CN221304594U - 一种硅片清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种硅片清洗设备，包括承载待清洗硅片的上料台、对硅片进行清洗的单元框体、载片花篮、对所述载片花篮进行输送的输送装置和下料台；所述单元框体包括主框体、位于所述主框体内的若干个工艺槽、气液管道和管路配置区；该结构新颖灵活，安装方便可根据市场的要求灵活处理产能和设备布局间的平衡问题，避免了槽式设备研发设计中“高不成低不就”的情况，不造成资源浪费，也弥补了链式设备高不良率的缺点。

Description

一种硅片清洗设备

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池制造领域，尤其是一种硅片清洗设备。

背景技术

现有的槽式清洗设备在产能方面的优化难度日益增加，大尺寸片对工艺槽的药液容积、药液均匀性、换液周期以及槽体尺寸都有更高要求。片在工艺槽中的处理时间固定，后期产能的提升需要用降低生产节拍和不断增加工艺槽数量的方式来弥补，工艺槽的增加导致设备长度暴增；为了达到节拍要求，运载机械手需要提速来实现，从而影响设备稳定性，工艺槽数量的改动也会影响设备体积，同时造成一定的厂务资源浪费。

链式清洗设备传送过程中硅片不断跟滚轴发生摩擦、接触，容易导致较高的片不良率的产生，市场对大尺寸片的采用会将该类设备的缺点展示得更加明显；后期若要提升产能，需要通过提高传送速度增加设备长度以及增加单排片数来实现，但也会导致更多厂务资源浪费和不良片的增加。

有鉴于此，本发明人对上述问题进行深入研究，逐由本案产生。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗设备，解决在生产资源浪费及良品率不高等问题。

为了解决上述问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种硅片清洗设备，包括承载待清洗硅片的上料台、对硅片进行清洗的单元框体、载片花篮、对所述载片花篮进行输送的输送装置和下料台；所述单元框体包括主框体、位于所述主框体内的若干个工艺槽、气液管道和管路配置区。

优选地，所述单元框体还设有前防护门和后防护门；所述前防护门和后防护门分别设于所述主框体的前后两面。

优选地，所述输送装置包括于处于所述主框体上的移载导轨、可在所述移载导轨上活动的移载车和与所述移载车相连的机械手。

优选地，所述单元框体还设有排风口，所述排风口位于所述主框体上方。

优选地，所述工艺槽包括槽体、位于所述槽体上的槽盖、位于所述槽体内的输送机构和对所述输送机构提供动力的输送动力源。

优选地，所述工艺槽还设有匀流板。

通过采用上述的技术方案，本实用新型的有益效果是：

本设计利利用湿花篮作为硅片的载体，在不同的工艺腔室内采用链传动形式对载片花篮进行传输，工艺时间根据花篮行进速度可调；可根据市场的要求灵活处理产能和设备布局间的平衡问题，避免了槽式设备研发设计中“高不成低不就”的情况，不造成资源浪费，也弥补了链式设备高不良率的缺点，可以更好的适应设备的更新换代过程，有利于适应未来的异质结太阳能电池行业市场需求。

附图说明

图1是本实用新型整体结构立体示意图。

图2是本实用新型单元框体及输送装置结构示意图。

图3是本实用新型单元框体示意图。

图4是本实用新型整体结构平面示意图。

附图标记说明：

10-上料台、101-载片花篮、20-单元框体、201-主框体、202-后防护门、203-移载轨道、204-前防护门、205-排风口、210-工艺槽、211-槽盖、212-输送机构、213-上料位、214-等待位、215输送动力源、216-匀流板、30-下料台、401-机械手、402-移载车、50气液管道、51-管道配置区。

具体实施方式

为使发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本实用新型提供了一种硅片清洗设备，包括承载待清洗硅片的上料台10、对硅片进行清洗的单元框体20、载片花篮101、对载片花篮101进行输送的输送装置和下料台30；单元框体20包括主框体201、位于主框体201内的若干个工艺槽210、气液管道50和管路配置区51。

进一步地，单元框体201还设有前防护门204和后防护门202；前防护门204和后防护门202分别设于主框体201的前后两面。

进一步地，输送装置包括于处于主框体201上的移载导轨203、可在移载导轨203上活动的移载车402和与移载车402相连的机械手401。

进一步地，单元框体20还设有排风口205，排风口205位于主框体201上方。

进一步地，工艺槽210包括槽体、位于槽体上的槽盖211、位于槽体内的输送机构212和对输送机构212提供动力的输送动力源215。

进一步地，工艺槽210还设有匀流板216。

上料台10在单元框体20的前端，下料台30在单元框体的末端；单元框体20顶部配置有排风口205，用以排净设备内部被药液挥发气体所污染的空气，保持硅片工作环境的洁净度。

工艺槽210位于单元框体20内，单元框体20背面设置有后防护门202，单元框体20正面设置有前防护门204，后防护门202与工艺槽210之间的空间是管路配置区51；上料位213位于工艺槽210前端，等待位214位于工艺槽210末端；工艺槽210内部配有输送机构212，输送机构212的行程覆盖了包括上料位213和等待位214在内的整个工艺槽210内部区域；工艺槽210底部设置有匀流板216，工艺槽210顶端配置有槽盖211，防止药液过快挥发；移载车402可以在移载轨道203上沿着设备前后方面任意移动，移载车402上配置带升降功能的机械手401。

管路配置区51通过气液管道50将工艺药液或气体通过匀流板216均布流进并装满工艺槽210；位于工艺槽210侧边的输送动力源215带动输送机构212传动，可将放置在输送机构212上的载片花篮101从上料位213传送到等待位214。

载片花篮101被放置在上料台10的待料位置；移载车402在移载轨道203上移动，利用机械手401将待料位置的载片花篮101移载到工艺槽210的上料位213，并放置在工艺槽210的输送机构212上；输送机构212利用工艺槽210内的输送动力源215提供转矩，将放置在上料位213的载片花篮101传送到工艺槽210的等待位214。

第二辆移载车402利用机械手401，将工艺槽210的等待位214上的载片花篮101移载到下一个工艺槽210的上料位213，并放置在下一个工艺槽210的输送机构212上；输送机构212利用工艺槽210内的输送动力源215提供转矩，将放置在工艺槽210上料位213的载片花篮101传送到工艺槽210的等待位214。

按照上述模式，花篮经过工艺处理并烘干后，最后一个移载车402利用机械手401将最后一个工艺槽210中等待位214的载片花篮101搬运到下料台30，硅片清洗完成。

利用湿花篮作为硅片的载体，在不同的工艺腔室内采用链传动形式对花篮进行传输，花篮中的硅片在槽体内部的药液中向前缓慢行进，工艺时间根据花篮行进速度可调，当花篮行进到末端等待位时，硅片刚好达到工艺时间，机械手将等待位上的花篮连同硅片一起搬运到相邻的下一道工艺的槽室中，接着花篮继续被传送到下一个末端等待位。按照该模式，花篮经过一定顺序的工艺处理后，机械手将最后槽室中被烘干的花篮从等待位搬运到下料台。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (6)

1.一种硅片清洗设备，其特征在于：包括承载待清洗硅片的上料台、对硅片进行清洗的单元框体、载片花篮、对所述载片花篮进行输送的输送装置和下料台；所述单元框体包括主框体、位于所述主框体内的若干个工艺槽、气液管道和管路配置区。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述单元框体还设有前防护门和后防护门；所述前防护门和后防护门分别设于所述主框体的前后两面。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述输送装置包括于处于所述主框体上的移载导轨、可在所述移载导轨上活动的移载车和与所述移载车相连的机械手。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述单元框体还设有排风口，所述排风口位于所述主框体上方。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述工艺槽包括槽体、位于所述槽体上的槽盖、位于所述槽体内的输送机构和对所述输送机构提供动力的输送动力源。

6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述工艺槽还设有匀流板。