CN2762903Y - 光学元件清洗机构 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种光学元件清洗机构，其包括一框架及多个承载杆，该框架包括二固持板，该承载杆上开设有多个V型槽，其中，该框架的二固持板上相对应的开设有多个导槽，上述多个承载杆插通在该多个导槽，其可沿着导槽移动而进行调节并可在调节后与固持板相对固定。利用此种光学元件清洗机构，可有效提高清洗效率，并且也可满足量产的需求。

Description

光学元件清洗机构
【技术领域】
本实用新型是关于一种光学元件清洗机构，尤其是关于一种可清洗镜片的光学元件清洗机构。
【背景技术】
目前，手机、数码相机等光学应用产品越来越普及，因此光学元件种类越来越多而且越作越小，而且清洗光学元件是光学镀膜制程的第一步，为提高镀膜的品质，光学元件的清洗成为重要的课题。
一般光学元件清洗通常只需将工件放入烧杯中并以超音波震荡清洗而后烘干即可。如中国知识产权局于2000年4月26日公告的99234336.4号实用新型专利申请揭示了一种超声波清洗机，请参阅图3，该清洗机由清洗盒1、机壳2及机芯3组成。清洗盒1为一带盖4的小密封圆柱状容器，其内装有清洗液5与镜片6。机壳2为圆柱状密封容器，由上下两部分构成。清洗盒1配置在机壳2之内，机壳2上部空腔内装有清水8。该机壳2的下部设置机芯3，并通过该机芯3的驱动，产生超声波震荡，由机壳2上部内的清水8传导给清洗盒1，以达到清洗镜片的目的。可是该清洗盒只能容纳单个镜片的缘故，其清洗效率低、不易进行批量操作。
鉴于以上缺点，有必要提供一种清洗效率高、可进行量产的光学元件清洗机构。
【实用新型内容】
本实用新型的目的在于提供一种清洗效率高、可进行量产的光学元件清洗机构。
为了达到上述目的，本实用新型提供一种光学元件清洗机构，其包括一框架及多个承载杆，该框架包括二固持板，该承载杆上开设有多个V型槽，其中，该框架的二固持板上相对应的开设有多个导槽，上述多个承载杆插通于该多个导槽，其可沿着导槽移动而进行调节并可于调节后与固持板相对固定。
相较现有技术，本实用新型光学元件清洗机构利用多个承载杆夹持待清洗光学元件，并且该承载杆的侧壁上开设有多个V型槽的缘故，可以一次夹持多个待清洗光学元件，因此提高清洗效率、可轻易满足量产的需求。并且，其夹持部位是V型沟槽的缘故，可使待清洗光学元件达到最大的暴露面积而达到有效清洁的目的。
【附图说明】
图1是本实用新型第一实施方式光学元件清洗机构的立体示意图；
图2是本实用新型第二实施方式光学元件清洗机构用承载杆立体示意图；
图3是现有光学元件清洗机示意图。
【具体实施方式】
请参阅图1，本实用新型光学元件清洗机构包括一框架10及多个承载杆20a、20b、20c。
框架10包括上固持板11、下固持板12以及支撑柱13，本实施方式中利用多个支撑柱13支撑上固持板11与下固持板12。上固持板11上设置有三导槽14a、14b、14c。每个导槽均为长直条状，并且三导槽14a、14b、14c排列成T字型。下固持板12上与上固持板11相对应的设置有三导槽15a、15b、15c。
承载杆20a上开设有多个V型槽21，并且，其两端设置有螺纹22a、22b。该承载杆20a长度设置成略长于二固持板之间的距离。
组装时，承载杆20a插通于上固持板11的导槽14a及下固持板12的导槽15a，并且承载杆20a的两端的螺纹22a、22b部位露出于二固持板之外，螺母23与上述螺纹22a、22b配合，并使承载杆20a固定于固持板的特定位置。依此类推，承载杆20b、20c也插通于上固持板11的导槽14b、14c及下固持板12的导槽15b、15c，并通过螺栓配合使其固定于特定位置上。
使用时，将把三承载杆20a、20b、20c装配于框架10之内，并将其螺母旋至较松状态，其次，通过三承载杆20a、20b、20c的V型槽21将把多个待清洗光学元件夹持住，最后，拧紧螺母，将安装有待清洗光学元件的清洗机构置放于清洗液中，进行清洗操作。
请一并参照图2所示，本实用新型光学元件清洗机构的第二实施方式与第一实施方式大致相同，其不同之处在于，本实施方式中使用的承载杆24包括二突缘25a、25b，该二突缘25a、25b抵触于二固持板11、12，并使其定位于一定位置。因此，本实施方式中不需要支撑杆。
可以理解，本清洗机构的二固持板上设置的多个导槽可为Y字型，而且，于三支撑杆中可以将其中任意一支撑杆固定于二固持板上，并调节其它二支撑杆而夹持待清洗光学元件。于第一实施方式中为了使清洗液于待清洗光学元件接触于最大面积而利用4根细条状支撑柱连接上下固持板，但是连接上下固持板的支撑机构可为设置有不规则通孔的支撑板，并且，本清洗机构的二固持板可为四方形，也可为圆盘状，当其上下固持板为圆盘状时，连接上下固持板的支撑机构可为设置有通孔的圆柱筒。

Claims (10)

1.一种光学元件清洗机构包括一框架及多个承载杆，其特征在于：该框架包括二固持板，该承载杆上开设有多个V型槽，其中，该框架的二固持板上相对应的开设有多个导槽，上述多个承载杆插通在该多个导槽，其可沿着导槽移动而进行调节并可于调节后与固持板相对固定。
2.如权利要求1所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该框架的二固持板为形状相同的四方形板或圆盘。
3.如权利要求2所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该框架的二固持板通过多个支撑柱相连。
4.如权利要求1所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该框架的二固持板上至少设置有一导槽，其中一承载杆插通于其内，另外二承载杆固定于二固持板。
5.如权利要求1所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该框架的二固持板上相对应的开设有三个导槽，并且三承载杆插通于其内。
6.如权利要求1所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该框架的二固持板上相对应的开设有两个导槽，二承载杆插通于二导槽内，另一承载杆固定于固持板。
7.如权利要求1所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该承载杆的长度长于二固持板之间的距离。
8.如权利要求7所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该承载杆的两端开设有外螺纹。
9.如权利要求8所述的光学元件清洗机构，其特征在于：一螺母与该承载杆的外螺纹相配合，并使其固定于固持板的特定位置。
10.如权利要求9所述的光学元件清洗机构，其特征在于：该承载杆上靠近两端处分别设置有突缘，该突缘分别抵触于二固持板，并使其定位于一定位置。
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