CN220603846U - 一种双面对位曝光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种双面对位曝光设备，包括输送曝光台以及固定安装在输送曝光台上的双面曝光主机，输送曝光台顶端的两侧均固定设置有延伸至双面曝光主机内部的曝光导架，曝光导架的内部固定设置有两个引导滑架，曝光导架与两个引导滑架之间转动设置有改向齿轮，两个引导滑架上均滑动设置有内齿滑杆，两个内齿滑杆的内侧分别与改向齿轮的两侧啮合连接，曝光导架内壁的顶部固定安装有电控推杆，本实用新型一种双面对位曝光设备，该双面对位曝光设备采用穿梭式的双曝光平台式设计，在使用过程中，一个平台可正常进行曝光作业，另一个平台可进行取放产品，并进行对位记录，交替式曝光，进而可显著提高曝光设备的曝光效率。

Description

一种双面对位曝光设备

技术领域

本实用新型涉及对位曝光技术领域，具体为一种双面对位曝光设备。

背景技术

双面对位曝光设备是一种用于物理学领域的工艺试验仪器，主要用于掩膜拷贝曝光，在微光学、微电路、MEMS、微流道等领域应用广泛。经检索，申请号为202020483893.0的一种双面自动对位曝光的设备，其设备在产品上下料区设置有一下晒框组件，在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件，上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构；上述常见的对位曝光设备虽然可满足曝光需求，但是在使用中仍存在以下不足：

曝光设备仅设置独立的曝光工位对产品进行曝光，使得取放对位产品与曝光无法同步进行，从而影响产品的曝光效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种双面对位曝光设备，以解决上述背景技术中提出的现有的对位曝光设备曝光效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种双面对位曝光设备，包括输送曝光台以及固定安装在输送曝光台上的双面曝光主机，所述输送曝光台顶端的两侧均固定设置有延伸至双面曝光主机内部的曝光导架，所述曝光导架的内部固定设置有两个引导滑架，所述曝光导架与两个引导滑架之间转动设置有改向齿轮，两个所述引导滑架上均滑动设置有内齿滑杆，两个内齿滑杆的内侧分别与改向齿轮的两侧啮合连接，所述曝光导架内壁的顶部固定安装有电控推杆，所述内齿滑杆上均固定设置有导滑块，正对设置的两个所述导滑块之间固定设置有曝光平台组件，两个所述曝光导架之间的顶部固定设置有对位机构。

优选的，所述曝光导架的内侧开设有两个线性导槽，所述导滑块滑动设置在线性导槽的内部，所述电控推杆的伸缩端固定设置在其中一个内齿滑杆上；采用穿梭式的双曝光平台式设计，在使用过程中，一个平台可正常进行曝光作业，另一个平台可进行取放产品，并进行对位记录，交替式曝光，进而可显著提高曝光设备的曝光效率。

优选的，所述曝光平台组件包括限位框以及铰接在限位框上的曝光压盖，所述限位框的内部固定设置有曝光平板，所述曝光压盖上固定设置有把手，便于更换产品。

优选的，所述对位机构包括对位架以及固定设置在对位架上的两个对位支架，两个所述对位支架上均固定安装有CCD对位镜头，可自动进行对位调整，提高曝光精度。

优选的，所述输送曝光台底端的四个边角均固定设置有防滑脚垫，曝光设备稳定可靠。

优选的，所述双面曝光主机的正面固定安装有操控面板，所述操控面板的表面固定安装有触控显示屏和电源开关，操作简单。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该双面对位曝光设备采用穿梭式的双曝光平台式设计，在使用过程中，一个平台可正常进行曝光作业，另一个平台可进行取放产品，并进行对位记录，交替式曝光，进而可显著提高曝光设备的曝光效率，操作简单，使用方便。

附图说明

图1为本实用新型曝光设备的结构示意图；

图2为本实用新型曝光导架的正视截面图；

图3为本实用新型曝光平台组件的结构示意图；

图4为本实用新型对位架的结构示意图。

图中：1、输送曝光台；2、双面曝光主机；3、曝光导架；4、线性导槽；5、导滑块；6、曝光平台组件；61、限位框；62、曝光平板；63、曝光压盖；64、把手；7、对位架；8、防滑脚垫；9、改向齿轮；10、引导滑架；11、内齿滑杆；12、电控推杆；13、对位支架；14、CCD对位镜头；15、操控面板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。

请参阅图1-4，本实用新型提供了一种双面对位曝光设备，包括输送曝光台1以及固定安装在输送曝光台1上的双面曝光主机2，输送曝光台1顶端的两侧均固定设置有延伸至双面曝光主机2内部的曝光导架3，曝光导架3的内部固定设置有两个引导滑架10，曝光导架3与两个引导滑架10之间转动设置有改向齿轮9，两个引导滑架10上均滑动设置有内齿滑杆11，两个内齿滑杆11的内侧分别与改向齿轮9的两侧啮合连接，曝光导架3内壁的顶部固定安装有电控推杆12，内齿滑杆11上均固定设置有导滑块5，正对设置的两个导滑块5之间固定设置有曝光平台组件6，两个曝光导架3之间的顶部固定设置有对位机构，曝光导架3的内侧开设有两个线性导槽4，导滑块5滑动设置在线性导槽4的内部，电控推杆12的伸缩端固定设置在其中一个内齿滑杆11上，输送曝光台1底端的四个边角均固定设置有防滑脚垫8，双面曝光主机2的正面固定安装有操控面板15，操控面板15的表面固定安装有触控显示屏和电源开关；

使用时，电控推杆12交替伸缩，推动对应位置内齿滑杆11在引导滑架10上滑动，通过改向齿轮9进行传递动力，此时一个曝光平台组件6进入到双面曝光主机2内进行双面曝光时，另一个曝光平台组件6就滑出，使得产品的取放和曝光可同步进行，进而提高曝光效率。

参阅图1和图3，进一步的，曝光平台组件6包括限位框61以及铰接在限位框61上的曝光压盖63，限位框61的内部固定设置有曝光平板62，曝光压盖63上固定设置有把手64；

使用时，握住把手64掀开曝光压盖63，将需要曝光的产品放置在曝光平板62上，压盖上曝光压盖63即可，便于更换和取放待曝光的产品，使用方便。

参阅图1和图4，进一步的，对位机构包括对位架7以及固定设置在对位架7上的两个对位支架13，两个对位支架13上均固定安装有CCD对位镜头14；

使用时，将产品放置在曝光平板62时，CCD对位镜头14会对放置的产品进行对位记录，在对应平台进入双面曝光主机2后，可自动进行相应的对位调节，提高曝光的精度。

本申请实施例在使用时：握住把手64掀开曝光压盖63，将需要曝光的产品放置在曝光平板62上，压盖上曝光压盖63，通过触控显示屏控制电控推杆12的工作状态，电控推杆12交替伸缩，推动对应位置内齿滑杆11在引导滑架10上滑动，通过改向齿轮9进行传递动力，此时一个曝光平台组件6进入到双面曝光主机2内进行双面曝光时，另一个曝光平台组件6就滑出，采用穿梭式的双曝光平台式设计，在使用过程中，一个平台可正常进行曝光作业，另一个工位可进行取放产品，并进行对位记录，交替式曝光，进而可显著提高曝光设备的曝光效率。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种双面对位曝光设备，包括输送曝光台（1）以及固定安装在输送曝光台（1）上的双面曝光主机（2），其特征在于：所述输送曝光台（1）顶端的两侧均固定设置有延伸至双面曝光主机（2）内部的曝光导架（3），所述曝光导架（3）的内部固定设置有两个引导滑架（10），所述曝光导架（3）与两个引导滑架（10）之间转动设置有改向齿轮（9），两个所述引导滑架（10）上均滑动设置有内齿滑杆（11），两个内齿滑杆（11）的内侧分别与改向齿轮（9）的两侧啮合连接，所述曝光导架（3）内壁的顶部固定安装有电控推杆（12），所述内齿滑杆（11）上均固定设置有导滑块（5），正对设置的两个所述导滑块（5）之间固定设置有曝光平台组件（6），两个所述曝光导架（3）之间的顶部固定设置有对位机构。

2.根据权利要求1所述的一种双面对位曝光设备，其特征在于：所述曝光导架（3）的内侧开设有两个线性导槽（4），所述导滑块（5）滑动设置在线性导槽（4）的内部，所述电控推杆（12）的伸缩端固定设置在其中一个内齿滑杆（11）上。

3.根据权利要求1所述的一种双面对位曝光设备，其特征在于：所述曝光平台组件（6）包括限位框（61）以及铰接在限位框（61）上的曝光压盖（63），所述限位框（61）的内部固定设置有曝光平板（62），所述曝光压盖（63）上固定设置有把手（64）。

4.根据权利要求1所述的一种双面对位曝光设备，其特征在于：所述对位机构包括对位架（7）以及固定设置在对位架（7）上的两个对位支架（13），两个所述对位支架（13）上均固定安装有CCD对位镜头（14）。

5.根据权利要求1所述的一种双面对位曝光设备，其特征在于：所述输送曝光台（1）底端的四个边角均固定设置有防滑脚垫（8）。

6.根据权利要求1所述的一种双面对位曝光设备，其特征在于：所述双面曝光主机（2）的正面固定安装有操控面板（15），所述操控面板（15）的表面固定安装有触控显示屏和电源开关。