CS196984B1 - Galvanická zlatící lázeň - Google Patents
Galvanická zlatící lázeň Download PDFInfo
- Publication number
- CS196984B1 CS196984B1 CS114978A CS114978A CS196984B1 CS 196984 B1 CS196984 B1 CS 196984B1 CS 114978 A CS114978 A CS 114978A CS 114978 A CS114978 A CS 114978A CS 196984 B1 CS196984 B1 CS 196984B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- gold
- bath
- electroplating
- solutions
- inorganic salt
- Prior art date
Links
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 16
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 16
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 claims description 3
- WCZVUZYEOJQHNJ-UHFFFAOYSA-M potassium;pyridine-3-carboxylate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CN=C1 WCZVUZYEOJQHNJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [K+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Vynález ae týká galvanická zlatící lázně, zejména pro zlacení kontaktů v elektrotechnice. * *
Dosavadní známá galvanická lázně, používaná v elektrotechnice pro zlacení kontaktů nemají dostatečně vysokou vylučovací rychlost. Tento technologický požadavek je obvykle splněn na úkor kvality vyloučená zlaté vrstvy. Zlatá vrstva není homogenní, povrch nemá pravidelnou mikroatrukturu.
Tyto nevýhody odstraňuje galvanická zlatící lázeň podle vynálezu. Podle podstaty vynálezu ee toho dosahuje tím, že lázeň obsahuje 10 až 30 g zlata ve formě kyanidového komplexu, 1 až 15 g niklu ve formě rozpustné anorganické soli, 0,3 až 8 g kobaltu va formě rozpustné anorganické soli, 15 až 200 g sekundárního fosforečnanu amonného, • · až 400 g primárního fosforečnanu draselného, 5 až 150 g kyseliny citrónové, 0,1 až 1 g sulfimidu kyseliny o-benzoová, 0,1 až 1 g nikotinanu draselného, 2 až 50 g kyseliny ethylendiamintetraoctové na 1000 g destilovaná vody.
Galvanická zlaticí lázeň podle vynálezu má vysokou vylučovací rychlost. Zlatá vrstva má pravidelnou mikroatrukturu, je hcnogenní a bezpóréznl.
196 984
198 >>4
Sále jsou uvedeny tří příklady složení zlatící lázně:
| kyanid zlatno-draaelný | 15 g | 20 g | 25 g |
| síran nikelnatý | 5 g | 10 g | 15 g |
| dusičnan kobaltnatý | 1 e | 3 g | 8 8 |
| primární fosforečnan draselný | 100 g | 150 g | 350 g |
| sekundární fosforečnan amonný | 50 g | 80 g | 100 g |
| kyselina citrónová | 20 g | 30 g | 100 g |
| aulfimid kya, o-benzoová | 0,1 g | 0,3 g | 0,2 g |
| nikotinan draselný | 0,1 g | 0,1 g | 0,2 g |
| kys. ethylendiamintetraoctová | 10 g | 35 g | 5 g |
| destilovaná voda | 1000 g | 1000 g | 1000 g |
| pH lázně | 5,5 | 5 | 6,5 až |
Při použití galvanická zlatící lázně podle vynálezu má vyloučená vrstva zlata vysokou přilnavost k pokovovanému materiálu. Změnou teploty lázně v rozmezí 20 až 80 °C lze dosáhnout vysoce lesklý, jemně matný až matný povroh vyloučeného zlata. Lze tedy získat nejvhodnějěí jakost vyloučené vrstvy buď k přímému použití nebo k dalšímu zpracování např. difueními pochody. Podle druhu pokovovaného materiálu ee volí hodnota pH lázně v rozmezí 4 až 8. Pro slitiny železa a niklu ja vhodná hodnota pH 5 až 5,5, pro měď a její slitiny pH 6 až 7,5, pro slitiny obsahující molybden pH 4 až 5. Tvrdost vyloučená zlatá vrstvy lze ovlivnit přidáním niklu nebo kobaltu do lázně. Vylučovací proud lze volit v rozmezí 1,5 až 8 A/cm podle požadovaná vylučovací rychlosti a kvality vrstvy. Rychlost vylučování zlata je v rozmezí 4 až 10«m/5 min. Je výhodná přivádět na pokovovaný předmět 10 až 25 1 lázně za minutu.
Claims (1)
- PfiKD M fi T VYNÁLEZUGalvanická zlatící lázeň, zejména pro zlaoení kontaktů v elektrotechnice, vyznače ná tím, ža obsahuje 10 až 30 g zlata ve formě kyanidového komplexu, 1 až 15 g niklu va formě rozpustná anorganická soli, 0,3 až 8 g kobaltu va formě rozpustná anorganické soli, 50 až 400 g primárního fosforečnanu draselného, 15 až 200 g sekundárního fosforečnanu amonného, 5 až 150 g kyseliny citrónová, 0,1 až 1 g sulfimidu kyseliny o-benzoová, 0,1 až 1 g nikotinanu draselného, 2 až 50 g ethylendiamintetraoctová kyseliny na 1000 g destilovaná vody. e .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS114978A CS196984B1 (cs) | 1978-02-23 | 1978-02-23 | Galvanická zlatící lázeň |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS114978A CS196984B1 (cs) | 1978-02-23 | 1978-02-23 | Galvanická zlatící lázeň |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS196984B1 true CS196984B1 (cs) | 1980-04-30 |
Family
ID=5345110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS114978A CS196984B1 (cs) | 1978-02-23 | 1978-02-23 | Galvanická zlatící lázeň |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS196984B1 (cs) |
-
1978
- 1978-02-23 CS CS114978A patent/CS196984B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100529195C (zh) | 用于镀金的无氰型电解溶液 | |
| US3925170A (en) | Method and composition for producing bright palladium electrodepositions | |
| US4144141A (en) | Ammonia free palladium deposition using aminoacetic acid | |
| EP1983077B1 (en) | Electrolyte and method for electrolytic deposition of gold-copper alloys | |
| TW200923140A (en) | High speed method for plating palladium and palladium alloys | |
| JP4817352B2 (ja) | 鉄、コバルトまたはニッケルを含む三成分錫亜鉛合金、ガルバーニ溶液およびそれらを生成するガルバーニ法 | |
| EP0663460B1 (en) | Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same | |
| US4605474A (en) | Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings | |
| US2658032A (en) | Electrodeposition of bright copper-tin alloy | |
| CS196984B1 (cs) | Galvanická zlatící lázeň | |
| US4167459A (en) | Electroplating with Ni-Cu alloy | |
| EP1323849B1 (en) | Nickel electroplating solution | |
| US3617452A (en) | Gold plating | |
| CN107299379A (zh) | 一种护士站专用电解钢板制备工艺 | |
| US3380814A (en) | Electrolyte and method for coating articles with a gold-copper-antimony alloy and article thereof | |
| HK74389A (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys | |
| US3376206A (en) | Electrolyte for the electrodeposition of palladium | |
| JP3282875B2 (ja) | パラジウムメッキ液及び該メッキ液を用いたパラジウムメッキ方法 | |
| JPS62164889A (ja) | 金銀銅合金めつき液 | |
| JPS5864393A (ja) | 錫−亜鉛合金めつき浴 | |
| US3337350A (en) | Electroless silver plating | |
| JPS59133394A (ja) | パラジウムの高速めつき用浴及び方法 | |
| US2093031A (en) | Product and method and composition for cadmium-tin alloy plating | |
| Bacquias | Bright gold electroplating solutions: Types of brightening additives used | |
| JPH0575837B2 (cs) |