CN103043914A - 一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法 - Google Patents

一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法，其特征在于：在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中，首先采用渐变结构设计工艺参数，然后采用干涉工艺参数，使之在800至1000nm时出现一个波峰，造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。本发明的优点效果是：该技术融合了干涉与渐变技术的优点，平均吸收各个波段的光，并且提高各个波段的吸收率。改良为新的光吸收技增加了光的吸收，使吸收涂层吸收率在92％以上。

Description

一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法
技术领域
本发明涉及太阳能太阳能真空管的制备方法，特别涉及一种一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法。
背景技术
目前制备真空管吸收涂层的技术为干涉技术或者渐变技术，干涉技术的吸收率要高于渐变技术，但干涉技术由于有干涉波峰，有一部分波长的光吸收较差，而渐变技术虽然对各个波段吸收较平均，但是各个波段的吸收值很差。
发明内容
本发明针对上述现有技术的不足，提供一种融合了干涉与渐变技术的优点，平均吸收各个波段的光，并且提高各个波段的吸收率的太阳能真空管吸收涂层的制备方法。
本发明的技术方案是：一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法，其特征在于：在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中，首先采用渐变结构设计工艺参数，然后采用干涉工艺参数，使之在800至1000nm时出现一个波峰，造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。
本发明的优点效果是：该技术融合了干涉与渐变技术的优点，平均吸收各个波段的光，并且提高各个波段的吸收率。改良为新的光吸收技增加了光的吸收，使吸收涂层吸收率在92％以上。
具体实施方式
下面结合实施例和实验数据对本发明作进一步的说明。
实施例：一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法，在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中，首先采用渐变结构设计工艺参数，然后采用干涉工艺参数，使之在800至1000nm时出现一个波峰，造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。
采用本发明一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法，生产的阳能真空管吸收涂层与单独用渐变和干涉方法的性能实验数据对比如下表：
  光波   干涉   渐变   干涉-渐变
  blue   6   12   2
  green   2   10   2
  red   5   10   3
  ir   10   10   3
  whalogene   20   15   6
说明：表中数据为不同光的反射率％
以上是对本发明所提供的一种具体实施例结构进行了详细介绍，本实施例只是用于帮助理解本发明的设计方法和核心思想，同时，对本领域技术人员，依据本发明的思想设计的本质相同，均在本发明保护范围之内。综上所述，本说明书内容不能理解为对本发明的限制。

Claims (1)

1.一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法，其特征在于：在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中，首先采用渐变结构设计工艺参数，然后采用干涉工艺参数，使之在800至1000nm时出现一个波峰，造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。
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PB01 Publication
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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