CN220755059U - 一种盆架平面度整形工装 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种盆架平面度整形工装，包括底板和放置槽，所述放置槽设置在所述底板上，所述放置槽内设置有用于抵触边华司底面的吸附平面，所述吸附平面上间隔设有多个真空吸盘。本盆架平面度整形工装结构简单、便于加工，利用真空吸盘将盆架上的华司吸附并固定在吸附平面上，实现盆架的平面度整形，有利于保证磁路组件和振动组件的装配精度，有利于保证扬声器的声学性能，有利于提升产品良率，当需要将产品取出时，只需要断开真空吸盘上的负压吸附即可松开，操作简单，使用方便。
Description
技术领域
本实用新型扬声器技术领域，尤其涉及一种盆架平面度整形工装。
背景技术
现有技术中，微型扬声器一般包括盆架以及分别安装于盆架上的磁路组件和振动组件，盆架上设有用于安装边磁钢的边华司，盆架与边华司为一体加工成型的一体式结构，加工方式包括但不限于注塑、热压等。随着微电子设备越来越轻薄化，对微型扬声器的整体厚度也要求越来越薄，因此，一些扬声器的盆架会做得非常薄，此类盆架在成型后，平整度较差，甚至会出现一定程度的凸起或凹陷变形，严重影响磁路组件和振动组件的装配精度，导致微型扬声器成型后声学性能表现不佳，影响产品良率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种盆架平面度整形工装。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种盆架平面度整形工装，包括：
底板；
放置槽，所述放置槽设置在所述底板上，所述放置槽内设置有用于抵触边华司底面的吸附平面，所述吸附平面上间隔设有多个真空吸盘。
进一步的，所述真空吸盘的顶面与所述吸附平面共面。
进一步的，所述真空吸盘的材质为硅胶或橡胶。
进一步的，所述放置槽的内侧壁设有多个限位部，所述限位部用于接触盆架的外侧壁。
进一步的，所述吸附平面的数量为多个。
进一步的，所述放置槽底部设有多个开窗。
进一步的，所述放置槽底部设有用于避让盆架的避让槽。
进一步的，所述底板上设有凸台，所述放置槽设置在所述凸台上。
进一步的，所述凸台的数量为多个，多个所述凸台间隔设置。
进一步的，所述盆架平面度整形工装为一体加工成型的一体式结构。
本实用新型的有益效果在于：本盆架平面度整形工装结构简单、便于加工，利用真空吸盘将盆架上的华司吸附并固定在吸附平面上，实现盆架的平面度整形，有利于保证磁路组件和振动组件的装配精度，有利于保证扬声器的声学性能，有利于提升产品良率，当需要将产品取出时，只需要断开真空吸盘上的负压吸附即可松开，操作简单，使用方便。
附图说明
图1为本实用新型实施例一中盆架平面度整形工装的结构示意图；
图2为本实用新型实施例一中盆架平面度整形工装的俯视图；
图3为本实用新型实施例一中盆架平面度整形工装的剖视图(装有待矫正盆架时)。
标号说明：
1、底板；11、凸台；
2、放置槽；21、吸附平面；22、真空吸盘；23、限位部；24、开窗；25、避让槽；
3、盆架；
4、边华司。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图3，一种盆架平面度整形工装，包括底板1和放置槽2，所述放置槽2设置在所述底板1上，所述放置槽2内设置有用于抵触边华司4底面的吸附平面21，所述吸附平面21上间隔设有多个真空吸盘22。
从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：本盆架平面度整形工装结构简单、便于加工，利用真空吸盘将盆架上的华司吸附并固定在吸附平面上，实现盆架的平面度整形，有利于保证磁路组件和振动组件的装配精度，有利于保证扬声器的声学性能，有利于提升产品良率，当需要将产品取出时，只需要断开真空吸盘上的负压吸附即可松开，操作简单，使用方便。
进一步的，所述真空吸盘22的顶面与所述吸附平面21共面。
由上述描述可知，真空吸盘与吸附平面共面可避免真空吸盘吸力较大时边华司在真空吸盘处出现变形。
进一步的，所述真空吸盘22的材质为硅胶或橡胶。
由上述描述可知，弹性材质的真空吸盘有利于保证气密性，具体可根据实际需要选择真空吸盘的材质。
进一步的，所述放置槽2的内侧壁设有多个限位部23，所述限位部23用于接触盆架3的外侧壁。
由上述描述可知，限位部用于限制盆架的位置，避免真空吸盘吸空。
进一步的，所述吸附平面21的数量为多个。
由上述描述可知，设置多个吸附平面有利于进一步保证盆架的平面度。
进一步的，所述放置槽2底部设有多个开窗24。
由上述描述可知，设置开窗便于操作人员将矫正好的盆架取出。
进一步的，所述放置槽2底部设有用于避让盆架3的避让槽25。
进一步的，所述底板1上设有凸台11，所述放置槽2设置在所述凸台11上。
进一步的，所述凸台11的数量为多个，多个所述凸台11间隔设置。
由上述描述可知，设置多个凸台可增加放置槽的数量，令盆架平面度整形工装可以同时整形多个盆架，提高盆架平面度整形工装的整形效率。
进一步的，所述盆架平面度整形工装为一体加工成型的一体式结构。
由上述描述可知，盆架平面度整形工装结构简单、便于加工。
实施例一
请参照图1至图3，本实用新型的实施例一为：一种盆架平面度整形工装，用于辅助矫正扬声器盆架3的平面度。
所述盆架平面度整形工装包括底板1和放置槽2，所述放置槽2设置在所述底板1上，所述放置槽2内设置有用于抵触边华司4底面的吸附平面21，所述吸附平面21上间隔设有多个真空吸盘22，本实施例中，所述真空吸盘22的数量为八个，所述真空吸盘22与外界的气源组件气动连接，进行矫正时，待矫正的盆架3放置在所述放置槽2内，边华司4放置在所述吸附平面21上，启动气源组件使得所述真空吸盘22吸附住边华司4，并将边华司4牢牢固定紧在吸附平面21上，从而保证盆架3整体的平面度，可选的，所述真空吸盘22的材质为硅胶或橡胶。
本盆架平面度整形工装中的真空吸盘22吸附位置在边华司4上的好处在于：边华司4的底面平整，可供吸附的区域面积大；边华司4使用铁磁性材料制成，结构强度高，真空吸盘22的负压对边华司4造成损伤的几率极低。
请参照图2至图3，所述真空吸盘22的顶面与所述吸附平面21共面，本实施例中，所述放置槽2底部设有安装孔，所述真空吸盘22安装在所述安装孔内，所述真空吸盘22的吸孔位于所述真空吸盘22的顶面，其他实施例中，所述真空吸盘22的顶面也可略微没入所述安装孔内。
请参照图2，所述放置槽2的内侧壁设有多个限位部23，所述限位部23用于接触盆架3的外侧壁，本实施例中，所述限位部23为向内凸出的限位凸台，所述限位部23的角部设有倒圆角，用于防止刮伤盆架3或操作人员，同时，设置倒圆角在放置盆架3时可以起到导向作用。
可选的，所述吸附平面21的数量为多个，本实施例中，所述吸附平面21数量为八个，八个所述吸附平面21共面，所述吸附平面21与所述真空吸盘22一一对应设置。
为便于设备或人工将矫正好的盆架3取下，本实施例中，所述放置槽2底部设有多个开窗24，多个所述开窗24间隔设置。取料时可通过所述开窗24将物料顶出。
所述放置槽2底部设有用于避让盆架3的避让槽25，本实施例中，所述盆架3底部设有多个支撑凸台11，所述避让槽25与所述支撑凸台11一一对应设置。
所述底板1上设有凸台11，所述放置槽2设置在所述凸台11上，可选的，所述凸台11的数量为多个，多个所述凸台11间隔设置，本实施例中，所述凸台11的数量为两个，两个所述凸台11并排设置，所述凸台11与所述放置槽2一一对应设置。
本实施例中，所述盆架平面度整形工装为一体加工成型的一体式结构，其他实施例中，所述底板1和所述凸台11也可为分体加工成型并通过焊接连接或紧固件紧固连接。
综上所述，本实用新型提供的盆架平面度整形工装，结构简单、便于加工，利用真空吸盘将盆架上的华司吸附并固定在吸附平面上，实现盆架的平面度整形，有利于保证磁路组件和振动组件的装配精度，有利于保证扬声器的声学性能，有利于提升产品良率，当需要将产品取出时，只需要断开真空吸盘上的负压吸附即可松开，操作简单，使用方便；真空吸盘与吸附平面共面可避免真空吸盘吸力较大时边华司在真空吸盘处出现变形；弹性材质的真空吸盘有利于保证气密性，具体可根据实际需要选择真空吸盘的材质；设置开窗便于操作人员将矫正好的盆架取出。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种盆架平面度整形工装，其特征在于，包括：
底板；
放置槽，所述放置槽设置在所述底板上，所述放置槽内设置有用于抵触边华司底面的吸附平面，所述吸附平面上间隔设有多个真空吸盘。
2.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述真空吸盘的顶面与所述吸附平面共面。
3.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述真空吸盘的材质为硅胶或橡胶。
4.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述放置槽的内侧壁设有多个限位部，所述限位部用于接触盆架的外侧壁。
5.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述吸附平面的数量为多个。
6.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述放置槽底部设有多个开窗。
7.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述放置槽底部设有用于避让盆架的避让槽。
8.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述底板上设有凸台，所述放置槽设置在所述凸台上。
9.根据权利要求8所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述凸台的数量为多个，多个所述凸台间隔设置。
10.根据权利要求1所述的盆架平面度整形工装，其特征在于，所述盆架平面度整形工装为一体加工成型的一体式结构。
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