CN220335354U - 一种钛蓝结构和一种电镀系统 - Google Patents
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- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 56
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 54
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 46
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 41
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[P] Chemical compound [Cu].[P] RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
本实用新型提供一种钛蓝结构和一种电镀系统，该钛蓝结构包括：盒体，以及设置在所述盒体中的不溶性阳极板；其中，所述盒体的形状为长条形，所述盒体的顶部设置有向内凹陷的弧形板。本实用新型实施例通过将盒体的顶部设置为弧形，可以使得在盒体的内部，从弧形板的两边到弧形板的底部形成压强差，从而使盒体内部的气泡沿着弧形板的弧形边缘往两侧走，防止气泡直接向上走，从而避免了在金属薄膜的表面形成一层气泡，提高产品质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及薄膜电镀技术领域，具体涉及一种钛蓝结构和一种电镀系统。
背景技术
随着技术的发展，柔性薄膜基材表面镀膜需求越来越大，工业生产中通常使用水电镀设备对柔性薄膜基材电镀，即针对各种本体和镀层的需要，配置水镀液，使柔性薄膜基材通过水镀液在较短的时间内即可完成。在电镀过程中，通常使用钛蓝作为电镀阳极，其内部主要放置铜球或者不溶性阳极板，但是当前的钛蓝盛放不溶性阳极板时容易产生气泡，影响镀膜。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型实施例的目的在于提供一种钛蓝结构和一种电镀系统，以解决现有技术中钛蓝盛放不溶性阳极板时容易产生气泡，影响镀膜的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型实施例提供了一种钛蓝结构，所述钛蓝结构包括：盒体，以及设置在所述盒体中的不溶性阳极板；其中，所述盒体的形状为长条形，所述盒体的顶部设置有向内凹陷的弧形板。
在一些可能的实施方式中，所述盒体和所述弧形板上设置有若干孔洞。
在一些可能的实施方式中，所述钛蓝结构还包括：半透离子膜，设置在所述盒体的内部，且位于所述不溶性阳极板与所述弧形板之间。
在一些可能的实施方式中，所述盒体的材质为聚氯乙烯。
第二方面，本实用新型实施例提供了一种电镀系统，所述电镀系统包括：
第一电镀槽；
上下导电辊，分别设置在所述第一电镀槽的前端或后端；
上阳极板和一种钛蓝结构，所述第一上阳极板设置在所述第一电镀槽的内部的上方，所述钛蓝结构设置在所述第一电镀槽的内部下方，所述第一上阳极板与所述钛蓝结构分别位于薄膜的两侧。
在一些可能的实施方式中，所述钛蓝结构中的不溶性阳极板通过盒体挂设在所述第一电镀槽的两端；
所述薄膜从所述上下导电辊之间穿过。
在一些可能的实施方式中，所述电镀系统还包括：上下截液辊，分别设置在所述第一电镀槽的前后两个壁体上。
第三方面，本实用新型实施例提供了另一种电镀系统，所述电镀系统包括：
第二电镀槽；
上导电装置和下导电装置，分别上下设置在所述第二电镀槽的内部；
上阳极板和一种钛蓝结构，所述第二上阳极板设置在所述第二电镀槽的内部的上方，所述钛蓝结构设置在所述第二电镀槽的内部下方，所述第二上阳极板与所述钛蓝结构分别位于薄膜的两侧。
在一些可能的实施方式中，所述上导电装置和所述下导电装置均包括：
若干辊轮和包裹在所述若干辊轮外侧的导电带；其中，至少一个所述辊轮为主动辊；
所述上导电装置中的导电带与所述下导电装置中的导电带接触，并夹持所述薄膜运动。
在一些可能的实施方式中，所述电镀系统还包括：
若干过辊和若干张力辊，分别设置在所述第二电镀槽的前端和/或后端。
上述技术方案的有益技术效果在于：
本实用新型实施例提供的一种钛蓝结构和一种电镀系统，该钛蓝结构包括：盒体，以及设置在所述盒体中的不溶性阳极板；其中，所述盒体的形状为长条形，所述盒体的顶部设置有向内凹陷的弧形板。本实用新型实施例通过将盒体的顶部设置为弧形，可以使得在盒体的内部，从弧形板的两边到弧形板的底部形成压强差，从而使盒体内部的气泡沿着弧形板的弧形边缘往两侧走，防止气泡直接向上走，从而避免了在金属薄膜的表面形成一层气泡，提高产品质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的整体结构示意图；
图2是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的侧视图；
图3是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的前视图；
图4是本实用新型实施例提供的一种电镀系统的结构示意图；
图5是本实用新型实施例的另一种电镀系统的结构示意图。
附图标号说明：
10、盒体；101、弧形板；11、不溶性阳极板；12、半透离子膜；
20、第一电镀槽；21、上下导电辊；22、第一上阳极板；23、上下截液辊；
30、第二电镀槽；31、上导电装置；32、下导电装置；301、辊轮；302、导电带；33、第二上阳极板；34、过辊；35、张力辊。
具体实施方式
下面将详细描述本实用新型的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本实用新型的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本实用新型可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本实用新型的示例来提供对本实用新型的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本实用新型造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
图1是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的整体结构示意图，如图1所示，该钛蓝结构包括：盒体10，以及设置在盒体10中的不溶性阳极板11；其中，盒体10的形状为长条形，盒体10的顶部设置有向内凹陷的弧形板101。
具体的，在电镀过程中，气泡的来源有两种，一是不溶性阳极板11本身的析氧反应后产生一定的气泡；另一种是由于不溶性阳极板11通电后，不溶性阳极板11的阳极处会发生析氧反应，在阴极发生的是析铜反应，如果在电镀过程中存在铜离子来不及交换，将会发生副反应，在副反应中会发生电解水反应，此时阳极产生氧气，阴极产生氢气，进而阳极处的氧气会在镀液中形成气泡。而本实用新型实施例通过将盒体10的顶部设置为弧形，可以使得在盒体10的内部，水压压强从弧形板101的两边到弧形板101的底部形成压强差，从而使盒体10内部的气泡沿着弧形板101的弧形边缘往两侧走(如图1中所示的气体走向)，防止气泡直接向上走，从而避免了在金属薄膜的表面形成一层气泡，提高产品质量。另外，由于本实施例中采用不溶性阳极板11作为电镀阳极，需要向电镀液中加入溶解后的铜，使得带二价电荷的铜离子发生氧化反应，生产铜金属单质层积在薄膜上。
图2是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的侧视图，图3是本实用新型实施例的一种钛蓝结构的前视图，在一些实施例中，如图2和图3所示，该盒体10和弧形板101上设置有若干孔洞。本实施例中，通过在盒体10上有多个孔洞，以方便镀液侵润不溶性阳极板11。
如图1所示，在一些实施例中，该钛蓝结构还包括半透离子膜12，设置在盒体10的内部，且位于不溶性阳极板11与弧形板101之间。本实施例中，为了更好的防止气泡对镀膜的影响，本实施例中还在盒体10的内部设置有半透离子膜12，该半透离子膜12由于本身的性质，即可以透过溶液但是透不过气泡，因而可以起到进一步防止气泡直接向上走，在薄膜的表面形成一层气泡，影响镀膜质量。
在一些实施例中，为了避免盒体10被腐蚀，盒体10的材质可以为聚氯乙烯。
图4是本实用新型实施例提供的一种电镀系统的结构示意图，如图4所示，该电镀系统包括：第一电镀槽20；上下导电辊21，分别设置在第一电镀槽20的前端和/或后端；第一上阳极板22和一种钛蓝结构，第一上阳极板22设置在第一电镀槽20的内部的上方，钛蓝结构设置在第一电镀槽20的内部下方，钛蓝结构中的不溶性阳极板11通过盒体10设置在第一电镀槽20上，其中，第一上阳极板22与钛蓝结构分别位于薄膜的两侧，用于对薄膜的双面进行镀膜。
具体的，传统的电镀系统中，镀液内产生的气泡会直接向上走，在薄膜的表面形成一层气泡，影响镀膜质量；而本实施例中，通过将传统镀液内部的下阳极板替换成钛蓝结构，可以避免镀液中的气泡直接向上走，在薄膜的表面形成一层气泡，影响镀膜质量。
另外，本实施例中的电镀系统所生产的薄膜镀层更加均匀，因为传统的镀膜设备中，磷铜球在使用过程中不断消耗，无法长时间保持尺寸稳定性，例如，磷铜球在钛篮中的高度，磷铜球的表面积、保持稳定的放电能力以及磷化膜厚度的变化等，也就无法保持放电的一致性，而本实施例中的不溶性阳极板11的放电能力取决于涂层的析氧反应电极电势，与涂层贵金属含量没有直接关系，且本实施例中的不溶性阳极板11在其寿命周期内，可以持续保持放电一致性。
在一些实施例中，钛蓝结构中的盒体10挂设在第一电镀槽20的两端，薄膜从上下导电辊21之间穿过，对薄膜的双面进行电镀；本实施例中的钛蓝结构可以便于安装和拆卸，。
如图4所示，在一些实施例中，该电镀系统还包括：上下截液辊23，分别设置在第一电镀槽20的前后两个壁体上，以防止第一电镀槽20中的电镀液溢出。当然，在整个镀膜过程中，还可以设置张力辊以及过辊等以更好的控制薄膜的张力，还可以设置清洗机构和烘干设备以对薄膜进行清洗和烘干等。
图5是本实用新型实施例的另一种电镀系统的结构示意图，如图5所示，该电镀系统包括：第二电镀槽30；上导电装置31和下导电装置32，分别上下设置在第二电镀槽30的内部；第二上阳极板33和一种钛蓝结构，第二上阳极板33设置在第二电镀槽30的内部的上方，钛蓝结构设置在第二电镀槽30的内部下方，钛蓝结构中的不溶性阳极板11通过盒体10设置在第二电镀槽30上，其中，第二上阳极板33与钛蓝结构分别位于薄膜的两侧，用于对薄膜的双面进行镀膜。
具体的，传统的电镀系统中，镀液内产生的气泡会直接向上走，在薄膜的表面形成一层气泡，影响镀膜质量；而本实施例中，通过将传统镀液内部的下阳极板替换成钛蓝结构，可以避免镀液中的气泡直接向上走，在薄膜的表面形成一层气泡，影响镀膜质量。
另外，本实施例中的电镀系统所生产的薄膜镀层更加均匀，因为传统的镀膜设备中，磷铜球在使用过程中不断消耗，无法长时间保持尺寸稳定性，例如，磷铜球在钛篮中的高度，磷铜球的表面积、保持稳定的放电能力以及磷化膜厚度的变化等，也就无法保持放电的一致性，而本实施例中的不溶性阳极板11的放电能力取决于涂层的析氧反应电极电势，与涂层贵金属含量没有直接关系，且本实施例中的不溶性阳极板11在其寿命周期内，可以持续保持放电一致性。
如图5所示，在一些实施例中，上导电装置31和下导电装置32均包括：若干辊轮301和包裹在若干辊轮301外侧的导电带302；其中，至少一个辊轮301为主动辊；上导电装置31中的导电带302与下导电装置32中的导电带302接触，并夹持薄膜运动。本实施例中，通过导电带302代替传统的导电辊对薄膜进行导电，可以避免传统的导电辊镀上铜结晶，刺破薄膜。
如图5所示，在一些实施例中，电镀系统还包括：若干过辊34和若干张力辊35，分别设置在第二电镀槽30的前端和/或后端，以更好的控制薄膜的张力。当然，在整个镀膜过程中，还可以设置张力辊以及过辊等以更好的控制薄膜的张力，还可以设置清洗机构和烘干设备以对薄膜进行清洗和烘干等。
在本实用新型实施例的描述中，需要说明的是，术语中的“上、下、内和外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一、第二或第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
本实用新型实施例中除非另有明确的规定和限定，术语“安装、相连、连接”应做广义理解，例如：可以是固定连接、可拆卸连接或一体式连接；同样可以是机械连接、电连接或直接连接，也可以通过中间媒介间接相连，也可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
虽然已经参考优选实施例对本实用新型进行了描述，但在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本实用新型并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
Claims (10)
1.一种钛蓝结构，其特征在于，所述钛蓝结构包括：盒体(10)，以及设置在所述盒体(10)中的不溶性阳极板(11)；其中，所述盒体(10)的形状为长条形，所述盒体(10)的顶部设置有向内凹陷的弧形板(101)。
2.根据权利要求1所述的一种钛蓝结构，其特征在于，所述盒体(10)和所述弧形板(101)上设置有若干孔洞。
3.根据权利要求1所述的一种钛蓝结构，其特征在于，所述钛蓝结构(1)还包括：半透离子膜(12)，设置在所述盒体(10)的内部，且位于所述不溶性阳极板(11)与所述弧形板(101)之间。
4.根据权利要求1所述的一种钛蓝结构，其特征在于，所述盒体(10)的材质为聚氯乙烯。
5.一种电镀系统，其特征在于，所述电镀系统包括：
第一电镀槽(20)；
上下导电辊(21)，分别设置在所述第一电镀槽(20)的前端和/或后端；
第一上阳极板(22)和权利要求1-4任意一项所述的一种钛蓝结构，所述第一上阳极板(22)设置在所述第一电镀槽(20)的内部的上方，所述钛蓝结构设置在所述第一电镀槽(20)的内部下方，所述第一上阳极板(22)与所述钛蓝结构分别位于薄膜的两侧。
6.根据权利要求5所述的一种电镀系统，其特征在于，所述钛蓝结构中不溶性阳极板(11)通过盒体(10)挂设在所述第一电镀槽(20)的两端；
所述薄膜从所述上下导电辊(21)之间穿过。
7.根据权利要求5所述的一种电镀系统，其特征在于，所述电镀系统还包括：上下截液辊(23)，分别设置在所述第一电镀槽(20)的前后两个壁体上。
8.一种电镀系统，其特征在于，所述电镀系统包括：
第二电镀槽(30)；
上导电装置(31)和下导电装置(32)，分别上下设置在所述第二电镀槽(30)的内部；
第二上阳极板(33)和权利要求1-4任意一项所述的一种钛蓝结构，所述第二上阳极板(33)设置在所述电镀槽(30)的内部的上方，所述钛蓝结构设置在所述第二电镀槽(30)的内部下方，所述第二上阳极板(33)与所述钛蓝结构分别位于薄膜的两侧。
9.根据权利要求8所述的一种电镀系统，其特征在于，所述上导电装置(31)和所述下导电装置(32)均包括：
若干辊轮(301)和包裹在所述若干辊轮(301)外侧的导电带(302)；其中，至少一个所述辊轮(301)为主动辊；
所述上导电装置(31)中的导电带(302)与所述下导电装置(32)中的导电带(302)接触，并夹持所述薄膜运动。
10.根据权利要求8所述的一种电镀系统，其特征在于，所述电镀系统还包括：
若干过辊(34)和若干张力辊(35)，分别设置在所述第二电镀槽(30)的前端和后端。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202320813298.2U CN220335354U (zh) | 2023-04-12 | 2023-04-12 | 一种钛蓝结构和一种电镀系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202320813298.2U CN220335354U (zh) | 2023-04-12 | 2023-04-12 | 一种钛蓝结构和一种电镀系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN220335354U true CN220335354U (zh) | 2024-01-12 |
Family
ID=89460386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202320813298.2U Active CN220335354U (zh) | 2023-04-12 | 2023-04-12 | 一种钛蓝结构和一种电镀系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN220335354U (zh) |
-
2023
- 2023-04-12 CN CN202320813298.2U patent/CN220335354U/zh active Active
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |