CN85100142B - 溅射太阳能选择性吸收涂层及制造方法 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 39
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- IWBUYGUPYWKAMK-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[N] Chemical compound [AlH3].[N] IWBUYGUPYWKAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- -1 aluminum-carbon-oxygen Chemical compound 0.000 claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 15
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 8
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CQBLUJRVOKGWCF-UHFFFAOYSA-N [O].[AlH3] Chemical compound [O].[AlH3] CQBLUJRVOKGWCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 10
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract description 2
- PILWPTAXXILTMN-UHFFFAOYSA-N [Ar].O=[C] Chemical compound [Ar].O=[C] PILWPTAXXILTMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018509 Al—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018516 Al—O Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013529 heat transfer fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
溅射太阳能选择性吸收涂层,应用于太阳能集热器。采用单个圆柱(或平板)铝阴极,于氩气中溅射铝膜为底层,先后于氩-氮(或氩-一氧化碳)混合气体与纯氮(纯一氧化碳)中反应溅射成份渐变的铝-氮(或铝-碳-氧)复合吸收材料。涂层的太阳吸收率α≈0.93,发射率ε≈0.06(100℃)。本发明使溅射系统结构简化,溅射效率提高。新涂层放气量少,制造中真空烘烤温度可降至400~450℃;缩短了生产周期,降低能耗,可允许用软化点低的玻璃。
Description
本发明涉及到一种太阳能选择性吸收涂层,它用于太阳能集热器。
太阳能选择性吸收涂层是由外层与内层构成的。在太阳能光谱范围,外层具有强烈的吸收作用,但在红外范围几乎是透明的。为了减少辐射热损,内层在红外应是高反射,即低发射率的材料。如果吸热元件表面是红外高反射的,那么外层吸收材料可以直接沉积到这个表面上。
美国专利No4,339,484给出一个典型的选择性吸收涂层,它包含金属-碳化物吸收层和红外高反射的铜底层。
虽然太阳能选择性吸收涂层也应用于平板集热器,但其典型的应用是在真空管集热器。真空管集热器包括玻璃或金属的内管和玻璃外管,内管的一端可以是封闭的,或是内管两端都不封闭,内、外管之间抽成真空。太阳能选择性涂层是被沉积在内管的外表面。太阳辐射通过外玻璃管被内管上的涂层所吸收,加热内管中的传热流体。由于真空使传导与对流热损降低很多,而内管上的选择性吸收涂层使辐射热损降得很低因此真空管集热器具有较高的集热效率。
当前,采用电镀、蒸发与溅射等技术沉积太阳能选择性吸收涂层。而溅射技术具有易在大面积上沉积较均匀的薄膜等优点。美国专利No4,339,484中给出了使用两个阴极来满足构成太阳能选择性吸收涂层中的高反射底层与高吸收外层两种物理性质截然不同的膜系。该文所述的涂层具有较好的选择性,其太阳吸收率α≈0.82,发射率ε≈0.03(室温)。然而这种涂层与所用的溅射系统存在以下不足之处:
1.涂层放气量大,主要释放出H2与CO,来源于反应气体C2H2与真空系统中残余的氧与水气。在制造过程中,集热管及所含的涂层需要真空烘烤480-500℃。
2.制备涂层要用两个柱状阴极(或两个平板阴极),铜与不锈钢阴极。两个阴极之间有一个很大的屏板,以免相互交叉污染,但使溅射系统结构复杂,还有屏板拦截了相当部分的溅射流,使沉积利用率大为降低。此外,在同样的溅射腔体内,两个阴极占有较大的空间,不然可以在更多的内管上沉积选择性吸收涂层。
3.太阳吸收率较低(α≈0.82)。
作为溅射系统可以包含一个,两个或更多的阴极。如美国专利No4,428,812就是在一个阴极的溅射系统内,发明了脉冲输入反应气体而获得高沉积率的钛、锆与铪等Ⅳ6族金属-氮化物薄膜的方法,但该专利没有涉及制备膜系及其应用的目的。
本发明的目的是针对专利No.4,339,484所述涂层与所用溅射系统存在之不足,设计了用单个阴极代替双阴极的溅射技术来制备太阳能选择性吸收涂层,简化溅射系统。大量的探索实验表明,相当多数的单个金属或合金阴极,如钛等Ⅳ6族金属或不锈钢制成的涂层,存在着太阳吸收率低或红外发射率高等缺陷,而铝或纯度高于95%的铝合金,既可以在氩气中沉积低发射率底层,又能在氩与氮(或氩与一氧化碳)中反应溅射沉积高吸收率外层,成本也低得多。故用铝来制备高质量的太阳能选择性吸收涂层。
本发明的技术要点在于用单个铝阴极(圆柱或平面)制备选择性吸收涂层。于纯氩气中溅射铝阴极制备厚度不小于0.1×10-6m的高反射铝膜为底层,反应溅射铝阴极制备厚度在0.08×10-6m至0.25×10-6m的铝-氮(或铝-碳-氧)复合吸收材料。吸收材料的成分随厚度是渐变的。于同一溅射室内,注入氩气与氮气(或氩气与一氧化碳)混合气体,随着注入到溅射室的氮气(或一氧化碳)的流量的增加沉积出的薄膜,从靠近底层到最外表面,氮对铝原子数(或碳、氧对铝原子数)的比值是逐渐增加的。最佳情况是从纯铝渐变到最外表面铝-氮(或铝-碳-氧)化合物的介质。这种选择性吸收涂层的太阳吸收率明显地高于上述No.4,339,484的铜/金属碳化物涂层的光谱性能,并克服了上面提到的涂层及其生产中的问题。
结合附图对实施例进行描述可以更好地理解本发明的内容。
图1为全玻璃真空集热管的正视图;
图2为选择性吸收涂层的剖面图。
图1为真空集热管的正视图,其中的真空集热管包含一个单端封闭的内玻璃管1与外玻璃管2,内、外玻璃管的开口端熔封在一起。内、外管之间3抽成真空。装在支架上的消气剂4,用来吸收集热管工作或存放过程中所放出的微量气体。太阳能选择性吸收涂层5如图1虚线所示,是在内、外玻璃管熔封前就沉积在内管的外表面上。
图2表示放大的用于集热的选择性吸收涂层,涂层有两层组成,底层6为溅射纯铝膜,厚度为0.2×10-6m,外层7为反应溅射的铝-氮(或铝-碳-氧)复合材料,厚度为0.14×10-6m。
红外高反射内层6是采用纯氩气中非反应溅射铝阴极制备的,阴极纯度高于95%,纯度高于98%则更好。底层6厚度不小于0.1×10-6m。外层7是吸收材料。于同一溅射室内,注入氩气与氮气(或氩气与一氧化碳)混合气体。氮气(或一氧化碳)的流量按经验公式从零变到某一最大值,以实现吸收材料中成份的渐变。最后的反应溅射是在纯氮气(或一氧化碳)中进行的,制备铝-氮(或铝-碳-氧)化合物,其厚度不小于0.04×10-6m。外层7的厚度可以在0.08×10-6m至0.25×10-6m之间。
包括底层6与外层7的太阳能选择性吸收涂层,经测定,太阳吸收率α≈0.93,发射率ε≈0.06(100℃)。
上述涂层的表面上还可覆盖一层铝-氧化合物薄膜,厚度不小于0.04×10-6m,这是于氩-氧或纯氧中反应溅射铝阴极所制备的。
涂层是由很稳定的Al-N(或Al-C-O)以及Al-O(如果需要)复合薄膜组成,其表面挥发与放气少于金属-碳化物吸收材料。因此在制造集热管时,烘烤温度可调节到400-450℃,这将减少生产时间周期与生产能耗,并可允许使用软化点低一点的玻璃。
Claims (6)
1、一种溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是以沉积的铝膜为底层,以沉积的铝-氮(或铝-碳-氧)复合成分为吸收材料层,该吸收材料层的成分是渐变的。
2、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是底层铝膜厚度不小于0.1×10-6m。
3、按照权利要求1或2所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是吸收材料铝-氮(或铝-碳-氧)厚度在0.08×10-6m至0.25×10-6m。
4、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是在该涂层上再盖一层铝-氧化合物薄膜,其厚度不小于0.04×10-6m。
5、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是使用的铝阴极的纯度不低于95%。
6、一种制造如权利要求1所说的太阳能选择性吸收涂层的方法,其特征是在纯氩气中非反应溅射铝膜以后,于同一溅射室内,注入氩气与氮气(或一氧化碳)混合气体,随着氮气(或一氧化碳)的流量逐渐增加,相应沉积的吸收材料厚度增加,氮(或碳、氧)对铝原子数的比值亦增加,最表面是在纯氮(或纯一氧化碳)溅射沉积铝-氮(或铝-碳-氧)化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN85100142A CN85100142B (zh) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 溅射太阳能选择性吸收涂层及制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN85100142A CN85100142B (zh) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 溅射太阳能选择性吸收涂层及制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN85100142A CN85100142A (zh) | 1986-07-23 |
CN85100142B true CN85100142B (zh) | 1987-07-22 |
Family
ID=4790921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN85100142A Expired CN85100142B (zh) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 溅射太阳能选择性吸收涂层及制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN85100142B (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101570846B (zh) * | 2009-05-12 | 2010-12-01 | 太原理工大学 | 一种应用离子氮化工艺制备太阳能吸收涂层的方法 |
CN101793437B (zh) * | 2009-12-31 | 2012-05-23 | 沈阳百乐真空技术有限公司 | 多用途太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101441002B (zh) * | 2008-12-26 | 2010-11-03 | 郭建国 | 一种真空集热板及其集热装置 |
CN102534488A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-04 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 具有硬质涂层的被覆件及其制备方法 |
CN102135340A (zh) * | 2011-03-14 | 2011-07-27 | 兰州华能太阳能有限公司 | 一体式镀膜聚光太阳灶体及制备 |
CN103043914A (zh) * | 2011-10-17 | 2013-04-17 | 山东耀国新能源科技有限公司 | 一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法 |
-
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- 1985-04-01 CN CN85100142A patent/CN85100142B/zh not_active Expired
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---|---|---|---|---|
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---|---|
CN85100142A (zh) | 1986-07-23 |
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---|---|---|---|
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
PB01 | Publication | ||
C06 | Publication | ||
C13 | Decision | ||
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
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