CN220672529U - 晶圆清洗装置及晶圆减薄设备 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 145
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 35
- 230000005571 horizontal transmission Effects 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
本实用新型涉及半导体加工技术领域,具体公开了一种晶圆清洗装置及晶圆减薄设备。本实用新型提供的晶圆清洗装置,升降驱动单元能驱动滚刷沿第二方向上升以高于油石设置,避免滚刷在清洁晶圆的蓝膜面时,油石与晶圆的蓝膜面接触,保护晶圆不受损,在需要油石对陶瓷吸盘进行清洁时,升降驱动单元驱动滚刷沿第二方向下降以低于油石设置,不会影响油石清洁陶瓷吸盘;转动驱动单元驱动滚刷转动提高了滚刷清洁晶圆的清洁效果;此外,使质量轻且柔软的滚刷可升降,油石在第二方向上的位置固定,确保油石与陶瓷吸盘之间的平行度,在清洁时油石不会使陶瓷吸盘的吸合面失平,保证陶瓷吸盘能有效吸附晶圆。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种晶圆清洗装置及晶圆减薄设备。
背景技术
晶圆的晶圆清洗装置是晶圆减薄设备生产加工过程中非常重要的一环,晶圆清洗装置能够保证晶圆在被完成磨削加工工序后,准确无误进入下一工序,协助晶圆减薄设备完成对晶圆的减薄加工。晶圆减薄设备设有移载机械臂,移载机械臂的吸盘将减薄加工完成后的晶圆移送到甩干工作站,对晶圆再次冲洗、并高速旋转脱水。因此、对晶圆的动平衡、被吸合的附着力要求严苛,为了满足加工工艺要求,移载晶圆过程中尽可能实现无异物携带、滑动和损伤。所以,在陶瓷吸盘取料前,对陶瓷吸盘的吸合面进行清洁处理,使吸合面光洁,不损伤晶圆的磨削面,也避免了因吸合面真空的泄露而产生的晶圆在移载过程中的滑移、偏心等现象;对陶瓷吸盘取料后,晶圆有可能携带异物,毛刷滚筒对晶圆的蓝膜面进行旋转清扫,保证晶圆与甩干台放置面之间无异物,使晶圆放置平稳,且使晶圆被吸合牢固。
在现有技术中,例如一种研磨机传送手臂自动清洁装置(申请号为:202121290633.2),晶圆清洗装置包括用于清洗晶圆蓝膜面的滚刷和用于清洗陶瓷吸盘的油石。现有的晶圆清洗装置存在以下缺陷:1)油石和滚刷处于同一平面上,在清洗晶圆的过程中,油石可能会损伤到晶圆的蓝膜面;2)由于油石是刚性体,油石能升降避让使得油石的清洁面定位困难,因此对油石与陶瓷吸盘之间的平行度要求比较高,否则容易造成对陶瓷吸盘的吸合面研磨失平,不能有效吸附晶圆。
因此,亟需提供一种晶圆清洗装置以解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗装置及晶圆减薄设备,实现对晶圆和陶瓷吸盘的有效清洁,不会损伤晶圆和陶瓷吸盘,确保晶圆移载的稳定性。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一方面,提供一种晶圆清洗装置,包括:
油石,用于清洁陶瓷吸盘的吸合面;
水平驱动单元,所述水平驱动单元与所述油石连接,所述水平驱动单元用于驱动所述油石沿第一方向平移;
滚刷,与所述油石平行设置,所述滚刷用于清洁晶圆的蓝膜面;
转动驱动单元,所述转动驱动单元与所述滚刷连接,所述转动驱动单元用于驱动所述滚刷和所述转动驱动单元沿自身轴线转动;
升降驱动单元,所述升降驱动单元与所述滚刷连接,所述升降驱动单元用于驱动所述滚刷沿第二方向升降以低于或高于所述油石设置;
其中,所述第一方向垂直于所述第二方向。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述转动驱动单元包括:
转动驱动器;
转动传动组件,所述转动传动组件的一端与所述滚刷连接,所述转动传动组件的另一端与所述转动驱动器驱动连接,且所述转动传动组件的另一端能与所述水平驱动单元驱动连接或分离,所述转动驱动器通过所述转动传动组件驱动所述滚刷沿自身轴线转动及通过所述转动传动组件使所述水平驱动单元驱动所述油石沿第一方向平移。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述水平驱动单元包括:
水平传动件,所述水平传动件能与所述转动传动组件驱动连接或分离;
直线传动组件,所述直线传动组件的一端与所述油石连接,所述直线传动组件的另一端与所述水平传动件连接,所述转动传动组件通过所述水平传动件使所述直线传动组件驱动所述油石沿第一方向平移。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述转动传动组件包括:
主动齿轮,与所述转动驱动器连接;
从动齿轮,与所述滚刷的端部连接,所述从动齿轮与所述主动齿轮啮合;
所述水平传动件包括与所述直线传动组件的另一端连接的水平传动齿轮,所述水平传动齿轮能与所述主动齿轮啮合或分离。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述直线传动组件包括:
蜗杆,所述蜗杆的一端被转动固定,所述蜗杆的另一端沿第一方向延伸且与所述水平传动件驱动连接;
齿块,所述齿块的一端与所述油石连接,所述齿块的另一端滑动设置于所述蜗杆的蜗杆槽内,所述蜗杆槽沿着所述蜗杆的长度方向螺旋设置于所述蜗杆的外侧壁上;
水平导向件,与所述油石连接,所述水平导向件使所述油石沿第一方向平移。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述水平导向件包括:
水平导向滑轨,所述水平导向滑轨沿第一方向延伸;
水平导向滑块,所述水平导向滑块的一端与所述油石连接,所述水平导向滑块的另一端与所述水平导向滑轨滑动连接。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述升降驱动单元包括:
升降驱动气缸,所述升降驱动气缸的驱动端与所述滚刷连接;
升降导向组件,与所述滚刷连接,所述升降驱动气缸用于驱动所述滚刷在所述升降导向组件的导向下沿第二方向升降。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述晶圆清洗装置还包括油石清洗单元,所述油石清洗单元包括一端朝向所述油石设置的油石清洗管,所述油石清洗管的另一端连接有第一供液组件。
作为上述的晶圆清洗装置的一种可选技术方案,所述晶圆清洗装置还包括滚刷清洗单元,所述滚刷清洗单元包括一端朝向所述滚刷设置的滚刷清洗管,所述滚刷清洗管的另一端连接有第二供液组件。
另一方面,提供一种晶圆减薄设备,包括上述中任一项所述的晶圆清洗装置。
本实用新型的有益效果:
本实用新型提供的晶圆清洗装置,水平驱动单元能驱动油石沿第一方向平移,以实现对陶瓷吸盘的整个吸合面的清洁;升降驱动单元能驱动滚刷沿第二方向上升以高于油石设置,避免滚刷在清洁晶圆的蓝膜面时,油石与晶圆的蓝膜面接触,保护晶圆不受损,在需要油石对陶瓷吸盘进行清洁时,升降驱动单元驱动滚刷沿第二方向下降以低于油石设置,不会影响油石清洁陶瓷吸盘;转动驱动单元驱动滚刷转动提高了滚刷清洁晶圆的清洁效果;此外,使质量轻且柔软的滚刷可升降,油石在第二方向上的位置固定,确保油石与陶瓷吸盘之间的平行度,在清洁时油石不会使陶瓷吸盘的吸合面失平,保证陶瓷吸盘能有效吸附晶圆。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的晶圆清洗装置的整体结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的油石和水平驱动单元的结构示意图;
图3是本实用新型实施例提供的滚刷、转动驱动单元和升降驱动单元的第一视角的结构示意图;
图4是本实用新型实施例提供的滚刷、转动驱动单元和升降驱动单元的第二视角的结构示意图。
图中:
1、油石;2、水平驱动单元;3、滚刷;4、转动驱动单元;5、升降驱动单元;6、油石清洗单元;7、滚刷清洗单元;8、底座;9、油石安装架;10、滚刷安装架;
211、水平传动齿轮;221、蜗杆;222、蜗杆槽;223、齿块;224、水平导向件;
41、转动驱动器; 421、主动齿轮; 422、从动齿轮;
51、升降驱动气缸; 52、升降导向组件;
a、第一方向;b、第二方向。
具体实施方式
为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案做进一步的详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
晶圆的下表面包覆一层保护膜(蓝膜)后,下述中下表面被称为蓝膜面,将晶圆放置于旋转载台上,载台上有吸附孔,晶圆的蓝膜面通过负压被吸附在旋转载台上,旋转载台上方有一个转轴,转轴上设置有磨轮,通过磨轮和旋转载台的配合实现对晶圆上表面的研磨,以减薄晶圆的厚度。在晶圆减薄加工完成后,通过移载机械臂的执行端设置的陶瓷吸盘对晶圆进行吸附并转移。但是在陶瓷吸盘吸附晶圆之前需要确保陶瓷吸盘的表面的清洁度,通过设置的晶圆清洗装置中的油石前后移动实现对陶瓷吸盘的清洁,避免陶瓷吸盘表面有杂质而污染损坏晶圆的上表面。在陶瓷吸盘吸附晶圆后,移载机械臂传送至晶圆清洗装置中的滚刷的上方,滚刷对晶圆的蓝膜面进行清洁。
但是现有技术中的晶圆清洗装置存在以下问题:1)油石和滚刷处于同一平面上,在清洗晶圆的过程中,油石可能会损伤到晶圆的蓝膜面;2)油石的高度低于滚刷的高度,通过调整移载机械臂的末端高度以分别适应油石的高度和滚刷的高度,以实现分别对陶瓷吸盘和晶圆的清洁,但是需要油石和滚刷的间距至少为一个晶圆的宽度,进而会增大晶圆清洗装置的体积,占用空间,还会造成晶圆减薄设备的结构不紧凑,对整个设备的底盘的材料要求等级提高,生产成本高;3)由于油石是刚性体,油石能升降避让使得油石的清洁面定位困难,因此对油石与陶瓷吸盘之间的平行度要求比较高,否则容易造成对陶瓷吸盘的吸合面研磨失平,不能有效吸附晶圆。为此本实施例提供了一种晶圆清洗装置以解决上述技术问题。
如图1所示,本实施例提供的晶圆清洗装置包括油石1、水平驱动单元2、滚刷3、转动驱动单元4和升降驱动单元5。油石1用于清洁陶瓷吸盘的吸合面,水平驱动单元2与油石1连接,水平驱动单元2用于驱动油石1沿第一方向a平移。滚刷3与油石1平行设置,滚刷3用于清洁晶圆的蓝膜面,转动驱动单元4与滚刷3连接,转动驱动单元4用于驱动滚刷3沿自身轴线转动。升降驱动单元5与滚刷3连接,升降驱动单元5用于驱动滚刷3和转动驱动单元4沿第二方向b升降以低于或高于油石1设置,其中第二方向b垂直于第一方向a。
进一步地,第一方向a为平行于水平面的方向,第二方向b为垂直于水平面的方向。
本实施例提供的晶圆清洗装置,水平驱动单元2能驱动油石1沿第一方向a平移,以实现对陶瓷吸盘的整个吸合面的清洁;升降驱动单元5能驱动滚刷3沿第二方向b上升以高于油石1设置,避免滚刷3在清洁晶圆的蓝膜面时,油石1与晶圆的蓝膜面接触,保护晶圆不受损,在需要油石1对陶瓷吸盘进行清洁时,升降驱动单元5驱动滚刷3沿第二方向b下降以低于油石1设置,不会影响油石1清洁陶瓷吸盘;转动驱动单元4驱动滚刷3转动提高了滚刷3清洁晶圆的清洁效果;此外,使质量轻且柔软的滚刷3可升降,油石1在第二方向b上的位置固定,确保油石1与陶瓷吸盘之间的平行度,在清洁时油石1不会使陶瓷吸盘的吸合面失平,保证陶瓷吸盘能有效吸附晶圆。
晶圆清洗装置还包括底座8,水平驱动单元2和升降驱动单元5分别安装于底座8上。
在一些实施例中,如图1所示,转动驱动单元4包括转动驱动器41和转动传动组件,转动传动组件的一端与滚刷3连接,转动传动组件的另一端与转动驱动器41驱动连接,且转动传动组件的另一端能与水平驱动单元2驱动连接或分离,转动驱动器41通过转动传动组件驱动滚刷3沿自身轴线转动及通过转动传动组件使水平驱动单元2驱动油石1沿第一方向a平移。驱动油石1的平移及驱动滚刷3转动共用一个转动驱动器41,简化了结构,降低了成本,且提高了晶圆清洗装置的结构紧凑性。
如图2所示,水平驱动单元2包括水平传动件和直线传动组件,直线传动组件的一端与油石1连接,直线传动组件的另一端与水平传动件连接,转动传动组件通过水平传动件使直线传动组件驱动油石1沿第一方向a平移,结构简单。
油石1安装于油石安装架9上,直线传动组件的一端与油石安装架9连接,设置油石安装架9便于安装固定油石1。
进一步地,直线传动组件包括蜗杆221、齿块223和水平导向件224。蜗杆221的一端被转动固定,具体地,蜗杆221的一端与底座8通过轴承座转动连接。蜗杆221的另一端沿第一方向a延伸且与水平传动件驱动连接。齿块223的一端与油石1连接,具体地,齿块223与油石安装架9连接。齿块223的另一端滑动设置于蜗杆221的蜗杆槽222内。水平导向件224与油石1连接,水平导向件224使油石1沿第一方向a平移。蜗杆槽222沿着蜗杆221的长度方向螺旋设置于蜗杆221的外侧壁上,水平传动件驱动蜗杆221转动,齿块223在水平导向件224的限制下且在蜗杆221的转动力的驱动下沿着蜗杆槽222滑动,使得蜗杆槽222沿第一方向a移动,进而带动油石1沿第一方向a移动。
为了提高油石1平移的稳定性,齿块223设置两个或者两个以上,与齿块223对应的蜗杆221上设有两个或者两个以上蜗杆槽222。齿块223可以为滚子轴承随动器。
在其他一些实施例中,直线传动组件还可以是丝杆丝母结构,丝杆与水平传动件驱动连接,丝母螺接于丝杆上且与油石1连接,水平导向件224使油石1沿第一方向a平移。
上述的水平导向件224包括水平导向滑轨和水平导向滑块,水平导向滑轨沿第一方向a延伸,水平导向滑块的一端与油石1连接,具体地,水平导向滑块与油石安装架9连接。水平导向滑块的另一端与水平导向滑轨滑动连接。水平导向滑轨安装于底座8上。该水平导向件224结构简单,使用成本低,且导向效果好。
在其他一些实施例中,水平导向件224包括设置于油石安装架9上的滑槽,齿块223的一端滑动设置于滑槽内。
为了提高油石1清洁陶瓷吸盘的吸合面的光洁度,晶圆清洗装置还包括油石清洗单元6,油石清洗单元6在清洁陶瓷吸盘的时候向油石1提供清洗液。具体地,油石清洗单元6包括一端朝向油石1设置的油石清洗管,油石清洗管的另一端连接有第一供液组件。
第一供液组件的结构为现有技术,在此不作具体介绍。油石清洗管的一端可以置于油石1的一端,清洗液由油石1的一端流向另一端,且不干涉油石1清洗陶瓷吸盘。油石清洗管可以设置两根或者两根以上,且在油石1相对的两端均可设置油石清洗管,在此不作具体限定。
如图3和图4所示,升降驱动单元5驱动滚刷3和转动驱动单元4升降,在一些实施例中,升降驱动单元5包括升降驱动气缸51和升降导向组件52,升降驱动气缸51安装于底座8上。升降驱动气缸51的驱动端与滚刷3连接,升降导向组件52的一端安装于底座8上,另一端与滚刷3连接,升降驱动气缸51用于驱动滚刷3在升降导向组件52的导向下沿第二方向b升降,以使滚刷3低于或高于油石1设置。
升降导向组件52包括导向套和导向柱,导向套安装于底座8上,导向柱的一端滑动置于导向套内,导向柱的另一端与滚刷3连接。
在另一实施例中,升降导向组件52包括升降导向滑轨和升降导向滑块。升降导向滑轨沿第二方向b延伸且与底座8连接,升降导向滑块的一端与滚刷3连接,升降导向滑块的另一端与升降导向滑轨滑动连接。
进一步地,滚刷3的两端转动安装于滚刷安装架10上,升降驱动气缸51的驱动端和升降导向组件52分别与滚刷安装架10连接。可选地,滚刷安装架10具有容纳滚刷3的容纳槽,滚刷3的两端与容纳槽的侧壁转动连接,滚刷3的部分置于容纳槽内,部分高于容纳槽的槽口设置,以实现与晶圆的蓝膜面的接触。
继续参照图1所示,转动传动组件包括主动齿轮421和从动齿轮422,主动齿轮421与转动驱动器41连接,从动齿轮422与滚刷3的端部连接,从动齿轮422与主动齿轮421啮合。水平传动件包括与直线传动组件的另一端连接的水平传动齿轮211,水平传动齿轮211能与主动齿轮421啮合或分离。在升降驱动单元5驱动滚刷3和转动驱动单元4上升时,主动齿轮421与水平传动齿轮211分离,滚刷3转动时油石1不会平移,在升降驱动单元5驱动滚刷3和转动驱动单元4下降时,主动齿轮421与水平传动齿轮211啮合,转动驱动器41通过主动齿轮421和水平传动齿轮211使直线传动组件驱动油石1沿第一方向a平移。通过三个齿轮、滚刷3的升降以及使油石1和滚刷3不等高的设置,实现了多个结构的快速联动,并且多个动作之间衔接配合流畅,效率高。上述的转动驱动器41为转动驱动电机。
为了提高滚刷3清洗晶圆的蓝膜面的清洁度,在一些实施例中,晶圆清洗装置还包括滚刷清洗单元7,滚刷清洗单元7包括一端朝向滚刷3设置的滚刷清洗管,滚刷清洗管的另一端连接有第二供液组件。
第二供液组件的结构为现有技术,在此不作具体介绍。滚刷清洗管的一端可以置于滚刷3的一端,清洗液由滚刷3的一端流向另一端,且不干涉滚刷3清洗晶圆的蓝膜面。滚刷清洗管可以设置两根或者两根以上,且在滚刷3相对的两端均可设置滚刷清洗管,或者在滚刷3的底部沿滚刷3的轴向设置多个滚刷清洗管,清洗管的端部设有喷头,以朝向滚刷3喷洒清洗液,在此不作具体限定。
在一些实施例中,上述的滚刷3为螺旋式滚刷,避免滚刷3间隙造成漏刷,导致清洁效果不好的问题。
油石1的研磨面与滚刷3的清洁面具有一定的高低差,滚刷3的上升或下降实现了油石1的研磨面和滚刷3的清洁面的互不干涉,在组装过程中将油石1的研磨面调整后,油石1的研磨面不再动,在清洁过程中,调整滚刷3的高度。具体为在清洁陶瓷吸盘时,滚刷3下降避让,滚刷3的清洁面抵于油石1的研磨面8mm-10mm,能起到充分避让的作用,滚刷3的清洁面和油石1的研磨面不会交叉清洁。在清洁晶圆的蓝膜面时,滚刷3上升,滚刷3的清洁面与晶圆的蓝膜面接触,油石1的研磨面抵于滚刷3的清洁面8mm-10mm设置,能起到充分避让的作用,滚刷3的清洁面和油石1的研磨面不会交叉清洁。
晶圆清洗装置的使用过程具体为:在陶瓷吸盘取料前,对陶瓷吸盘的吸合面进行清洁处理,升降驱动单元5驱动滚刷3沿第二方向b下降至滚刷3低于油石1设置;水平驱动单元2驱动油石1沿第一方向b往复移动清洁陶瓷吸盘的吸合面;在清洁结束后,陶瓷吸盘吸附晶圆,升降驱动单元5驱动滚刷3沿第二方向b上升至滚刷3高于油石1设置,转动驱动单元4驱动滚刷3转动清洁晶圆的蓝膜面,清洁完成后,转动驱动单元4停止工作,升降驱动单元5驱动滚刷3下降至初始位置,以为下一次清洗做准备。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.晶圆清洗装置,其特征在于,包括:
油石(1),用于清洁陶瓷吸盘的吸合面;
水平驱动单元(2),所述水平驱动单元(2)与所述油石(1)连接,所述水平驱动单元(2)用于驱动所述油石(1)沿第一方向(a)平移;
滚刷(3),与所述油石(1)平行设置,所述滚刷(3)用于清洁晶圆的蓝膜面;
转动驱动单元(4),所述转动驱动单元(4)与所述滚刷(3)连接,所述转动驱动单元(4)用于驱动所述滚刷(3)沿自身轴线转动;
升降驱动单元(5),所述升降驱动单元(5)与所述滚刷(3)连接,所述升降驱动单元(5)用于驱动所述滚刷(3)和所述转动驱动单元(4)沿第二方向(b)升降以低于或高于所述油石(1)设置;
其中,第一方向(a)垂直于所述第二方向(b)。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述转动驱动单元(4)包括:
转动驱动器(41);
转动传动组件,所述转动传动组件的一端与所述滚刷(3)连接,所述转动传动组件的另一端与所述转动驱动器(41)驱动连接,且所述转动传动组件的另一端能与所述水平驱动单元(2)驱动连接或分离,所述转动驱动器(41)通过所述转动传动组件驱动所述滚刷(3)沿自身轴线转动及通过所述转动传动组件使所述水平驱动单元(2)驱动所述油石(1)沿第一方向(a)平移。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述水平驱动单元(2)包括:
水平传动件,所述水平传动件能与所述转动传动组件驱动连接或分离;
直线传动组件,所述直线传动组件的一端与所述油石(1)连接,所述直线传动组件的另一端与所述水平传动件连接,所述转动传动组件通过所述水平传动件使所述直线传动组件驱动所述油石(1)沿第一方向(a)平移。
4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述转动传动组件包括:
主动齿轮(421),与所述转动驱动器(41)连接;
从动齿轮(422),与所述滚刷(3)的端部连接,所述从动齿轮(422)与所述主动齿轮(421)啮合;
所述水平传动件包括与所述直线传动组件的另一端连接的水平传动齿轮(211),所述水平传动齿轮(211)能与所述主动齿轮(421)啮合或分离。
5.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述直线传动组件包括:
蜗杆(221),所述蜗杆(221)的一端被转动固定,所述蜗杆(221)的另一端沿第一方向(a)延伸且与所述水平传动件驱动连接;
齿块(223),所述齿块(223)的一端与所述油石(1)连接,所述齿块(223)的另一端滑动设置于所述蜗杆(221)的蜗杆槽(222)内,所述蜗杆槽(222)沿着所述蜗杆(221)的长度方向螺旋设置于所述蜗杆(221)的外侧壁上;
水平导向件(224),与所述油石(1)连接,所述水平导向件(224)使所述油石(1)沿第一方向(a)平移。
6.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述水平导向件(224)包括:
水平导向滑轨,所述水平导向滑轨沿第一方向(a)延伸;
水平导向滑块,所述水平导向滑块的一端与所述油石(1)连接,所述水平导向滑块的另一端与所述水平导向滑轨滑动连接。
7.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述升降驱动单元(5)包括:
升降驱动气缸(51),所述升降驱动气缸(51)的驱动端与所述滚刷(3)连接;
升降导向组件,与所述滚刷(3)连接,所述升降驱动气缸(51)用于驱动所述滚刷(3)在所述升降导向组件的导向下沿第二方向(b)升降。
8.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括油石清洗单元(6),所述油石清洗单元(6)包括一端朝向所述油石(1)设置的油石清洗管,所述油石清洗管的另一端连接有第一供液组件。
9.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括滚刷清洗单元(7),所述滚刷清洗单元(7)包括一端朝向所述滚刷(3)设置的滚刷清洗管,所述滚刷清洗管的另一端连接有第二供液组件。
10.晶圆减薄设备,其特征在于,包括权利要求1-9中任一项所述的晶圆清洗装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202322331408.4U CN220672529U (zh) | 2023-08-29 | 2023-08-29 | 晶圆清洗装置及晶圆减薄设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202322331408.4U Active CN220672529U (zh) | 2023-08-29 | 2023-08-29 | 晶圆清洗装置及晶圆减薄设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN220672529U (zh) |
-
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GR01 | Patent grant | ||
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