CN220873549U - 一种晶圆盘扩膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种晶圆盘扩膜装置，涉及晶圆盘加工技术领域，包括工作台，所述工作台的顶部靠近一侧边缘处设置有垫盘，所述工作台的内部开设有内腔，所述垫盘的顶部沿圆周方向等距开设有多个存放槽，多个所述存放槽的底部均开设有贯穿至内腔中的气道，多个所述存放槽的内部均设置有海绵缓冲垫，多个所述海绵缓冲垫的顶部均延伸至垫盘的上方，本实用新型，将海绵缓冲垫的顶部延伸至垫盘的上方，同时在弧形条的底部开设多个侧口，使得在晶圆盘本体放置时通过多个气道内部的负压进行吸附，在吸附时通过海绵缓冲垫与晶圆盘本体相互支持缓冲，从而可以防止在吸附贴合时晶圆盘本体的底部直接与垫盘的顶部相互贴合。

Description

一种晶圆盘扩膜装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆盘加工技术领域，具体是一种晶圆盘扩膜装置。

背景技术

晶圆盘扩膜装置是一种在半导体晶圆盘进行扩膜装置，这种扩膜具有把划好片的晶片扩开间隙，方便绑定头吸取的作用，通过这种扩膜可以大大增加取片的成功率。

但是目前在扩膜前需要先对半导体晶圆盘进行吸附固定，现有的吸附设备通常会使用气动吸盘对半导体晶圆盘进行吸附，但是在吸附的过程中为直接贴合吸附，会在半导体晶圆盘落向吸附盘时在负压的作用下将半导体晶圆盘瞬间吸附，瞬间吸附会导致半导体晶圆盘与接触面之间产生冲击力，很容易造成半导体晶圆盘开裂。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的问题，而提出的一种晶圆盘扩膜装置。

(二)技术方案

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种晶圆盘扩膜装置，包括工作台，所述工作台的顶部靠近一侧边缘处设置有垫盘，所述工作台的内部开设有内腔，所述垫盘的顶部沿圆周方向等距开设有多个存放槽，多个所述存放槽的底部均开设有贯穿至内腔中的气道，多个所述存放槽的内部均设置有海绵缓冲垫，多个所述海绵缓冲垫的顶部均延伸至垫盘的上方。

优选的，所述垫盘的顶部靠近两侧边缘处均固定有弧形条，两个所述弧形条的相对一端之间均留有间隙，两个所述弧形条的底部均开设有多个侧口。

优选的，所述工作台的前侧固定有对接管，所述对接管的一端延伸至内腔的内部。

优选的，所述工作台的底部位于四个拐角处均固定有橡胶垫，所述工作台的后侧等距固定有多个对接柱。

优选的，所述工作台的一侧开设有滑槽，所述滑槽的内部滑动连接有滑块，所述滑块的一侧固定有折弯臂，所述折弯臂的一端延伸至垫盘的上方，所述折弯臂的一端固定有对接盘。

优选的，所述垫盘的顶部设置有晶圆盘本体，所述晶圆盘本体的两侧均固定有卡块，两个所述卡块均对应卡合在两个弧形条的相对一端之间。

优选的，所述工作台的顶部靠近另一侧边缘处设置有显示屏。

(三)有益效果

1、本实用新型中，将海绵缓冲垫的顶部延伸至垫盘的上方，同时在弧形条的底部开设多个侧口，使得在晶圆盘本体放置时通过多个气道内部的负压进行吸附，在吸附时通过海绵缓冲垫与晶圆盘本体相互支持缓冲，从而可以防止在吸附贴合时晶圆盘本体的底部直接与垫盘的顶部相互贴合。

2、本实用新型中，在工作台的内部开设内腔，便于和多个气道连接，同时在对接管与外部负压设备连接时可以将负压导入内腔的内部，在弧形条的底部开设多个侧口，使得可以在放置晶圆盘本体时，防止边缘处产生密闭空间，同时将晶圆盘本体上的卡块卡合在两个弧形条相对一端之间的间隙内部，使得可以对晶圆盘本体进行限位，将折弯臂通过滑块滑动连接在滑槽的内部，使得便于移动，同时在折弯臂的一端固定对接盘，便于和外部扩膜装置连接对晶圆盘本体进行加工。

附图说明

图1为本实用新型提出一种晶圆盘扩膜装置的俯视立体结构示意图；

图2为本实用新型提出一种晶圆盘扩膜装置的剖视立体结构示意图；

图3为本实用新型图2中A处的放大视图。

图中：

1、工作台；2、显示屏；3、对接管；4、滑槽；5、滑块；6、折弯臂；7、晶圆盘本体；8、卡块；9、对接盘；10、弧形条；11、垫盘；12、橡胶垫；13、对接柱；14、内腔；15、气道；16、存放槽；17、海绵缓冲垫；18、侧口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

如图1-3所示，一种晶圆盘扩膜装置，包括工作台1，工作台1的顶部靠近一侧边缘处设置有垫盘11，工作台1的内部开设有内腔14，垫盘11的顶部沿圆周方向等距开设有多个存放槽16，多个存放槽16的底部均开设有贯穿至内腔14中的气道15，多个存放槽16的内部均设置有海绵缓冲垫17，多个海绵缓冲垫17的顶部均延伸至垫盘11的上方；

使用时，将海绵缓冲垫17的顶部延伸至垫盘11的上方，同时在弧形条10的底部开设多个侧口18，使得在晶圆盘本体7放置时通过多个气道15内部的负压进行吸附，在吸附时通过海绵缓冲垫17与晶圆盘本体7相互支持缓冲，从而可以防止在吸附贴合时晶圆盘本体7的底部直接与垫盘11的顶部相互贴合。

进一步的，垫盘11的顶部靠近两侧边缘处均固定有弧形条10，两个弧形条10的相对一端之间均留有间隙，两个弧形条10的底部均开设有多个侧口18，通过两个弧形条10的相对一端之间的间隙可以对卡块8进行卡合限位。

为了将外部负压设备产生的负压连通至内腔14的内部，在工作台1的前侧固定有对接管3，对接管3的一端延伸至内腔14的内部；

使用时，工作台1的底部位于四个拐角处均固定有橡胶垫12，工作台1的后侧等距固定有多个对接柱13，工作台1的一侧开设有滑槽4，滑槽4的内部滑动连接有滑块5，滑块5的一侧固定有折弯臂6，折弯臂6的一端延伸至垫盘11的上方，折弯臂6的一端固定有对接盘9，垫盘11的顶部设置有晶圆盘本体7，晶圆盘本体7的两侧均固定有卡块8，两个卡块8均对应卡合在两个弧形条10的相对一端之间，工作台1的顶部靠近另一侧边缘处设置有显示屏2。

在工作台1的内部开设内腔14，便于和多个气道15连接，同时在对接管3与外部负压设备连接时可以将负压导入内腔14的内部，在弧形条10的底部开设多个侧口18，使得可以在放置晶圆盘本体7时，防止边缘处产生密闭空间，同时将晶圆盘本体7上的卡块8卡合在两个弧形条10相对一端之间的间隙内部，使得可以对晶圆盘本体7进行限位；

将折弯臂6通过滑块5滑动连接在滑槽4的内部，使得便于移动，同时在折弯臂6的一端固定对接盘9，便于和外部扩膜装置连接对晶圆盘本体7进行加工。

工作原理，在使用时，将海绵缓冲垫17的顶部延伸至垫盘11的上方，同时在弧形条10的底部开设多个侧口18，使得在晶圆盘本体7放置时通过多个气道15内部的负压进行吸附，在吸附时通过海绵缓冲垫17与晶圆盘本体7相互支持缓冲，从而可以防止在吸附贴合时晶圆盘本体7的底部直接与垫盘11的顶部相互贴合，在工作台1的内部开设内腔14，便于和多个气道15连接，同时在对接管3与外部负压设备连接时可以将负压导入内腔14的内部，在弧形条10的底部开设多个侧口18，使得可以在放置晶圆盘本体7时，防止边缘处产生密闭空间，同时将晶圆盘本体7上的卡块8卡合在两个弧形条10相对一端之间的间隙内部，使得可以对晶圆盘本体7进行限位，将折弯臂6通过滑块5滑动连接在滑槽4的内部，使得便于移动，同时在折弯臂6的一端固定对接盘9，便于和外部扩膜装置连接对晶圆盘本体7进行加工。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种晶圆盘扩膜装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的顶部靠近一侧边缘处设置有垫盘(11)，所述工作台(1)的内部开设有内腔(14)，所述垫盘(11)的顶部沿圆周方向等距开设有多个存放槽(16)，多个所述存放槽(16)的底部均开设有贯穿至内腔(14)中的气道(15)，多个所述存放槽(16)的内部均设置有海绵缓冲垫(17)，多个所述海绵缓冲垫(17)的顶部均延伸至垫盘(11)的上方。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述垫盘(11)的顶部靠近两侧边缘处均固定有弧形条(10)，两个所述弧形条(10)的相对一端之间均留有间隙，两个所述弧形条(10)的底部均开设有多个侧口(18)。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述工作台(1)的前侧固定有对接管(3)，所述对接管(3)的一端延伸至内腔(14)的内部。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述工作台(1)的底部位于四个拐角处均固定有橡胶垫(12)，所述工作台(1)的后侧等距固定有多个对接柱(13)。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述工作台(1)的一侧开设有滑槽(4)，所述滑槽(4)的内部滑动连接有滑块(5)，所述滑块(5)的一侧固定有折弯臂(6)，所述折弯臂(6)的一端延伸至垫盘(11)的上方，所述折弯臂(6)的一端固定有对接盘(9)。

6.根据权利要求2所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述垫盘(11)的顶部设置有晶圆盘本体(7)，所述晶圆盘本体(7)的两侧均固定有卡块(8)，两个所述卡块(8)均对应卡合在两个弧形条(10)的相对一端之间。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆盘扩膜装置，其特征在于：所述工作台(1)的顶部靠近另一侧边缘处设置有显示屏(2)。