CN220512804U - 用于清洁设备的清洁基站和清洁系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于清洁设备的清洁基站和清洁系统，清洁基站包括基站底座和除菌模块，基站底座具有基站风道，基站风道的壁上形成有连通基站风道与外部环境的排放孔；除菌模块位于基站风道的流动路径上，除菌模块用于产生等离子体；其中，清洁设备具有设备风道，在清洁设备与清洁基站配合时，基站风道与设备风道连通以形成除菌风道。根据本实用新型实施例的清洁基站，除菌模块可以对除菌风道进行除菌抑臭，解决清洁设备中细菌滋生以及异味聚集的问题；排放孔可以将基站风道内的液体排出至外部环境中，降低液体与除菌模块接触的风险；基站风道内的气流通过排放孔排出至外部环境中，气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭。

Description

用于清洁设备的清洁基站和清洁系统

相关申请的交叉引用

本申请基于申请号为202310579895.8、202310579903.9、202321247718.1、202321246691.4，申请日为2023年05月22日的中国专利申请提出，并要求该中国专利申请的优先权，该中国专利申请的全部内容在此引入本申请作为参考。

技术领域

本实用新型涉及清洁设备技术领域，尤其是涉及一种用于清洁设备的清洁基站和清洁系统。

背景技术

随着居民生活水平的提高，以洗地机为代表的清洁设备越来越被消费者认可，市场上现有的清洁设备均搭载有配套的基站。相关技术中，基站具有充电的功能，当清洁设备与基站配合时，基站可以对清洁设备进行充电，但是难以解决清洁设备长期使用后存在的细菌滋生的问题。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种用于清洁设备的清洁基站，除菌模块可以实现对基站风道除菌抑臭，也可以实现对设备风道进行除菌抑臭，解决清洁设备中细菌滋生以及异味聚集的问题；另外，基站风道的壁上形成有连通基站风道与外部环境的排放孔，排放孔可以将基站风道内的液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道内积攒，降低液体与除菌模块接触的风险；基站风道内的气流还可以通过排放孔排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以通过排放孔排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道内富集或超标。

本实用新型还提出一种具有上述清洁基站的清洁系统。

根据本实用新型第一方面实施例的用于清洁设备的清洁基站，包括：基站底座，具有第一进风口、第一出风口以及基站风道，所述基站风道连通所述第一进风口与所述第一出风口，所述基站风道的壁上形成有连通所述基站风道与外部环境的排放孔；除菌模块，安装于所述基站底座且位于所述基站风道的流动路径上，所述除菌模块用于产生等离子体；其中，所述清洁设备具有第二进风口、第二出风口以及设备风道，所述设备风道连通所述第二进风口与所述第二出风口，在所述清洁设备与所述清洁基站配合时，所述第一出风口与所述第二进风口连通以形成除菌风道。

根据本实用新型实施例的清洁基站，除菌模块可以实现对基站风道除菌抑臭，也可以实现对设备风道进行除菌抑臭，解决清洁设备中细菌滋生以及异味聚集的问题；另外，基站风道的壁上形成有连通基站风道与外部环境的排放孔，排放孔可以将基站风道内的液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道内积攒，降低液体与除菌模块接触的风险；基站风道内的气流还可以通过排放孔排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道内富集或超标；而且，外部环境中的空间较大，臭氧副产物排至外部环境中后，在外部环境中的浓度较小，避免臭氧副产物超标对人体健康造成危害，排出至外部环境中的臭氧副产物还可以对外部环境中的空气进行除菌。

根据本实用新型的一些实施例，所述基站风道包括低位段和高位段，所述高位段沿上下方向延伸，所述低位段的一端与所述高位段的下端连接且所述低位段的另一端朝向远离所述高位段的方向延伸，所述低位段低于所述高位段，所述除菌模块安装于所述低位段的流动路径上，所述低位段的壁上形成有所述排放孔。

根据本实用新型的一些可选实施例，所述排放孔形成于所述低位段的底壁。

根据本实用新型的一些可选实施例，所述除菌模块包括用于产生等离子体的除菌部件，所述排放孔不高于所述除菌部件的最低位置。

根据本实用新型的一些可选实施例，所述排放孔沿所述低位段的宽度方向延伸，所述低位段的宽度方向垂直于所述低位段的延伸方向。

根据本实用新型的一些可选实施例，所述低位段位于所述基站底座的下部，所述基站底座的上部形成有配合槽，所述清洁设备的地刷适于容纳于所述配合槽，所述配合槽的前侧壁形成有所述第一出风口，所述地刷的前端形成有所述第二进风口。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述排放孔位于所述除菌模块的邻近所述第一出风口的一侧。

在本实用新型的一些可选实施例中，相对于所述第一出风口，所述排放孔更靠近所述除菌模块。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述第一出风口与所述第二进风口间隔设置以形成过风间隙，所述过风间隙暴露于外部环境中且连通所述第一出风口与所述第二进风口。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述基站底座包括底座本体和风道件，所述风道件设于所述底座本体，所述基站风道包括主风道，所述主风道形成于所述风道件，所述主风道包括所述低位段以及所述高位段，所述除菌模块安装于所述风道件，所述低位段位于所述底座本体的底面。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述风道件包括第一风道件以及位于所述第一风道件的下游侧的第二风道件，所述第一风道件的部分以及所述第二风道件位于所述底座本体的底面，所述除菌模块连接在所述第一风道件与所述第二风道件之间且位于所述底座本体的底面，所述第一风道件形成有第一风道，所述第二风道件形成有第二风道，所述主风道包括所述第一风道和所述第二风道，所述低位段包括所述第一风道的部分以及所述第二风道，所述高位段包括所述第一风道的另一部分；所述除菌模块包括保护壳以及除菌部件，所述保护壳具有除菌腔，所述除菌部件设于所述除菌腔，所述除菌腔连通所述第一风道与所述第二风道。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述排放孔形成于所述第二风道的底壁。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述排放孔位于所述第二风道的底壁最低位置处。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述排放孔不高于所述除菌腔的底壁。

在本实用新型的一些可选实施例中，所述第一风道件、所述除菌模块以及所述第二风道件由后至前依次排布；所述底座本体内形成有进风腔和连通风腔，所述基站风道包括所述进风腔和所述连通风腔，所述进风腔位于所述配合槽的后侧，所述连通风腔位于所述配合槽的前侧；所述连通风腔连通所述第二风道与所述第一出风口；所述进风腔的侧壁形成有所述第一进风口，所述进风腔连通所述第一风道与所述第一进风口。

根据本实用新型的一些实施例，所述除菌风道具有除菌进风口和除菌出风口，所述除菌进风口以及所述除菌出风口均与外部环境连通，在所述清洁设备与所述清洁基站配合时，所述第一进风口构成所述除菌进风口，所述第二出风口构成所述除菌出风口。

根据本实用新型第二方面实施例的清洁系统，包括：清洁设备以及根据本实用新型上述第一方面实施例所述的清洁基站。

根据本实用新型实施例的清洁系统，通过设置上述的清洁基站，除菌模块可以实现对基站风道除菌抑臭，也可以实现对设备风道进行除菌抑臭，解决清洁设备中细菌滋生以及异味聚集的问题；另外，基站风道的壁上形成有连通基站风道与外部环境的排放孔，排放孔可以将基站风道内的液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道内积攒，降低液体与除菌模块接触的风险；基站风道内的气流还可以通过排放孔排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道内富集或超标；而且，外部环境中的空间较大，臭氧副产物排至外部环境中后，在外部环境中的浓度较小，避免臭氧副产物超标对人体健康造成危害，排出至外部环境中的臭氧副产物还可以对外部环境中的空气进行除菌。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型一些实施例的清洁系统的结构示意图；

图2是图1中清洁系统的剖面图；

图3是图2中F处的放大图；

图4是图1中清洁基站的结构示意图；

图5是图4中清洁基站的另一角度的示意图；

图6是图5中清洁基站的剖面图；

图7是图6中部分结构的放大图；

图8是图6中清洁基站的部分结构示意图，其中盖体被拆下并示出了容纳腔；

图9是图8中底座本体、第一风道件、第二风道件以及除菌模块的拆分示意图；

图10是图8中风道件的结构示意图；

图11是图10中风道件的另一角度的示意图；

图12是图8中底座本体的结构示意图；

图13是根据本实用新型一些实施例的除菌模块与供电线束的配合示意图；

图14是图13中除菌模块与供电线束的剖面图；

图15是图13中除菌模块的剖视图，示出了除菌腔及其内部的放电单元。

附图标记：

1000、清洁系统；

100、清洁基站；

10、除菌模块；

1、保护壳；13、除菌腔；2、除菌部件；21、放电单元；211、第一电极；212、第二电极；213、绝缘介质件；23、第一插接端子；3、供电线束；31、第二插接端子；

20、基站底座；

4、底座本体；41、底座主体；42、配合槽；421、出风部；43、连通口；48、延伸部；480、容纳腔；481、敞开口；482、盖体；483、进风格栅；49、供电组件；

5、风道件；51、第一风道件；510、进风端；511、风机腔；512、气流入口；52、第二风道件；520、出风端；521、气流出口；527、排放孔；

200、清洁设备；201、设备风机；202、机身；203、地刷；204、污水箱；205、手柄；206、过滤部件；

300、除菌风道；3a、除菌进风口；3b、除菌出风口；

6、基站风道；60、主风道；6a、高位段；6b、低位段；61、第一风道；62、第二风道；63、进风腔；64、连通风腔；65、第一进风口；66、第一出风口；

7、设备风道；70、吸尘腔；71、污水腔；72、驱动腔；73、第一输送腔；74、第二输送腔；75、第二进风口；76、第二出风口；77、过风间隙。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

下面参考附图描述根据本实用新型实施例的清洁基站100。

参照图3-图7，根据本实用新型第一方面实施例的用于清洁设备200的清洁基站100，包括：基站底座20和除菌模块10，基站底座20具有第一进风口65、第一出风口66以及基站风道6，基站风道6连通第一进风口65与第一出风口66。外部环境中的气流可以经过第一进风口65进入基站风道6内，基站风道6内的气流可以经过第一出风口66进入外部环境中。基站风道6的壁上形成有连通基站风道6与外部环境的排放孔527，外部环境中的气流可以经过排放孔527进入基站风道6内，基站风道6内的气流可以经过排放孔527进入外部环境中。

参照图6和图7，除菌模块10安装于基站底座20，且除菌模块10位于基站风道6的流动路径上，除菌模块10用于产生等离子体。

除菌模块10安装于基站底座20时，除菌模块10可以是位于基站风道6内，除菌模块10也可以是位于基站风道6外。基站风道6内流通的气流可以流经除菌模块10，使得除菌模块10产生的等离子体可以对基站风道6内的气流进行除菌。

等离子体可以包含大量的活性氧、活性氮等高氧化性物质，一方面，高氧化性物质与细菌接触后将击穿细菌的细胞膜、DNA以及蛋白质，使细菌迅速破裂丧失活性，从而杀死细菌，延长细菌指数生长期的到来，进而抑制细菌通过好氧、厌氧反应产生的臭味；另一方面，高氧化性物质也可与臭味分子(如氨气)接触反应，将臭味分子分解为无臭味的小分子(例如氮气、水等)，实现对基站风道6内的气流进行除菌抑臭，且除菌效果较好。除菌模块10可以通过高压电离空气产生等离子体，除菌模块10工作过程中以空气作为原料制备活性物质，无需额外添加耗材，长期使用成本低。

参照图2，其中，清洁设备200具有第二进风口75、第二出风口76以及设备风道7，设备风道7连通第二进风口75与第二出风口76，在清洁设备200与清洁基站100配合时，第一出风口66与第二进风口75连通以形成除菌风道300。

通过第一出风口66与第二进风口75连通，将基站风道6和设备风道7连通，基站风道6内除菌后的气流可以经过第一出风口66和第二进风口75进入设备风道7，气流中携带的等离子体可以对设备风道7内的气流进行除菌抑臭，从而解决清洁设备200中细菌滋生以及异味聚集的问题，除菌后的气流可以从第二出风口76排出设备风道77。图6中箭头所示的方向为气流在基站风道6内的流动方向，图2中箭头所示的方向为气流在除菌风道300内的流动方向，图3中箭头所示的方向为气流在第一出风口66处的流动方向。

可以理解的是，清洁设备200使用后，清洁设备200的设备风道7内可能有残留水等液体，在清洁设备200和清洁基站100配合时，基站风道6和设备风道7连通，设备风道7内的残留水等液体容易通过第二进风口75和第一出风口66进入基站风道6内。

其中，排放孔527可以起到排水的作用，设备风道7中的液体从第一出风口66进入基站风道6内，排放孔527可以将液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道6内积攒，降低液体与除菌模块10接触的风险，以保证除菌模块10的使用寿命。

另外，基站风道6内的气流可以通过排放孔527排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体还可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道300内富集或超标；而且，外部环境中的空间较大，臭氧副产物排至外部环境中后，在外部环境中的浓度较小，避免臭氧副产物超标对人体健康造成危害，排出至外部环境中的臭氧副产物还可以对外部环境中的空气进行除菌。

根据本实用新型实施例的清洁基站100，除菌模块10可以实现对基站风道6除菌抑臭，也可以实现对设备风道7进行除菌抑臭，解决清洁设备200中细菌滋生以及异味聚集的问题；另外，基站风道6的壁上形成有连通基站风道6与外部环境的排放孔527，排放孔527可以将基站风道6内的液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道6内积攒，降低液体与除菌模块10接触的风险；基站风道6内的气流还可以通过排放孔527排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道300内富集或超标；而且，外部环境中的空间较大，臭氧副产物排至外部环境中后，在外部环境中的浓度较小，避免臭氧副产物超标对人体健康造成危害，排出至外部环境中的臭氧副产物还可以对外部环境中的空气进行除菌。

参照图6和图7，根据本实用新型的一些实施例，基站风道6包括低位段6b和高位段6a，高位段6a沿上下方向延伸，低位段6b的一端与高位段6a的下端连接，且低位段6b的另一端朝向远离高位段6a的方向延伸，低位段6b低于高位段6a，除菌模块10安装于低位段6b的流动路径上，低位段6b的壁上形成有排放孔527。

通过低位段6b低于高位段6a，进入基站风道6内的液体主要流向低位段6b；排放孔527形成于低位段6b的壁上，则流向低位段6b的液体可以从排放孔527排出，从而方便液体排出基站风道6。另外，通过除菌模块10安装于低位段6b的流动路径上，低位段6b内流通的气流可以流经除菌模块10，使得除菌模块10产生的等离子体可以对低位段6b内的气流进行除菌抑臭，低位段6b内的气流中携带的等离子体的浓度较高，低位段6b内的气流通过排放孔527排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体还可以对外部环境的空气进行除菌抑臭。

参照图6和图7，根据本实用新型的一些可选实施例，排放孔527形成于低位段6b的底壁，使得排放孔527的位置较低，进入基站风道6内的液体可以沿着低位段6b的底壁排出至外部环境中，避免液体在低位段6b内积攒，降低液体与除菌模块10接触的风险；基站风道6内的气流可以通过排放孔527排出至基站底座20的下方，这样气流中携带的等离子体还可以对基站底座20的底部覆盖区域进行除菌抑臭，以增加除菌模块10的除菌区域，可以提高除菌模块10的除菌效率。

参照图7，根据本实用新型的一些可选实施例，除菌模块10包括除菌部件2，除菌部件2用于产生等离子体，排放孔527不高于除菌部件2的最低位置。例如，排放孔527的位置可以等于除菌部件2的最低位置；或者，排放孔527的位置也可以低于除菌部件2的最低位置。

通过排放孔527不高于除菌部件2的最低位置，从第一出风口66进入基站风道6的液体通过基站风道6排出，避免液体接触除菌部件2造成除菌部件2短路、电子元器件损坏等问题，可以降低安全风险，保证除菌部件2的使用寿命。

根据本实用新型的一些可选实施例，排放孔527沿低位段6b的宽度方向延伸，低位段6b的宽度方向垂直于低位段6b的延伸方向。例如，低位段6b的宽度方向可以为左右方向，低位段6b的延伸方向可以为前后方向。通过排放孔527沿低位段6b的宽度方向延伸，排放孔527的流通面积较大，可以使得低位段6b内的液体以较快的速度排出，避免液体在低位段6b内积攒，降低液体与除菌模块10接触的风险。

参照图2和图6，根据本实用新型的一些可选实施例，低位段6b位于基站底座20的下部，基站底座20的上部形成有配合槽42，清洁设备200的地刷203适于容纳于配合槽42，配合槽42对清洁设备200具有定位作用，通过地刷203容纳于配合槽42，可以实现清洁设备200在清洁基站100上定位；当地刷203容纳于配合槽42时，配合槽42用于收集地刷203上残留的污水，防止地刷203上的污水滴落到地面或基站底座20的其他部位。

参照图3，配合槽42的前侧壁形成有第一出风口66，地刷203的前端形成有第二进风口75，这样使得第二进风口75与第一出风口66相对设置，第一出风口66和第二进风口75可以更好地配合连通，可以进一步保证第一出风口66和第二进风口75处的气流流通的顺畅性。并且，第一出风口66形成于配合槽42的侧壁，使得第一出风口66的位置较高，可以有效的降低配合槽42内的液体从第一出风口66进入基站风道6内的风险。

例如，参照图3和图6，根据本实用新型的一些具体实施例，配合槽42的前侧壁形成有出风部421，出风部421沿左右方向延伸，第一出风口66形成于出风部421，这样有利于扩大气流的出风范围；当除菌模块10产生等离子体时，出风部421沿左右方向延伸还可以扩大等离子体的覆盖范围，有助于增大等离子体在清洁基站100上的除菌区域，也有助于增大等离子体在外部环境中的除菌区域。例如，第一出风口66可以呈沿左右方向延伸的长条形，第一出风口66也可以呈格栅状沿左右方向间隔排布。

参照图6，在本实用新型的一些可选实施例中，排放孔527位于除菌模块10的邻近第一出风口66的一侧，使得第一出风口66处的等离子体的浓度较高，经过第一出风口66和第二出风口76进入设备风道7内的等离子体的浓度较高，对设备风道7的除菌抑臭的效果更好，可以更好地解决清洁设备200中细菌滋生以及异味聚集的问题。

参照图6和图7，在本实用新型的一些可选实施例中，相对于第一出风口66，排放孔527更靠近除菌模块10，除菌模块10产生的等离子体在排放孔527处的浓度较高，经过除菌模块10的部分气流可以从排放孔527中排出至外部环境，气流中携带的等离子体可以实现对外部环境中的空气进行除菌，且除菌效果较好；等离子体中携带的臭氧副产物也随之排出基站风道6，以降低除菌风道300内的臭氧副产物的浓度。

参照图3，在本实用新型的一些可选实施例中，第一出风口66与第二进风口75间隔设置以形成过风间隙77，过风间隙77暴露于外部环境中，且过风间隙77连通第一出风口66与第二进风口75。基站风道6内的一部分气流可以通过第一出风口66进入过风间隙77并进入外部环境中，从而可以实现对外部环境中的空气进行除菌；另外，基站风道6内的另外一部分气流可以通过第一出风口66、过风间隙77以及第二进风口75进入设备风道7内，从而实现对设备风道7内的气流进行除菌。

参照图4-图6，在本实用新型的一些可选实施例中，基站底座20包括底座本体4和风道件5，风道件5设于底座本体4，基站风道6包括主风道60，主风道60形成于风道件5，主风道60包括低位段6b以及高位段6a，除菌模块10安装于风道件5，除菌模块10安装于低位段6b的流动路径上，低位段6b位于底座本体4的底面，则除菌模块10位于底座本体4的底面，这样方便除菌模块10以及风道件5的拆装和维护，可以充分地利用底座本体4的底部的空间。

继续参照图4-图6，在本实用新型的一些可选实施例中，风道件5包括第一风道件51以及第二风道件52，第二风道件52位于第一风道件51的下游侧，第一风道件51的部分以及第二风道件52位于底座本体4的底面，除菌模块10连接在第一风道件51与第二风道件52之间，且除菌模块10位于底座本体4的底面，使得除菌模块10的安装和拆卸都更加方便，可以增强除菌模块10的维护便利性，并且这样可以更为充分地利用底座本体4的底部的空间。

第一风道件51形成有第一风道61，第二风道件52形成有第二风道62，主风道60包括第一风道61和第二风道62，低位段6b包括第一风道61的部分以及第二风道62，高位段6a包括第一风道61的另一部分；除菌模块10包括保护壳1以及除菌部件2，例如保护壳1可以与第一风道件51以及第二风道件52连接；保护壳1具有除菌腔13，除菌部件2设于除菌腔13，除菌腔13连通第一风道61与第二风道62，使得第一风道61和第二风道62之间气流流通顺畅。

需要说明的是，本实用新型的实施例中所述的上游或下游均是相对于气流的流动方向而言的。第二风道件52位于第一风道件51的下游侧，气流是从第一风道61流向第二风道62。

除菌部件2可以产生等离子体，等离子体可以对除菌腔13内的气流进行除菌抑臭。当气流从第一风道61流向第二风道62时，气流流经除菌腔13，使得除菌腔13内的等离子体可以对主风道60内的气流进行除菌，从而实现对基站风道6内的气流进行除菌；设备风道7与基站风道6连通形成除菌风道300，基站风道6内的气流流进设备风道7内，气流中携带的等离子体可以实现对设备风道7内的气流进行除菌，从而实现对除菌风道300内的气流进行除菌。

参照图6和图7，在本实用新型的一些可选实施例中，排放孔527形成于第二风道62的底壁。第二风道62位于除菌腔13的下游侧，则排放孔527位于除菌腔13的下游侧，从第一出风口66进入第二风道62的液体沿着第二风道62的底壁排出至外部环境中，避免液体与除菌部件2接触产生的除菌部件2输出短路、电子元器件损坏等问题，降低安全风险，可以保证除菌部件2的使用寿命。另外，第二风道62内的气流也会从第二风道62的底壁的排放孔527排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体还可以对第二风道件52的底部覆盖区域进行除菌抑臭。

参照图6和图7，在本实用新型的一些可选实施例中，排放孔527位于第二风道62的底壁最低位置处，这样更方便第二风道62内的液体从排放孔527排出，进一步避免液体与除菌部件2接触产生的除菌部件2输出短路、电子元器件损坏等问题，进一步降低安全风险，更好地保证除菌部件2的使用寿命。

参照图7，在本实用新型的一些可选实施例中，排放孔527不高于除菌腔13的底壁。例如，排放孔527的位置可以与除菌腔13的底壁的位置平齐；或者，排放孔527的位置也可以低于除菌腔13的底壁。

进入主风道60内的残留水等液体可以从排放孔527排出至外部环境中，通过排放孔527不高于除菌腔13的底壁，避免主风道60内的液体积攒并进入除菌腔13，避免液体与除菌模块10接触产生的除菌模块10输出短路、电子元器件损坏等问题，可以进一步降低安全风险，更好地保证除菌模块10的使用寿命。

参照图3和图6，在本实用新型的一些可选实施例中，第一风道件51、除菌模块10以及第二风道件52由后至前依次排布；底座本体4内形成有进风腔63和连通风腔64，基站风道6包括进风腔63和连通风腔64，进风腔63位于配合槽42的后侧，连通风腔64位于配合槽42的前侧；连通风腔64连通第二风道62与第一出风口66，方便气流在第二风道62和第一出风口66之间流通；进风腔63的侧壁形成有第一进风口65，进风腔63连通第一风道61与第一进风口65，方便气流在第一出风口66和第一风道61之间流通。

气流在基站风道6内的流动过程如下：外部环境中的气流从第一进风口65进入进风腔63，进风腔63内的气流可以进入第一风道61；气流沿着第一风道61流动并流至除菌腔13，除菌腔13内的等离子体对气流进行除菌，混合着等离子体的气流从除菌腔13流入第二风道62，并对第二风道62内的气流进行除菌；第二风道62内的气流流至连通风腔64，对连通风腔64内的气流进行除菌，连通风腔64内的气流通过第一出风口66吹出基站风道6，并经过第二进风口75进入设备风道7，气流中携带的等离子体可以对设备风道7内的气流进行除菌。

上述第二进风口75形成于地刷203的前端，第一进风口65形成于进风腔63的侧壁，使得第二进风口75与第一进风口65间隔开，以避免第二进风口75与第一进风口65处的气流相互干扰，防止从第一出风口66吹出的气流从第一进风口65再次进入基站风道6内，可以保证设备风道7内的进风量，从而可以保证除菌模块10对设备风道7内的气流的除菌效率。

参照图2，根据本实用新型的一些实施例，除菌风道300具有除菌进风口3a和除菌出风口3b，除菌进风口3a以及除菌出风口3b均与外部环境连通，使得除菌风道300与外部环境连通，外部环境中的空气可以经过除菌进风口3a进入除菌通道内，除菌通道内的气流可以经过除菌出风口3b进入外部环境中。一方面，除菌模块10除了可以用于对除菌风道300内的气流进行除菌，除菌后的气流通过除菌出风口3b排出至外部环境中，气流中携带的等离子体还可以对外部环境中的空气进行除菌。另一方面，外部环境中的气流进入除菌风道300内除菌后再通过除菌出风口3b排出至外部环境中，这样可以进一步实现对外部环境中的空气进行除菌。

可以理解的是，在除菌风道300为密闭的风道时，除菌风道300内的气流始终在除菌风道300内循环，当除菌模块10通过高压电离空气产生等离子体时，除菌模块10一直向除菌风道300内释放等离子体，使得等离子体在除菌风道300内富集，当等离子体中携带对人体健康有害的臭氧副产物时，臭氧副产物也会在除菌风道300中富集甚至超标。由此，通过除菌风道300与外部环境连通构成开放性的循环风道，外部环境中的空气可以从除菌进风口3a进入除菌风道300内，这样除菌风道300内得以实时补充新鲜空气，进一步地减小除菌风道300内的异味；还可以避免除菌模块10产生的臭氧副产物在除菌风道300内富集，以减少臭氧副产物的浓度。

参照图2，在清洁设备200与清洁基站100配合时，第一进风口65构成除菌进风口3a，第二出风口75构成除菌出风口3b，则除菌进风口3a形成于基站底座20，除菌出风口3b形成于清洁设备200，除菌进风口3a和除菌出风口3b位于不同位置，可以避免除菌出风口3b处的气流干扰除菌进风口3a处的气流，有助于空气流通顺畅。

例如，参照图2，清洁设备200可以包括设备风机201，设备风机201至少用于驱动设备风道7内的气流流动；清洁基站100可以包括基站风机，基站风机至少用于驱动基站风道6内的气流流动。通过设备风机201驱动设备风道7内的气流流动，基站风机驱动基站风道6内的气流流动，可以实现驱动除菌风道300内的气流流动。

当设备风机201和基站风机工作时，气流的流动过程如下：在基站风机的驱动下，基站风道6内形成负压，外部环境的空气受负压作用从第一进风口65进入基站风道6，基站风道6内的气流经过除菌模块10，除菌模块10产生的等离子体对基站风道6内的气流除菌，并且除菌后的气流从第一出风口66吹出基站风道6；在设备风机201的驱动下，设备风道7内形成负压，从第一出风口66吹出的气流受负压作用从第二进风口75进入设备风道7，气流中携带的等离子体可以对设备风道7内的气流进行除菌，由此，除菌模块10可以实现对整个除菌风道300内的气流进行除菌；最后设备风道7内的气流从第二出风口76排出至外部环境中，气流中携带的等离子体可以对外部环境中的空气进行除菌。

下面参照图1-图15描述根据本实用新型一个实施例的清洁基站100。

参照图1-图15，清洁基站100用于清洁设备200，清洁基站100包括基站底座20、除菌模块10和供电组件49。基站底座20具有基站风道6、第一进风口65和第一出风口66，基站风道6包括进风腔63、主风道60和连通风腔64，基站风道6连通第一进风口65和第一出风口66；基站风道6的壁上形成有连通基站风道6与外部环境的排放孔527。设备风道7内设有基站风机，基站风机用于驱动设备风道7内的气流流动。

清洁设备200具有设备风道7、第二进风口75和第二出风口76，设备风道7连通第二进风口75和第二出风口76，第二进风口75和第二出风口76位于同一侧，第二出风口76位于第二进风口75的上方。设备风道7内设有设备风机201，设备风机201用于驱动设备风道7内的气流流动。

在清洁设备200与清洁基站100配合时，第一出风口66和第二进风口75相对且连通，使得基站风道6与设备风道7配合且适于连通以形成除菌风道300，第一进风口65构成除菌风道300的除菌进风口3a，第二出风口76构成除菌风道300的除菌出风口3b，除菌进风口3a与除菌出风口3b位于相对两侧，除菌进风口3a以及除菌出风口3b均与外部环境连通。

基站底座20包括底座本体4和风道件5，风道件5设于底座本体4，风道件5与底座本体4分别独立成型。第一进风口65以及第一出风口66均形成于底座本体4，风道件5具有主风道60，风道件5位于第一进风口65与第一出风口66之间，且主风道60连通第一进风口65与第一出风口66。底座本体4包括底座主体41和延伸部48，底座主体41内形成有连通风腔64，连通风腔64贯穿底座主体41的底面以形成有连通口43，风道件5的出风端520连接于连通口43。

延伸部48设于底座主体41的后部，且延伸部48沿上下方向延伸，进风腔63形成于延伸部48。进风腔63的后侧壁形成有两个间隔设置的第一进风口65，第一进风口65处形成有进风格栅483，进风腔63连通主风道60与第一进风口65。延伸部48内还具有与进风腔63连通的容纳腔480，容纳腔480位于进风腔63的下侧，容纳腔480的敞开口481设有盖体482以封盖敞开口481，盖体482可拆卸地连接于底座本体4。

底座主体41与延伸部48共同限定出配合槽42，进风腔63位于配合槽42的后侧，连通风腔64位于配合槽42的前侧。配合槽42的前侧壁形成有出风部421，出风部421沿左右方向延伸，第一出风口66形成于风部，连通风腔64连通第二风道62与第一出风口66。清洁设备200的地刷203容纳于配合槽42，地刷203的前端形成第二进风口75，第一出风口66位于第二进风口75的进风侧，第二进风口75和第一出风口66之间间隔设置以形成过风间隙77，过风间隙77暴露于外部环境中，且过风间隙77连通第一出风口66与第二进风口75。

风道件5包括第一风道件51以及第二风道件52，第二风道件52位于第一风道件51的下游侧，第一风道件51具有第一风道61，第二风道件52具有第二风道62，主风道60包括第一风道61和第二风道62，气流从第一风道61流向第二风道62。第一风道61的横截面积在气流的流动方向上不变且小于所述第二风道62的横截面积，第二风道62的横截面积在气流的流动方向上逐渐增大。

主风道60包括低位段6b以及高位段6a，低位段6b包括第一风道61的部分以及第二风道62，高位段6a包括第一风道61的另一部分。低位段6b位于底座本体41的底面，高位段6a沿上下方向延伸，低位段6b的一端与高位段6a的下端连接，且低位段6b的另一端朝向远离高位段6a的方向延伸，低位段6b低于高位段6a。

第一风道件51的部分位于容纳腔480，第一风道件51的其他部分位于底座主体41的底面且沿前后方向延伸。第一风道件51的进风端510适于经敞开口481以及容纳腔480伸入至进风腔63。第一风道件51的进风端510形成有与进风腔63连通的气流入口512；第一风道件51的进风端510具有风机腔511，风机腔511用于安装基站风机，气流入口512连通风机腔511与进风腔63。基站风机的风轮为基站风轮，基站风轮设于基站风道6内且为离心风轮，两个第一进风口65位于离心风轮的轴向两侧。

第一风道件51与底座本体4可拆卸连接，第二风道件52与底座本体4可拆卸连接；第二风道件52的出风端520与连通口43相连，第二风道件52的其他部分位于底座主体41的底面且沿前后方向延伸。

除菌模块10设于底座本体4，且除菌模块10位于底座本体4的底面，除菌模块10连接于第一风道件51与第二风道件52之间，第一风道件51、除菌模块10以及第二风道件52由后至前依次排布。除菌模块10安装于低位段6b的流动路径上，并且除菌模块10位于气流从第一风道61到第二风道62的流动路径上。其中，相对于第一进风口65，除菌模块10更靠近第一出风口66。

除菌模块10包括保护壳1和除菌部件2，保护壳1具有除菌腔13，除菌腔13连通第一风道61与第二风道62。其中，排放孔527位于除菌模块10的下游侧，相对于第一出风口66，排放孔527更靠近除菌模块10，排放孔527形成于低位段6b的底壁，排放孔527低于除菌腔13的底壁。排放孔527沿低位段6b的宽度方向延伸，低位段6b的宽度方向垂直于低位段6b的延伸方向。

除菌部件2设于除菌腔13且用于产生等离子体，除菌部件2包括放电单元21和两个第一接插端子，放电单元21包括第一电极211、第二电极212以及绝缘介质件213，绝缘介质件213设在第一电极211与第二电极212之间，第一电极211和第二电极212分别与两个第一接插端子相连。

容纳腔480内设有供电组件49，供电组件49位于除菌模块10的邻近第一风道件51的一侧，且供电组件49与除菌模块10通过供电线束3相连。供电线束3具有与第一插接端子23配合的第二插接端子31，第二插接端子31与第一插接端子23插接配合，以将放电单元21与供电线束3电连接。

参照图1和图2，根据本实用新型第二方面实施例的清洁系统1000，包括清洁设备200以及根据本实用新型上述第一方面实施例的清洁基站100。

上述的清洁设备200可以为洗地机。例如，清洁设备200可以包括机身202、手柄205、地刷203、设备风机201、污水箱204、过滤部件206和清洁液箱(附图中未示出)。清洁液箱用于向地刷203或待清洁表面喷洒液体；地刷203设于机身202的底部；手柄205设于机身202的顶部；污水箱204设于机身202的前侧且用于回收污水，污水箱204位于地刷203的上侧且与地刷203相连；设备风机201设于机身202的前侧，且设备风机201位于污水箱204的上方，设备风机201至少用于驱动设备风道7内的气流流动；过滤部件206(例如HEPA网)设于污水箱204和过滤部件206之间，过滤部件206可以用于过滤气流中携带的灰尘及其他杂质。

例如，参照图2，地刷203具有吸尘腔70，吸尘腔70的进风端510形成第二进风口75；污水箱204内具有与吸尘腔70连通的污水腔71，且污水腔71位于吸尘腔70的上侧，污水腔71沿上下方向延伸。污水腔71的上侧设有过滤部件206，过滤部件206的上方为设备风机201所在的驱动腔72，过滤部件206可以连通污水腔71和驱动腔72，并且可以过滤从污水腔71进入驱动腔72的杂质。污水箱204与机身202之间具有配合间隙，污水箱204与机身202之间限定出第一输送腔73，第一输送腔73与驱动腔72连通，且第一输送腔73沿上下方向延伸；污水箱204与地刷203之间也具有配合间隙，污水箱204与地刷203之间限定出第二输送腔74，第二输送腔74与第一输送腔73连通，第二输送腔74沿前后方向延伸，且第二输送腔74的前端形成第二出风口76，第二出风口76朝向机身202的前侧出风。其中，第二出风口76与第二进风口75位于同一侧，第二出风口76位于地刷203的上方，且第二出风口76位于第二进风口75的上方。吸尘腔70、污水腔71、驱动腔72、第一输送腔73和第二输送腔74在气流的流动方向上依次排布，且吸尘腔70、污水腔71、驱动腔72、第一输送腔73和第二输送腔74组成设备风道7。

在设备风道7包括上述的吸尘腔70、污水腔71、驱动腔72、第一输送腔73和第二输送腔74时，清洁设备200的工作过程大致如下：清洁液箱内流出的清洁液不断打湿地刷203，地刷203清洁地面后会携带污水以及杂质；同时设备风机201工作，设备风道7内形成负压，以将混合着污水和杂质的气流从第二进风口75抽吸入吸尘腔70内，并经过吸尘腔70进入污水腔71内；当污水经过污水腔71时会附着在污水腔71的侧壁上，并在污水箱204中集中存储；除去污水的气流经过过滤部件206除杂后继续流向驱动腔72，并在驱动风机的驱动下进入第一输送腔73以及第二输送腔74；最后，进入第二输送腔74内的气流从第二出风口76吹出至外部环境中。

根据本实用新型实施例的清洁系统1000，通过设置上述的清洁基站100，除菌模块10可以实现对基站风道6除菌抑臭，也可以实现对设备风道7进行除菌抑臭，解决清洁设备200中细菌滋生以及异味聚集的问题；另外，基站风道6的壁上形成有连通基站风道6与外部环境的排放孔527，排放孔527可以将基站风道6内的液体排出至外部环境中，避免液体在基站风道6内积攒，降低液体与除菌模块10接触的风险；基站风道6内的气流还可以通过排放孔527排出至外部环境中，这样气流中携带的等离子体可以对外部环境的空气进行除菌抑臭；等离子体中携带的臭氧副产物也可以排出至外部环境中，避免臭氧副产物在除菌风道300内富集或超标；而且，外部环境中的空间较大，臭氧副产物排至外部环境中后，在外部环境中的浓度较小，避免臭氧副产物超标对人体健康造成危害，排出至外部环境中的臭氧副产物还可以对外部环境中的空气进行除菌。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，第一特征在第二特征“之上”或“之下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。

在本实用新型的描述中，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (17)

1.一种用于清洁设备的清洁基站，其特征在于，包括：

基站底座，具有第一进风口、第一出风口以及基站风道，所述基站风道连通所述第一进风口与所述第一出风口，所述基站风道的壁上形成有连通所述基站风道与外部环境的排放孔；

除菌模块，安装于所述基站底座且位于所述基站风道的流动路径上，所述除菌模块用于产生等离子体；

其中，所述清洁设备具有第二进风口、第二出风口以及设备风道，所述设备风道连通所述第二进风口与所述第二出风口，在所述清洁设备与所述清洁基站配合时，所述第一出风口与所述第二进风口连通以形成除菌风道。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述基站风道包括低位段和高位段，所述高位段沿上下方向延伸，所述低位段的一端与所述高位段的下端连接且所述低位段的另一端朝向远离所述高位段的方向延伸，所述低位段低于所述高位段，所述除菌模块安装于所述低位段的流动路径上，所述低位段的壁上形成有所述排放孔。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔形成于所述低位段的底壁。

4.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述除菌模块包括用于产生等离子体的除菌部件，所述排放孔不高于所述除菌部件的最低位置。

5.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔沿所述低位段的宽度方向延伸，所述低位段的宽度方向垂直于所述低位段的延伸方向。

6.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述低位段位于所述基站底座的下部，所述基站底座的上部形成有配合槽，所述清洁设备的地刷适于容纳于所述配合槽，所述配合槽的前侧壁形成有所述第一出风口，所述地刷的前端形成有所述第二进风口。

7.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔位于所述除菌模块的邻近所述第一出风口的一侧。

8.根据权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，相对于所述第一出风口，所述排放孔更靠近所述除菌模块。

9.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述第一出风口与所述第二进风口间隔设置以形成过风间隙，所述过风间隙暴露于外部环境中且连通所述第一出风口与所述第二进风口。

10.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述基站底座包括底座本体和风道件，所述风道件设于所述底座本体，所述基站风道包括主风道，所述主风道形成于所述风道件，所述主风道包括所述低位段以及所述高位段，所述除菌模块安装于所述风道件，所述低位段位于所述底座本体的底面。

11.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，所述风道件包括第一风道件以及位于所述第一风道件的下游侧的第二风道件，所述第一风道件的部分以及所述第二风道件位于所述底座本体的底面，所述除菌模块连接在所述第一风道件与所述第二风道件之间且位于所述底座本体的底面，所述第一风道件形成有第一风道，所述第二风道件形成有第二风道，所述主风道包括所述第一风道和所述第二风道，所述低位段包括所述第一风道的部分以及所述第二风道，所述高位段包括所述第一风道的另一部分；

所述除菌模块包括保护壳以及除菌部件，所述保护壳具有除菌腔，所述除菌部件设于所述除菌腔，所述除菌腔连通所述第一风道与所述第二风道。

12.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔形成于所述第二风道的底壁。

13.根据权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔位于所述第二风道的底壁最低位置处。

14.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述排放孔不高于所述除菌腔的底壁。

15.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述第一风道件、所述除菌模块以及所述第二风道件由后至前依次排布；

所述底座本体内形成有进风腔和连通风腔，所述基站风道包括所述进风腔和所述连通风腔，所述进风腔位于所述配合槽的后侧，所述连通风腔位于所述配合槽的前侧；

所述连通风腔连通所述第二风道与所述第一出风口；所述进风腔的侧壁形成有所述第一进风口，所述进风腔连通所述第一风道与所述第一进风口。

16.根据权利要求1-15中任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述除菌风道具有除菌进风口和除菌出风口，所述除菌进风口以及所述除菌出风口均与外部环境连通，在所述清洁设备与所述清洁基站配合时，所述第一进风口构成所述除菌进风口，所述第二出风口构成所述除菌出风口。

17.一种清洁系统，其特征在于，包括：清洁设备以及根据权利要求1-16中任一项所述的清洁基站。