CN2307798Y - 新型离子镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种镀膜设备,它包括真空室、工件转架、加热器、室壁上的阴极电弧蒸发源和连接真空抽气机组的法兰盘,它还包括真空室内的柱状靶或者中心加热器以及室壁上的平面磁控溅射靶和平面阴极电弧蒸发源。将室壁上三种工作形式的功能靶和真空室内的柱状靶或者中心加热器集为一体,具有一机多功能的特点,并镀涂均匀,结合力强,本实用新型增强了设备的使用功能,通用性好,且操作方便、工艺重复性好;本实用新型还具有设备结构简单和易于推广等优点。可广泛的用于机械、航空、航天、兵器和轻工等领域。
Description
本实用新型涉及一种镀履设备，特别是真空蒸发、溅射的镀履设备。
目前，镀制复合膜的过程中广泛应用多弧离子镀技术及磁控溅射离子镀技术的镀膜设备，上述用途的设备一般将两种不同工作方式的多弧源和溅射源分别安装在真空室内的底盘上和室壁上或者同时安装在真空室内进行镀制，但当被镀履面需涂镀多层膜、合金膜或者混合物膜层时，由于设备结构的局限性，需在多台装置中进行镀履或者是停机换靶进行镀履，造成操作不便，工艺重复性差，费工费时，很难得到涂镀均匀的优质膜层，使这些设备的应用受到了很大的限制。
本实用新型的目的在于提供一种使被镀表面能方便地制取金属膜或非金属膜、单层膜或多层膜，并且结构简单的新型离子镀膜设备。
本实用新型的目的是这样实现的：
它包括真空室及其室内安装的工件转架和加热器，真空室的室壁上安装的阴极电弧蒸发源和用于连接真空抽气机组的法兰盘，其特点是：它还包括设置在真空室内的柱状靶和安装在真空室室壁上的平面磁控溅射靶和平面阴极电弧蒸发源，其中柱状靶可以是一个或多个柱状磁控溅射靶或者是一个或多个柱状电弧蒸发源，并通过自身法兰盘和密封圈固定在真空室的顶盖或者底板上。
当需进行高温镀制薄膜时，可采用室内周边加热器加热工件或者拆下设置在真空室内的柱状靶，换上中心加热器，由中心加热器自身的法兰盘和密封圈固定在真空室的顶盖或底板上即可。从而达到在一次排空条件下，在同一真空室内，简单方便地制备各种单层膜或多层膜、金属膜或非金属膜的目的。
本实用新型只需在现有的离子镀膜设备的真空室内安装一种柱状靶或者中心加热器，室壁上增加平面磁控溅射靶和平面阴极电弧蒸发源，成为将室壁上三种工作型式的功能靶和真空室内的柱状靶或者中心加热器集为一体的新型离子镀膜设备，充分发挥电弧蒸发源和磁控溅射靶各自的优势，实现最隹组合，具有一机多功能的特点，并镀涂均匀；本实用新型增强了设备的使用功能，通用性好，且操作方便、工艺重复性好、结合力强；本实用新型还具有设备结构简单和易于推广等优点。
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步详述。
图1为本实用新型一种实施例的结构示意图；
图2为本实用新型又一种具体实施例的结构示意图。
参见附图1，本实用新型包括真空室13及其室内安装的工件转架11和加热器4，真空室的室壁2上固定安装的阴极电弧蒸发源14和用于连接真空抽气机组的法兰盘3，它还包括在真空室13内设置的柱状靶8和在室壁2上分别安装的平面磁控溅射靶15与平面阴极电弧蒸发源6。按上述方案，将一个柱状靶8沿真空室13的轴线方向安装在真空室13内的底板1上，并由柱状靶8自身的法兰盘和密封圈固定，柱状靶8是柱状磁控溅射靶。沿真空室13内的周边固定安装多个加热器4。平面磁控溅射靶15、平面阴极电弧蒸发源6和阴极电弧蒸发源14三者相间并接其功能分别固定安装在室壁2的四周，法兰盘10中心安装的动密封传动的工件转架11通过法兰盘10和密封圈12固定安装在真空室13的顶盖9上，工件转架11可以载着预先挂在它上面的工件7公自转，在室壁2的开口处安装有用于连接真空抽气机组的法兰盘3，使真空抽气机组与真空室13相联。工作时，当真空室13达到工作真空度要求时，工件转架11带动工件7公自转，阴极电弧蒸发源14、柱状磁控溅射靶8、平面磁控溅射靶15和平面阴极电弧蒸发源6各自接通冷却水，使其处在工作状态，经充气孔16向真空室13内充入所需的活性气体，上述各功能靶在接通驱动电源15后启动，根据镀涂要求，它们可以单独开启，也可以两种或两种以上同时开启，上述功能靶均与所用靶材、材质、形状、尺寸以及参数等无关，可以使工件7方便地获得均匀的金属膜或非金属膜、单层膜或多层膜，结构膜或功能膜。
参见附图2，当工件需进行高温加热烘烤进行镀制时，用真空室内周边安装的加热器4或者拆下设置在真空室13内的柱状磁控溅射靶8，换上中心加热器17，并通过中心加热器17自身的法兰盘和密封圈固定在真空室13的底板1上，接通中心加热器17的驱动电源5对工件7进行烘烤，并按上述技术方案进行镀涂即可，同样达到方便地镀制不同结构和不同材质的膜层的目的，并且镀层均匀、附着力强。
Claims (5)
1．一种新型离子镀膜设备，包括真空室(13)及其室内安装的工件转架(11)和加热器(4)，室壁(2)上安装的阴极电弧蒸发源(14)和连接真空抽气机组的法兰盘(3)，其特征在于：还包括设置在真空室(13)内的柱状靶(8)以及分别固定安装在室壁(2)上的平面磁控溅射靶(15)和平面阴极电弧蒸发源(6)。
2．根据权利要求1所述的新型离子镀膜设备，其特征在于：柱状靶(8)固定在真空室(13)的顶盖(9)或者底板(1)上。
3．根据权利要求1所述的新型离子镀膜设备，其特征在于：柱状靶(8)是一个或多个柱状磁控溅射靶或者是一个或多个柱状电弧蒸发源。
4．一种新型离子镀膜设备，包括真空室(13)及其室内安装的工件转架(11)和加热器(4)，室壁(2)上安装的阴极电弧蒸发源(14)和连接真空抽气机组的法兰盘(3)，其特征在于：还包括设置在真空室(13)内的中心加热器(17)以及分别固定安装在室壁(2)上的平面磁控溅射靶(15)和平面阴极电弧蒸发源(6)。
5．根据权利要求4所述的新型离子镀膜设备，其特征在于：中心加热源(17)固定在真空室(13)的顶盖(6)或底板(1)上。
Priority Applications (1)
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| CN 97250971 CN2307798Y (zh) | 1997-08-27 | 1997-08-27 | 新型离子镀膜设备 |
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| CN 97250971 Expired - Fee Related CN2307798Y (zh) | 1997-08-27 | 1997-08-27 | 新型离子镀膜设备 |
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| CN (1) | CN2307798Y (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1997
- 1997-08-27 CN CN 97250971 patent/CN2307798Y/zh not_active Expired - Fee Related
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