CN220561222U - 一种切面抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种切面抛光设备，包括底板，所述底板的顶部设置有两组滑槽，两组所述滑槽的内侧滑动有工作台，所述底板一侧的侧壁上固定有气缸二，所述气缸二的输出端与所述工作台的侧壁连接，两组所述滑槽中间的底板顶壁上开设有滑轨，所述工作台包括与所述滑槽内侧滑动连接的滑块，所述滑块的顶端固定有遮挡板，所述遮挡板和滑块为一体结构，所述工作台顶部对称设有抛光槽，所述抛光槽的内侧滑动有支撑杆，所述支撑杆的顶部设置有防滑垫，所述支撑杆的底端设置有滑轮。本实用新型通过在工作台内部放置支撑杆和底板内的滑轨配合作业，实现了晶圆快速拿取，从而提高了工作效率。

Description

一种切面抛光设备

技术领域

本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体为一种切面抛光设备。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的片，芯片加工过程中需要对柱状的晶圆切段，然后对晶圆的切面进行抛光。

现有技术提供了一种切面抛光装置，采用底座和两组旋钮的设置，在底座上放置有晶圆，然后通过转动旋钮可移动底座，便于工作人员取下并更换晶圆。

切面抛光设备在进行运行的时候，在抛光晶圆片之后，工作台上晶圆取出不便，降低了整体加工效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种切面抛光设备，以解决上述背景技术中提出的现有的切面抛光设备在进行运行的时候，在抛光晶圆片之后，工作台上晶圆取出不便，降低了整体加工效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种切面抛光设备，包括底板，所述底板的顶部设置有两组滑槽，两组所述滑槽的内侧滑动有工作台，所述底板一侧的侧壁上固定有气缸二，所述气缸二的输出端与所述工作台的侧壁连接；

两组所述滑槽中间的底板顶壁上开设有滑轨，所述工作台包括与所述滑槽内侧滑动连接的滑块，所述滑块的顶端固定有遮挡板，所述遮挡板和滑块为一体结构；

所述工作台顶部对称设有抛光槽，所述抛光槽的内侧滑动有支撑杆，所述支撑杆的顶部设置有防滑垫，所述支撑杆的底端设置有滑轮。

可选的，所述支撑杆的横截面为“T”字形，所述支撑杆横截宽面的底壁与所述抛光槽的内底壁相抵；

所述支撑杆直径略小于所述抛光槽内侧直径。

可选的，所述滑轨的横截面为轴对称梯形；

所述滑轨用于供滑轮左右方向滑动，所述滑轨与滑轮呈滑动连接。

可选的，所述底板顶部的一端固定有立板，所述立板的顶端设置有气缸一，所述气缸一的底端设置有抛光轮；

所述抛光轮的底端与所述工作台处于同轴线。

可选的，所述底板顶部远离立板的一端固定有置物槽；

所述置物槽用于存放待加工晶圆片。

可选的，所述置物槽的内侧设有限位板；

所述限位板的两侧与所述置物槽的边缘处构成卡合结构；

所述限位板用于限定存在在所述置物槽内侧晶圆片的位置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.通过在工作台内部放置支撑杆和底板内的滑轨配合作业，实现了晶圆快速拿取，从而提高了工作效率；

2.通过在底板上设置气缸与工作台连接，实现了工作台快速准确的移动，从而节约了人力，加快了生产速度；

3.通过在支撑杆上安装防滑垫，实现了工作台移动过程中晶圆的稳定，从而降低了晶圆损坏风险。

附图说明

图1为本实用新型的正视结构示意图；

图2为本实用新型的剖视结构示意图；

图3为本实用新型的剖视结构示意图；

图4为本实用新型的局部放大结构示意图；

图中：1、底板；2、立板；3、气缸一；4、抛光轮；5、气缸二；6、工作台；61、滑块；62、抛光槽；63、支撑杆；64、防滑垫；65、遮挡板；66、滑轮；7、置物槽；71、限位板；8、滑槽；9、滑轨。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供的一种切面抛光设备实施例：一种切面抛光设备，包括底板1，底板1作为机器的承载体，将各个结构组建起来，底板1顶部远离立板2的一端固定有置物槽7，置物槽7用于存放待加工晶圆片，方便生产过程中拿取，置物槽7的内侧设有限位板71，限位板71的两侧与置物槽7的边缘处构成卡合结构，使限位板71方便取出的同时也保证了稳定性，限位板71用于限定存在在置物槽7内侧晶圆片的位置，限位板71的一侧与晶圆片贴合，用来防止晶圆片倾倒。

底板1的顶部设置有两组滑槽8，两组滑槽8的内侧滑动有工作台6，滑槽8提供给工作台6移动轨道以及限位作用，底板1一侧的侧壁上固定有气缸二5，气缸二5的输出端与工作台6的侧壁连接，气缸二5提供给工作台6左右移动的动力源，既节省了人力，又加大了效率；

两组滑槽8中间的底板1顶壁上开设有滑轨9，工作台6包括与滑槽8内侧滑动连接的滑块61，滑块61的顶端固定有遮挡板65，滑块61使工作台6稳定按照轨道移动，遮挡板65可以防止抛光过程中粉尘等脏污过度飞溅，遮挡板65和滑块61为一体结构，工作台6顶部对称设有抛光槽62，抛光槽62用于放置晶圆，确定晶圆抛光位置，抛光槽62的内侧滑动有支撑杆63，支撑杆63可以将抛光后的晶圆顶出方便拿取，支撑杆63的顶部设置有防滑垫64，防滑垫64使晶圆移动过程中不掉落，支撑杆63的底端设置有滑轮66，滑轮66使支撑杆63顺着滑轨9左右移动，支撑杆63的横截面为“T”字形，支撑杆63组成分别由上半部分的托盘和下半部分的竖杆组成，支撑杆63横截宽面的底壁与抛光槽62的内底壁相抵，起到限位和支撑作用，从而使得支撑杆63在进行抛光作业时可以提供足够的支撑力，支撑杆63直径略小于抛光槽62内侧直径，在保证提供支撑作用的同时也能在抛光槽62中间移动，滑轨9的横截面为轴对称梯形，滑轨9用于供滑轮66左右方向滑动且因有高低不同的结构使得支撑杆63可以将抛光后的晶圆顶出，滑轨9与滑轮66呈滑动连接，滑动连接节约能量源，降低硬件损耗。

底板1顶部的一端固定有立板2，立板2承载打磨结构组件，立板2的顶端设置有气缸一3，气缸一3控制抛光轮4的位置，气缸一3的底端设置有抛光轮4，抛光轮4接触晶圆进行抛光作业，抛光轮4的底端与工作台6处于同轴线，从而确保晶圆抛光位置准确。

工作原理：使用时，首先将待加工的晶圆放入置物槽7内，将限位板71卡合在置物槽7两侧从而限制住立着存放的晶圆片，可以防止晶圆倾倒，如果要取出晶圆只需要将限位板71拿起来即可，拿取晶圆并将其放置于工作台6上的两组抛光槽62内，启动气缸二5使其中一个抛光槽62移动到抛光轮4下方，启动气缸一3使抛光轮4抵接晶圆，对其抛光处理，抛光完成后，再次启动气缸一3使抛光轮4远离晶圆，再次启动气缸二5，使另一个抛光槽62移动到抛光轮4下方进行第二次抛光作业，与此同时，已加工好的晶圆在支撑杆63、滑轮66和滑轨9的作用下被顶起，便于工作人员取出并放入待加工的晶圆，如此循环即可，其中支撑杆63顶端在有防滑垫64的作用下，晶圆在移动的过程中不会掉落，降低了生产损耗风险。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种切面抛光设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的顶部设置有两组滑槽(8)，两组所述滑槽(8)的内侧滑动有工作台(6)，所述底板(1)一侧的侧壁上固定有气缸二(5)，所述气缸二(5)的输出端与所述工作台(6)的侧壁连接；

两组所述滑槽(8)中间的底板(1)顶壁上开设有滑轨(9)，所述工作台(6)包括与所述滑槽(8)内侧滑动连接的滑块(61)，所述滑块(61)的顶端固定有遮挡板(65)，所述遮挡板(65)和滑块(61)为一体结构；

所述工作台(6)顶部对称设有抛光槽(62)，所述抛光槽(62)的内侧滑动有支撑杆(63)，所述支撑杆(63)的顶部设置有防滑垫(64)，所述支撑杆(63)的底端设置有滑轮(66)。

2.根据权利要求1所述的一种切面抛光设备，其特征在于：所述支撑杆(63)的横截面为“T”字形，所述支撑杆(63)横截宽面的底壁与所述抛光槽(62)的内底壁相抵；

所述支撑杆(63)直径略小于所述抛光槽(62)内侧直径。

3.根据权利要求1所述的一种切面抛光设备，其特征在于：所述滑轨(9)的横截面为轴对称梯形；

所述滑轨(9)用于供滑轮(66)左右方向滑动，所述滑轨(9)与滑轮(66)呈滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种切面抛光设备，其特征在于：所述底板(1)顶部的一端固定有立板(2)，所述立板(2)的顶端设置有气缸一(3)，所述气缸一(3)的底端设置有抛光轮(4)；

所述抛光轮(4)的底端与所述工作台(6)处于同轴线。

5.根据权利要求1所述的一种切面抛光设备，其特征在于：所述底板(1)顶部远离立板(2)的一端固定有置物槽(7)；

所述置物槽(7)用于存放待加工晶圆片。

6.根据权利要求5所述的一种切面抛光设备，其特征在于：所述置物槽(7)的内侧设有限位板(71)；

所述限位板(71)的两侧与所述置物槽(7)的边缘处构成卡合结构；

所述限位板(71)用于限定存在在所述置物槽(7)内侧晶圆片的位置。