vrstva usazeného niklu 35 dosáhne žádané tloušťky, vyjme se trn 21 z pokovovací nádrže 22 a ponoří se do neznázorněné lázně studené vody. Teplota lázně studené vody může být asi 5 °C. Když se trn 21 ponoří do lázně studené vody, smršťuje se rychleji než usazený nikl 35 v důsledku jeho vyššího koeficientu roztažnosti. Vrstva usazeného niklu 35 nelpí na trnu 21, jelikož trn 21 je zhotoven z netečného materiálu. V důsledku toho při smršťování vrstva usazeného niklu 35, který má podobu nekonečného ohebného _ pruhu, sklouzne s trnu 21. Trn 21 lze opět užít pro zhotovení dalšího niklového· pruhu.

Trn 21, anodový koš 24, nosič 26 mohou být nahrazeny trnem 21*, popřípadě anodovým košem 24‘, popřípadě nosičem 26‘, jak

Claims (5)

1. p ř E D M ET

   1. Xerografický pás, vyznačující se tím, že sestává z nekonečného ohebného bezešvého pruhu vodivého materiálu, například niklu, který je tvořen elektrolytickou usazeninou a na kterém je uložena vrstva fotoelektricky vodivého· isolačního materiálu, ' například selenu.
2. 2. Způsob výroby xerografického pásu podle bodu 1, při kterém se zhotoví galvanoplastikou nekonečný ohebný bezešvý pruh niklu a na tomto pruhu se vytvoří vrstva fotoelektricky vodivého· isolačního materiálu, vyznačující se tím, že se pruh niklu tvoří na zakřiveném povrchu válcovitého trnu z vodivého netečného materiálu, vrstva niklu se jsou znázorněny v obr. 3. Trn 2Γ má podobu dutého kruhového válce z vodivého netečného materiálu, · jako· je nerezavějící ocel nebo· hliník povlečený chromém. Vnější povrch a horní a dolní kraj trnu 21‘ jsou maskovány neznázorněným vhodným nevodivým materiálem.

   Nosič 26* je z vodivého materiálu a je spojen s · vnějším povrchem trnu 21*. Anodový, koš 24 má tvar trubky a je uložen v · pokovovací lázni 22 uvnitř trnu 21* a je souosý s tímto·· trnem 21*. Jak je vidět, ukládá se vrstva 35* niklu na vnitřním povrchu trnu 21* (a nikoliv na vnějším povrchu trnu 21 jako· v obr. 2), když se trn 21* o-táčí kolem anodového koše 24*. Vrstva 35* usazeného niklu se od trnu 21* oddělí tím, že se břitový oddělovač 36, zhotovený například z teflonu, zavede mezi vrstvu 35* niklu a trn 21‘, jak je znázorněno na obr. · 4 a pak se vrstva 35* niklu vytáhne z trnu 21*. Xerografický pás podle vynálezu je také použitelný jako povlak na xerografickém bubnu.

   VYNALEZU s trnu sejme a pak se na této· vrstvě niklu umístí vrstva fotoelektricky vodivého isolačního materiálu.
3. 3. Způsob podle . bodu 2, vyznačující se tím, že trnem se· otáčí kolem svislé osy vůči anodovému koši obsahujícímu · nikl v lázní sulfamátu nikelnatého.
4. 4. Způsob podle bodu 1, vyznačující se tím, že válcovitý pasivní povrch je tvořen vnějším povrchem trnu a že se vrstva niklu s trnu odstraní smrštěním trnu.
5. 5. Způsob podle bodu 3, vyznačující se tím, že trn má tvar dutého válce, válcovitý netečný povrch je vnitřním povrchem trnu a vrstva niklu se · s trnu sejme vytažením.