CN2430774Y - 叠层设备 - Google Patents

Abstract

一种叠层设备、有底座、底座上的载板、与底座及载板相对的压头,底座带有的叠层定位机构,载板一侧外设置有吸着上层叠层边部真空吸着装置。这样就可以用手将带有载带的陶瓷膜片从上个工序拿到叠层位置,可以选用机械定位机构定位,陶瓷膜片可以更薄,层数可以更多,制成的电容器容量更高,能够实现小体积高容量的多层片式陶瓷电容器;可以相应的选用丝网真空分散层,简化了设备的结构和造价,简化了操作过程,保证了设备的可靠性。

Description

叠层设备

本实用新型涉及一种叠层设备，特别是多层陶瓷电容器的生产过程对陶瓷膜片叠层的设备。

在多层陶瓷电容器的生产过程，已有的对陶瓷膜片进行叠层的叠层设备，都有底座、底座上的载板、与底座及载板相对的压头，底座带有的叠层定位机构。载板的上方还设置有自动控制的移动机构，移动机构带有真空吸着装置。真空吸着装置的真空吸着口一般与陶瓷膜片大小形状相当。移动机构带动真空吸着装置将附着在载带的陶瓷膜片整体吸着，并从载带分离后，将陶瓷膜片移到载板放置叠层位置，放到叠层上解除真空，将陶瓷膜片叠放在叠层上。用压头将叠放的陶瓷膜片压实，构成了陶瓷膜片的叠层。从载带上分离后的陶瓷膜片非常脆弱，单独剥离的机械结构和移到叠层上的机械结构及控制机构比较复杂，要求的精度非常高，从而大大增加了设备的成本，同时对叠层操作过程要求高，操作工艺复杂。由于是将单独陶瓷膜片叠放在叠层上，陶瓷膜片非常薄，也非常容易损坏，不易采用简单易行的机械定位机构，所以叠层定位机构只能采用光学定位机构。光学定位机构成本高，使用操作要求人员条件和责任心也高，操作比较复杂。同样，由于怕在空吸着装置附着陶瓷膜片整体过程中损坏陶瓷膜片，真空装置的真空吸着口要求的精度非常高，既要表面非常平整，又要分散真空的分散层排布孔非常细小，所以也增加了制作的难度和制作成本。压头直接接触陶瓷膜片挤压，压头压面精度要求高，压头的行程机构的精度要求也比较高。这些都大大增加了设备的成本。

本实用新型的目的是提供一种结构简单，便于操作，又能提高工艺质量的叠层设备。

本实用新型的叠层设备，仍有底座、底座上的载板、与底座及载板相对的压头，底座带有的叠层定位机构，其结构特征在于：载板一侧外设置有吸着上层叠层边部真空吸着装置(真空吸着头)。所谓真空吸着装置就是利用形成的真空负压吸口来吸附大气压状态的薄片物体的装置。真空可来自自身的真空泵，也可以来自系统的真空。也就是真空吸着装置不是设置在移动陶瓷膜片的机构，在载板及叠层的上方随着自动控制的移动机构平移，也不用来吸着整体陶瓷膜片，而是设置在载板外侧及已叠层的外侧，更确切的是上层叠层(叠层最上一层，刚重叠上的带有载带的一层陶瓷膜片)的下方边部设置着真空吸着装置，只对叠在叠层的上层陶瓷膜片的一边部吸着。省去了移动陶瓷膜片的自动控制的移动机构及真空吸着装置。这样就可以用手将带有载带的陶瓷膜片从上个工序拿到叠层位置，将陶瓷膜片与承载陶瓷膜片的载带一同放到叠层上面，陶瓷膜片在下、载带在上，用定位机构定位，再用压头接触载带压实同时。上层叠层边部真空吸着装置将陶瓷膜片的一边部吸着。这样就可以在抬起压头后，用手从陶瓷膜片被吸着的一边起剥离去除载带。也可以用机械结构从陶瓷膜片被吸着的一边起剥离去除载带。如用机械机构将带有载带的陶瓷膜片从上个工序拿到叠层位置，所用的机械结构及真空吸着装置，要求的精度就可以大大降低。压头表面的精度及行程机构的精度要求可以相对降低。同样定位机构可以选用结构比较简单容易操作的机械定位机构，如可以为定位销或边缘定位挡等机械定位机构。本实用新型所用的真空吸着装置的真空吸着口，可以对应吸着陶瓷膜片的边部，形成长条形的真空吸着口，只为原有整体吸着陶瓷膜片吸着口十几分之一，这也大大减少了真空开口，可以相应降低真空系统的负荷。同样，由于真空吸着装置只吸着陶瓷膜片的边部，而且可以是在成品时所不需要的边部，所以对真空吸着装置的真空分散层要求可以降低，真空吸着装置的真空吸着口的真空分散层为丝网。这样更便于真空吸着装置及真空分散层的制作加工及维修。这都降低了真空吸着装置的造价和叠层设备的造价。对于叠层较少，叠层厚度较低的，吸着上层叠层边部真空吸着装置可以相对固定。对于叠层较多，叠层较厚的，吸着上层叠层边部真空吸着装置带有上下移动机构，可以相对底座及载板上下移动，以适应叠层厚度不断增加而上层叠层边部位置的变化。

所以说，本实用新型与已有技术相比，具有在保证质量和提高质量的前提下，能够简化了设备的结构和设备的成本，并使得设备的操作大大简化，使用更加方便；由于陶瓷膜片叠层过程，连同载带一起移动、一起受压，陶瓷膜片可以更薄，层数可以更多，制成的电容器容量更高，能够实现小体积高容量的多层片式陶瓷电容器；可以相应的选用机械定位结构，丝网真空分散层，在保证功能的前提下，进一步简化了设备的结构和造价，而且相应地简化了操作过程，保证了设备的可靠性及使用的可靠性。

附图表示了本实用新型一种片式多层陶瓷电容器生产所用的陶瓷膜片叠层设备的结构示意图。下面结合附图的实例进一步说明本实用新型。

这种本实用新型的陶瓷膜片叠层设备，有固定支撑载板7的底座。底座上放置着载板7。载板周围的底座台面带有叠层定位销6。与底座台面及载板相对上方设置着气压驱动机构1的压头2。载板用于放置叠层8。载板左侧外的底座边部设置着吸着上层叠层边部真空吸着头8。真空吸着头可以固定在底座的侧面，也可以设置在上下移动的机构3，跟随上下移动。真空吸着头的吸着口向上与叠层上层的陶瓷膜片边部下面相对。这种真空吸着装置的真空吸着口为与陶瓷膜片边部对应的长条形。长条形真空吸着口的真空分散层为不锈钢丝网。真空吸着装置真空导管与真空管路连接。可以用手将一张张连同载带的陶瓷膜片拿来，陶瓷膜片朝下放到载板上面的叠层上。每放一张，都将载带边部定位孔套在定位销进行定位，同时陶瓷膜片的左边部4被真空吸着头的长条吸口吸着，并将上面的载带5边部翘起，用压头从上面压实。抬起压头后，用手从左边陶瓷膜片被吸着的这一边起，将附着的载带从陶瓷膜片上面剥离。将左边多余的陶瓷膜片割掉。每叠一张陶瓷膜片，都重复着上述过程。如果只叠层几层的叠层半成品，真空吸着头可以固定不动。如果叠层较多，可以随着叠层的增高，利用移动机构相应地上移真空吸着头，以更好地完成以后的叠层过程。

Claims (4)

1、一种叠层设备，有底座、底座上的载板、与底座台面及载板相对的压头，底座带有的叠层定位机构，其特征在于：载板一侧外设置有吸着上层叠层边部的真空吸着装置。

2、如权利要求1所说的叠层设备，其特征在于：叠层定位机构为定位销或边缘定位挡机械定位机构。

3、如权利要求1所说的叠层设备，其特征在于：真空吸着装置的真空吸着口为长条形。

4、如权利要求1或2或3所说的叠层设备，其特征在于：真空吸着装置的真空吸着口的真空分散层为丝网。

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