CN214572209U - 真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开真空镀膜设备，包括机架、镀膜室、用于放置待镀膜工件的工件转架，以及用于对镀膜室进行真空处理的真空系统，镀膜室安装在机架上，镀膜室内设有真空镀膜腔，真空系统与真空镀膜腔连接，工件转架转动安装在真空镀膜腔内，镀膜室的侧壁上安装有第一电弧靶源机构，真空镀膜腔内安装有第二电弧靶源机构，第一电弧靶源机构设置于工件转架的外侧，第二电弧靶源机构设置于工件转架的内部。通过在镀膜室的不同位置安装第一电弧靶源机构和第二电弧靶源机构，实现对悬挂转架或滚筒式转架上应用的不同工件镀膜的需要；可以对大小、形状不同的基材进行镀膜，例圆环形、颗粒形状的基材等等，一机多用，适用性广，成本较低。

Description

真空镀膜设备

技术领域

本实用新型为真空镀膜技术领域，具体涉及真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是一种由物理或者化学方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术可以用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；以及其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜、材料表面改性及工件表面覆膜等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工硬性。

现有的真空镀膜设备，一般只能针对同一型号的工件进行镀膜，适用性不高，如果要实现对不同工件的镀膜需要，就需要购置不同种类的真空镀膜机，导致生产成本较高。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供真空镀膜设备，包括机架、镀膜室、用于放置待镀膜工件的工件转架，以及用于对镀膜室进行真空处理的真空系统，所述镀膜室安装在机架上，所述镀膜室内设有真空镀膜腔，所述真空系统与真空镀膜腔连通，所述工件转架转动安装在真空镀膜腔内，所述镀膜室的侧壁上安装有第一电弧靶源机构，所述真空镀膜腔内安装有第二电弧靶源机构，所述第一电弧靶源机构设置于工件转架的外侧，所述第二电弧靶源机构设置于工件转架的内部。

通过在镀膜室的不同位置安装第一电弧靶源机构和第二电弧靶源机构，实现对不同材料及多种膜层的镀膜需要，还可以对大小、形状不同的基材进行镀膜，例圆环形、颗粒形状的基材等等，一机多用，适用性广，成本较低。

进一步地，所述镀膜室包括门板、镀膜筒体及端板，所述端板安装在镀膜筒体的前端，所述门板铰接在镀膜筒体的后端以配合打开或关闭真空镀膜腔，所述第一电弧靶源机构安装在镀膜筒体的侧壁上，所述第二电弧靶源机构安装在端板的内侧上。

进一步地，所述第一电弧靶源机构、第二电弧靶源机构为多弧离子镀膜单元，所述多弧离子镀膜单元包括靶材和引弧针，所述靶材和引弧针位于真空镀膜腔内，并设置在工件转架的周侧或内部，所述引弧针可升降地设置在靶材上，所述引弧针通过升降机构设置在靶材上。可将第一电弧靶源机构、第二电弧靶源机构设置成多弧离子镀膜单元、磁控溅射镀膜单元或真空蒸发镀膜单元中的一种或多种，集成多种镀膜方式于一体，大大提高了镀膜材料及工件的适用范围，通过设置多种靶材，可实现工件多层镀膜的需要。

进一步地，位于所述靶材一侧设置有磁场调节装置，所述磁场调节装置包括磁块，通过控制磁块与靶材之间的距离调节磁场；所述磁场调节装置还包括法兰，所述磁块设置在法兰内，还包括丝杆，所述丝杆与法兰螺纹连接，丝杆一端位于法兰内，且与磁块固定。

本实用新型增加了辅助阳极功能，能够降低电流，防止尖端放电，稳弧效果好。

进一步地，所述工件转架包括料架、支撑架且二者转动配合，料架包括前端盖、后端盖及中间连接体，前端盖中心处轴向开孔并在前端盖端面上同心设置第一齿轮圈，料架位于支撑架上，支撑架上对应前端盖、后端盖的位置处间隔设置至少两个第一转筒，以第一转筒支撑前端盖、后端盖。

中间连接体包括第一转轮、第一连接杆，前端盖与后端盖相对的面上相对设置多个第一转轮，位置相对的第一转轮之间设置第一连接杆，前端盖上第一转轮围绕轴向所开的孔分布，第一转轮包括转轴及与其连接的轮体，转轴转动设置在前端盖、后端盖上，前端盖上转轴的另一端自前端盖穿过并固定有齿轮。

前端盖对应的支撑架上设置传动机构，传动机构包括传动轮、传动轴、支架及第二齿轮圈，支架与支撑架固定，支架上设置第二齿轮圈，第二齿轮圈与第一齿轮圈同轴设置，在平行于前端盖的轴向方向上，传动轴转动连接在支撑架上，传动轴上固定传动轮，传动轮与第一齿轮圈啮合连接，转轴上齿轮与第二齿轮圈啮合连接。

本转架简化料架与支撑架的连接结构，以间隔分布的两个第一转筒支撑前、后端盖，前后端盖之间以中间连接体连接，并在料架外安装传动机构，以传动转轮及第一齿轮圈，具体而言，传动轴与外设的驱动装置进行连接提供动力，以传动轮驱使第一齿轮圈转动，同步使转轴上赤轮围绕第二齿轮圈转动，转轮同步自转，真空镀膜时，镀膜更均匀。

进一步地，所述工件转架包括料架、支撑架且二者转动配合，料架包括前端盖、后端盖及中间本体，前端盖中心处轴向开孔并在前端盖端面上同心设置第一齿轮圈，料架位于支撑架上，支撑架上对应前端盖、后端盖的位置处间隔设置至少两个第一转筒，以第一转筒支撑前端盖、后端盖。

还包括上限位机构及传动机构，上限位机构包括支架、第二转轮，支架与支撑架固定，支架的上部设置第二转轮，第二转轮伸入前端盖的轴向孔中并抵接孔壁。

前端盖对应的支撑架上设置传动机构，传动机构包括传动轮及传动轴，沿前端盖的轴向方向，传动轴转动连接在支撑架上，传动轴上固定传动轮，传动轮与第一齿轮圈啮合连接。

本转架简化料架与支撑架的连接结构，以间隔分布的两个第一转筒支撑前、后端盖，并以上限位机构中转轮下压限位前端盖，提高料架在支撑架上的稳定性，并以传动机构中传动轴与外设的驱动装置进行配合，使用时，可将转架移动至真空镀膜腔内，以传动轴与腔内驱动装置连接，进而使料架转动对中间本体上工件进行镀膜。

进一步地，所述支撑架包括弧形撑杆及第二连接杆，相对两弧形撑杆之间以多个第二连接杆固定为一体形成支撑架，弧形撑杆端面上两侧的位置均设置第一转筒，前端盖、后端盖侧面边缘抵接相对应的第一转筒。

进一步地，位于两侧的第二连接杆在与弧形撑杆连接的位置处设置第一转筒。

进一步地，所述端板的中部安装有配合插入工件转架内的法兰罩，所述第二电弧靶源机构安装在法兰罩上。

进一步地，所述支撑架滑动安装在镀膜筒体内，所述端板上安装有驱动组件，所述驱动组件与第一齿轮圈传动连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

1、结构简单，通过增加了可升降引弧针，当靶材由于电镀消耗的时候，其表面会下降，则控制升降机构，使得引弧针配合靶材下降，使其始终与靶材接触，进行靶材的电镀。

2、增加了磁场调节装置，能够在引弧时调节阳极稳定弧源，增加了镀膜时间。

3、将镀膜室设置成水平式的，真空镀膜设备可适应卧式悬挂转架或滚筒式转架等多种转架的使用，简化了工件转架的结构，方便组装成型，通过设置两个齿轮圈及齿轮，使料架具备公转及自转的功能，能多面镀膜，提高镀膜速度及均匀性。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的真空镀膜设备的立体图；

图2为本实用新型实施例提供的镀膜室的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的多弧离子镀膜单元的立体图；

图4为本实用新型实施例提供的多弧离子镀膜单元的截面示意图；

图5为本实用新型实施例提供的多弧离子镀膜单元的另一方位的立体图；

图6为本实用新型实施例提供的多弧离子镀膜单元中靶材消耗后的截面示意图；

图7为本实用新型实施例提供的多弧离子镀膜单元的另一实施例中靶材消耗后的截面示意图；

图8为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例1的结构示意图；

图9为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例1的另一方位的结构示意图；

图10为图8中的料架的结构示意图；

图11为图8中的第二转轮与齿轮的结构示意图；

图12为图8中的支撑架与车体的结构示意图。

图13为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例2的结构示意图；

图14为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例2的另一方位的结构示意图；

图15为图13中料架的结构示意图；

图16为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例3的结构示意图；

图17为本实用新型实施例提供的工件转架的实施例3中中间本体的结构示意图；

附图标记：60、机架；61、镀膜室；61a、真空镀膜腔；611、门板；612、镀膜筒体；612a、第一安装孔；613、端板；62、工件转架；63、真空系统；64、第一电弧靶源机构；641、靶材；642、引弧针；651、气缸；652、线圈，653、立杆，66、磁块；67、法兰；68、丝杆；69、横杆；70、盖体；71、工作平面；72、第一限位环；73、第二限位环；74、冷却腔室；75、冷却水进口；76、冷却水出口；77、法兰罩；78、冷却管；79、加热管；300、料架；301、支撑架；302、推车；303、传动机构；304、前端盖；305、后端盖；306、第一转轮；307、第一连接杆；308、柱体；309、挂杆；310、弧形撑杆；311、第一转筒；312、第一齿轮圈；313、支架；314、第二齿轮圈；315、齿轮；316、传动轴；317、凸柱；318、传动轮；319、轮体；320、转轴；321、第二连接杆；322、车体；323、滑杆；324、锁板；325、扶手；326、第二转筒；327、上限位机构；328、中间本体；329、第二转轮，330、筒体；331、刮板。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型，从而对本实用新型要求保护的范围作出更清楚地限定，下面就本实用新型的某些具体实施例对本实用新型进行详细描述。需要说明的是，以下仅是本实用新型构思的某些具体实施方式仅是本实用新型的一部分实施例，其中对于相关结构的具体的直接的描述仅是为方便理解本实用新型，各具体特征并不当然、直接地限定本实用新型的实施范围。

参阅附图1-2所示，本实用新型采用以下技术方案，一种真空镀膜设备，包括机架60、镀膜室61、用于放置待镀膜工件的工件转架62，以及用于对镀膜室61进行真空处理的真空系统63，镀膜室61安装在机架60上，镀膜室61内设有真空镀膜腔61a，真空系统63与真空镀膜腔61a连通，工件转架62转动安装在真空镀膜腔61a内，镀膜室61的侧壁上安装有第一电弧靶源机构64，真空镀膜腔61a内安装有第二电弧靶源机构，第一电弧靶源机构64设置于工件转架62的外侧，第二电弧靶源机构设置于工件转架62的内部。其中，真空镀膜腔61a内设有靶材加热组件。

如图3-6所示，优选地，第一电弧靶源机构64、第二电弧靶源机构为多弧离子镀膜单元，多弧离子镀膜单元包括靶材641和引弧针642，靶材641和引弧针642位于真空镀膜腔61a内，并设置在工件转架62的周侧或内部，引弧针642可升降地设置在靶材641上，引弧针642通过升降机构设置在靶材641上。其中，引弧针642为阴极。

具体的，升降机构包括气缸651，通过气缸651的设置使得在工作时，随着靶材641的消耗，控制气缸使得引弧针642配合靶材641下降，使引弧针642始终与靶材641保持接触，将靶材641溅射到真空环境中。还包括横杆69，横杆69的一端固定在气缸651的输出轴上，另一端固定有引弧针。当然也可使用电动升降杆、液压杆等其他可实现升降的装置来使得引弧针642进行升降。

如图7所示，作为升降机构65的另一种实现方式，升降机构包括线圈652，线圈652通电产生磁吸力以使引弧针642可升降地设置在靶材641上。

具体的，还包括立杆653和横杆69，横杆69的一端连接立杆653，另一端固定有引弧针642，线圈652通电产生的磁吸力以使立杆653下降。

具体的，位于靶材641一侧设置有磁场调节装置，磁场调节装置包括磁块66，通过控制磁块66与靶材641之间的距离调节磁场。较佳地，磁场调节装置和引弧针642分别位于靶材641的两侧。

其中，引弧针642与电源线连接。

具体的，磁场调节装置包括法兰67，磁块66设置在法兰67内，还包括丝杆68，丝杆68与法兰67螺纹连接，丝杆68一端位于法兰67内，且与磁块66固定。

较佳地，法兰67包括盖体70，盖体70上开设有与丝杆68螺纹连接的穿孔，盖体70与法兰67螺纹连接，通过转动丝杆68来实现磁块66与靶材641之间的距离。

较佳地，磁场调节装置一侧设有辅助阳极，增加了辅助阳极功能，能够降低电流，防止尖端放电，稳弧效果好。

其中，辅助阳极与机架60连接并接地。

值得一提的是，还可以使用气缸、液压缸等装置来实现磁块66和靶材641之间的距离调节。

还包括工作平面71，靶材641固定在工作平面71上，磁场调节装置固定在工作平面71下方。靶材641螺纹连接在工作平面71上。位于靶材641周侧的工作平面71上固定有第一限位环72，第一限位环72内螺纹连接有第二限位环73。

如图4、6所示，位于靶材641底部设置有冷却腔室74，冷却腔室74上开设有冷却水进口75和冷却水出口76，调节法兰67的外壁和工作平面71之间形成冷却腔室74，冷却水进口75和冷却水出口76开设在冷却腔室74的底部。

如图2所示，优选的，镀膜室61包括门板611、镀膜筒体612及端板613，端板613安装在镀膜筒体612的前端，门板611铰接在镀膜筒体612的后端以配合打开或关闭真空镀膜腔61a，第一电弧靶源机构64安装在镀膜筒体612的侧壁上，第二电弧靶源机构安装在端板613的内侧上。

具体的，镀膜筒体612上开设有用于安装电弧靶源机构64的第一安装孔612a，调节法兰67位于镀膜筒体612外。端板613的中心安装有沿轴向延伸的法兰罩77，法兰罩77配合插入工件转架62内，法兰罩77底部设有第二安装孔，第二电弧靶源机构64安装第二安装孔上，调节法兰67位于法兰罩77内，升降机构65穿设在镀膜筒体612的侧壁或法兰罩77上。镀膜筒体612的外壁上安装有与外部冷却装置连接的冷却管78，冷却管78位于镀膜筒体612侧壁上电弧靶源机构64的上方，冷却管78与冷却腔室74连通。靶材加热组件包括若干沿周向围绕工件转架62排列的加热管79，加热管79穿设在端板613上。

作为工件转架62的第一种实现方式，图8、图9为本新型工件转架不同角度的结构图，从图中可以看出，工件转架62包括料架300、支撑架301、传动机构303，料架300位于支撑架301上且二者转动配合，此外还可选择性增加推车302，以方便移动料架300及支撑架301。

参阅图8-图10，本实施例中，料架300包括前端盖304、后端盖305及中间连接体，其中前端盖304中心处轴向开孔并在前端盖304正面的端面上同心固定第一齿轮圈312，可选择焊接或螺钉等紧固方式，前端盖304上轴向开孔供电弧靶源机构64伸入以充分镀膜，当然也可在前后端盖上均轴向开孔。支撑架301滑动安装在镀膜筒体612内，端板613上安装有驱动组件，驱动组件与第一齿轮圈312传动连接。

本实施例中，中间连接体包括第一转轮306、第一连接杆307，前端盖304与后端盖305相对的面上相对安装多个第一转轮306，以前端盖304上第一转轮为例，第一转轮306围绕前端盖上轴向所开孔均匀分布，前后端盖上位置相对的第一转轮之间固定第一连接杆307，前端盖上第一转轮围绕轴向所开的孔分布，如图11所示，第一转轮包括转轴320及与其端部连接的轮体319，转轴通过轴承转动安装在前、后端盖对应所开孔中上，前端盖上转轴的另一端自前端盖穿过并固定有齿轮315，后端盖上转轴的端部可选择性安装齿轮，对于第一连接杆的安装，如在轮体围绕中心处成型多个柱体308，柱体端部开孔以插入第一连接杆。

本实施例中，前端盖对应的支撑架上安装传动机构，传动机构包括传动轮、传动轴316、支架及第二齿轮圈，支架位于前端盖前方的支撑架上，如图12所示，可选择以两根长杆间隔并列形成支架313，间隔的空隙中方便靶源伸入，长杆可采用弧形，如半环体，两个半环体长杆相对称固定，中间间隙扩大有利于靶源伸入，支架313上部固定第二齿轮圈314，如螺钉、焊接等，第二齿轮圈与第一齿轮圈为同轴式固定，即中心处于同一轴线上，在平行于前端盖的轴向方向上，传动轴通过轴承转动安装在第一齿轮圈下方的支撑架上，传动轴端部固定传动轮318，传动轮与第一齿轮圈啮合连接，转轴上固定的齿轮与第二齿轮圈啮合连接，如图8所示，齿轮围绕在第二齿轮圈周侧，使用时，以传动轴与真空镀膜腔内的驱动组件等对接，当然为对接方便，在传动轴的端部面上间隔均匀固定有多个凸柱317，如图12中所示，围绕传动轴的中心间隔均匀分布三个凸柱317，类齿牙的结构方便直接插接配合。可对悬挂于工件转架上的耳环、项链等饰品进行镀膜操作。

图8、图9展示了料架与支撑架的连接结构，如图示，料架直接放置在支撑架上，支撑架上对应前、后端盖的位置处间隔安装两个第一转筒311，以两个第一转筒形成架体以支撑前、后端盖，第一转筒311为转动式安装在支撑架的筒体，如端盖上固定轴体，轴体上套第一转筒，当然优选在第一转筒与轴体件安装轴承，端盖与第一转筒滚动配合，降低摩擦力，此外第一转筒也可以类似的滚轮、柱体等替换。

图12展示了不同角度下支撑架与推车的连接结构，具体而言，支撑架包括弧形撑杆310及第二连接杆，相对两弧形撑杆之间以多个第二连接杆321固定为一体形成支撑架，弧形撑杆端面上两侧的位置均安装第一转筒，前、后端盖侧面边缘抵接相对应的第一转筒，如图8、图9所示，第一转筒可直接安装在弧形撑杆上，在第二连接杆在与弧形撑杆连接的端部处一侧直接安装第一转筒，还可在第二连接杆上套合安装第一转筒，根据需要选择，此外优选第一转筒为阶梯型结构，如二级、三级等阶梯型，其中低位阶面位于高位阶面与弧形撑杆对应面之间，低位阶面与对应的前、后端盖边缘抵接，以阶梯型第一转筒配合弧形撑杆对应面形成槽体，以槽体可限位端盖的轴向移动，在纵向上，齿轮与第二齿轮圈配合限位，本方案下，传动轴安装在弧形撑杆上所开的孔中。

本实施例中，可选择性使用的推车包括车体322及车体底部的滚轮，车体的顶面两侧固定滑杆，支撑架位于滑杆323上，且弧形撑杆两侧分别安装第二转筒326，第二转筒沿滑杆移动，还可在推车上安装扶手325，扶手两侧倾斜向下与滑杆首端固定，滑杆的尾端一侧铰接锁板324，如通过耳板铰接锁板，翻转锁板至滑杆顶面上以限位第二转筒326，增加扶手及锁板以限位支撑架，且施力扶手方便移动。

较佳地，镀膜筒体612内壁上相对安装有滑轨(图中未示出)，第二转筒326滑动设于滑轨上，滑杆323与滑轨齐平设置，便于将工件转架62快速从推车302上快速转移到镀膜筒体612内。

此外，实施时，还可以选择性增加挂杆309，以挂杆连接前、后端盖，如图8、图9中所示，挂杆在转轮外侧，同样环绕端盖上轴向开孔固定，可将工件挂载在挂杆上并随之转动，挂杆提高前后端盖之间的稳定性，还可方便转轮的转动。

使用时，通过推车将支撑架、料架移动至真空镀膜腔的腔口处，在第二转筒配合，将支撑架推入镀膜腔内，靶源自端盖得轴向开孔伸入，以传动轴与镀膜腔内的驱动装置对接，传动轮同步转动，第一齿轮圈及第一转轮进行公转，在第二齿轮圈的作用下，第一转轮开始自转，如具体使用时，在第一转轮之间的连接杆上套环形工件，则在公转、自转的同时，环形工件本身也在转动，镀膜更均匀全面。

作为工件转架的第二种实现方式，与工件转架的实施例1相比，本实施例中中间本体与实施例1的中间连接体的结构及两者的传动机构的结构有所不同。图13、图14为本实施例中工件转架在不同视角下的结构图，从图中可以看出，工件转架62包括料架300、支撑架301、上限位机构327及传动机构303，料架300与支撑架301二者转动配合，此外还可选择性增加推车302，以方便移动料架300及支撑架301。

参考图13-15，图中显示，料架包括圆形前端盖304、后端盖305及中间本体328，本实施例中以若干挂杆309组成中间本体328，如将挂杆的前后端部与对应的前后端盖固定，以焊接或螺栓、螺钉等固定，使用时，可将工件挂载在挂杆上并随之转动。可对悬挂于工件转架上的耳环、项链等饰品进行镀膜操作。

本实施例中，在前端盖中心处轴向开孔并在前端盖端面上同心固定第一齿轮圈312，如在前端盖的正面上固定第一齿轮圈，同样可选择焊接或螺钉等紧固方式，本实施例中挂杆围绕中心轴向开孔进行固定，轴向开孔供电弧靶源机构64伸入以充分镀膜，优选在前后端盖中心处均轴向开孔。

从图13、图14、图16中可以看出，料架直接放置在支撑架上，支撑架上对应前、后端盖的位置处间隔安装两个第一转筒311，以两个第一转筒形成架体以支撑前、后端盖，第一转筒为转动式安装在支撑架的筒体，如端盖上固定轴体，轴体上套第一转筒，当然优选在第一转筒与轴体件安装轴承，端盖与第一转筒滚动配合，降低摩擦力，此外第一转筒也可以类似的滚轮、柱体等替换。

支撑架优选图16所示的简化结构，具体而言，支撑架301包括弧形撑杆310及第二连接杆321，相对两弧形撑杆之间以多个第二连接杆固定为一体形成支撑架，弧形撑杆端面上两侧的位置均安装第一转筒311，前、后端盖侧面边缘抵接相对应的第一转筒，如图13、图14所示，第一转筒可直接安装在弧形撑杆上，在第二连接杆在与弧形撑杆连接的端部处一侧直接安装第一转筒，还可在第二连接杆上套合安装第一转筒，根据需要选择，此外优选第一转筒为阶梯型结构，如二级、三级等阶梯型，其中低位阶面位于高位阶面与弧形撑杆对应面之间，低位阶面与对应的前、后端盖边缘抵接，以阶梯型第一转筒配合弧形撑杆对应面形成槽体，以槽体可限位端盖的轴向移动，提高稳定性。

参考图13、图14、图16，本工件转架62的上限位机构包括支架313、第二转轮329，支架313与支撑架301固定，支架的上部安装第二转轮，第二转轮伸入前端盖的轴向孔中并抵接孔壁，以第二转轮限制料架的上移，支架的形状可根据需要选择，如图15中所示的矩形架体，矩形架体直接固定在弧形撑杆上。

参考图13、图14、图16，前端盖对应的支撑架上安装传动机构303，传动机构包括传动轮318及传动轴316，沿前端盖304的轴向方向，传动轴通过轴承转动式安装在支撑架301的弧形撑杆上所开的孔中，传动轴端部上固定传动轮，传动轮与第一齿轮圈312啮合连接，以传动轴与真空镀膜腔内的驱动装置等对接，当然为对接方便，在传动轴的端部面上间隔均匀固定有多个凸柱317，如图14中所示，围绕传动轴的中心间隔均匀分布三个凸柱317，类齿牙的结构方便直接插接配合。端板613上设有与凸柱317相适配插接的插接槽。

推车302的结构优选采用图13、图16所示结构，包括车体322及车体底部的滚轮，车体的顶面两侧固定滑杆323，支撑架位于滑杆上，且弧形撑杆两侧分别安装第二转筒326，第二转筒沿滑杆移动，还可在推车上安装扶手325，扶手两侧倾斜向下与滑杆首端固定，滑杆的尾端一侧铰接锁板324，如通过耳板铰接锁板，翻转锁板至滑杆顶面上以限位第二转筒，增加扶手及锁板以限位支撑架，且施力扶手方便移动。

作为工件转架62的第三种实现方式，与工件转架的实施例2相比，本实施例中中间本体328为筒体330，筒体两端分别与前、后端盖固定，筒体腔内放置工件，如图17所示，筒体两端或前端轴向开孔以供靶源伸入，转动筒体过程中翻动工件进行镀膜，筒体内还可间隔固定刮板321，如环绕筒体腔内壁间隔固定多个刮板，刮板沿筒体轴向延伸，在筒体转动时，以刮板推动筒腔内滚珠工件随筒体同步大幅度移动，有利于工件镀膜。

本工件转架使用时，以推车将料架等架移动至真空镀膜腔口处，推动支撑架使其移至镀膜腔内，以传动轴与腔内驱动装置连接，进而使料架转动对中间本体上工件进行镀膜，镀膜完成后，将支撑架连同料架自真空镀膜腔内移至推车上，可快速移动至卸料及上料位置，第二转筒与滑杆配合，方便移动。

上述说明并非是对本实用新型的限制，本实用新型也并不仅限于上述举例，本技术领域的技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也应属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种真空镀膜设备，其特征在于：包括机架(60)、镀膜室(61)、用于放置待镀膜工件的工件转架(62)，以及用于对镀膜室(61)进行真空处理的真空系统(63)，所述镀膜室(61)安装在机架(60)上，所述镀膜室(61)内设有真空镀膜腔(61a)，所述真空系统(63)与真空镀膜腔(61a)连通，所述工件转架(62)转动安装在真空镀膜腔(61a)内，所述镀膜室(61)的侧壁上安装有第一电弧靶源机构(64)，所述真空镀膜腔(61a)内安装有第二电弧靶源机构，所述第一电弧靶源机构(64)设置于工件转架(62)的外侧，所述第二电弧靶源机构设置于工件转架(62)的内部。

2.如权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(61)包括门板(611)、镀膜筒体(612)及端板(613)，所述端板(613)安装在镀膜筒体(612)的前端，所述门板(611)铰接在镀膜筒体(612)的后端以配合打开或关闭真空镀膜腔(61a)，所述第一电弧靶源机构(64)安装在镀膜筒体(612)的侧壁上，所述第二电弧靶源机构安装在端板(613)的内侧上。

3.如权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述第一电弧靶源机构(64)、第二电弧靶源机构均为多弧离子镀膜单元，所述多弧离子镀膜单元包括靶材(641)和引弧针(642)，所述靶材(641)和引弧针(642)位于真空镀膜腔(61a)内，并设置在工件转架(62)的周侧或内部，所述引弧针(642)可升降地设置在靶材(641)上，所述引弧针(642)通过升降机构设置在靶材(641)上。

4.如权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于：位于所述靶材(641)一侧设置有磁场调节装置，所述磁场调节装置包括磁块(66)，通过控制磁块(66)与靶材(641)之间的距离调节磁场；

所述磁场调节装置还包括法兰(67)，所述磁块(66)设置在法兰(67)内，还包括丝杆(68)，所述丝杆(68)与法兰(67)螺纹连接，丝杆(68)一端位于法兰(67)内，且与磁块(66)固定。

5.如权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述工件转架(62)包括料架(300)、支撑架(301)且二者转动配合，料架(300)包括前端盖(304)、后端盖(305)及中间连接体，前端盖(304)中心处轴向开孔并在前端盖(304)端面上同心设置第一齿轮圈(312)，料架(300)位于支撑架(301)上，支撑架(301)上对应前端盖(304)、后端盖(305)的位置处间隔设置至少两个第一转筒(311)，以第一转筒(311)支撑前端盖(304)、后端盖(305)；

中间连接体包括第一转轮(306)、第一连接杆(307)，前端盖(304)与后端盖(305) 相对的面上相对设置多个第一转轮(306)，位置相对的第一转轮(306)之间设置第一连接杆(307)，前端盖(304)上第一转轮(306)围绕轴向所开的孔分布，第一转轮(306)包括转轴(320)及与其连接的轮体(319)，转轴(320)转动设置在前端盖(304)、后端盖(305)上，前端盖(304)上转轴(320)的另一端自前端盖(304)穿过并固定有齿轮(315)；

前端盖(304)对应的支撑架(301)上设置传动机构(303)，传动机构(303)包括传动轮(318)、传动轴(316)、支架(313)及第二齿轮圈(314)，支架(313)与支撑架(301)固定，支架(313)上设置第二齿轮圈(314)，第二齿轮圈(314)与第一齿轮圈(312)同轴设置，在平行于前端盖(304)的轴向方向上，传动轴(316)转动连接在支撑架(301)上，传动轴(316)上固定传动轮(318)，传动轮(318)与第一齿轮圈(312)啮合连接，转轴(320)上齿轮(315)与第二齿轮圈(314)啮合连接。

6.如权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述工件转架(62)包括料架(300)、支撑架(301)且二者转动配合，料架(300)包括前端盖(304)、后端盖(305)及中间本体(328)，前端盖(304)中心处轴向开孔并在前端盖(304)端面上同心设置第一齿轮圈(312)，料架(300)位于支撑架(301)上，支撑架(301)上对应前端盖(304)、后端盖(305)的位置处间隔设置至少两个第一转筒(311)，以第一转筒(311)支撑前端盖(304)、后端盖(305)；

还包括上限位机构(327)及传动机构(303)，上限位机构(327)包括支架(313)、第二转轮(329)，支架(313)与支撑架(301)固定，支架(313)的上部设置第二转轮(329)，第二转轮(329)伸入前端盖(304)的轴向孔中并抵接孔壁；

前端盖(304)对应的支撑架(301)上设置传动机构(303)，传动机构(303)包括传动轮(318)及传动轴(316)，沿前端盖(304)的轴向方向，传动轴(316)转动连接在支撑架(301)上，传动轴(316)上固定传动轮(318)，传动轮(318)与第一齿轮圈(312)啮合连接。

7.如权利要求5或6所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述支撑架(301)包括弧形撑杆(310)及第二连接杆(321)，相对两弧形撑杆(310)之间以多个第二连接杆(321)固定为一体形成支撑架(301)，弧形撑杆(310)端面上两侧的位置均设置第一转筒(311)，前端盖(304)、后端盖(305)侧面边缘抵接相对应的第一转筒(311)。

8.如权利要求7所述的真空镀膜设备，其特征在于：位于两侧的第二连接杆(321)在与弧形撑杆(310)连接的位置处设置第一转筒(311)。

9.如权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述端板(613)的中部安装有配合插入工件转架(62)内的法兰罩(77)，所述第二电弧靶源机构安装在法兰罩(77)上。

10.如权利要求5或6所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述支撑架(301)滑动安装在镀膜筒体(612)内，所述端板(613)上安装有驱动组件，所述驱动组件与第一齿轮圈(312)传动连接。

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