CN220188855U - 一种无透明残膜残留的显影设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种无透明残膜残留的显影设备。所述显影设备包括入料机构；第一显影仓，与所述入料结构连接；第二显影仓，与所述第一显影仓连接；新液洗槽，与所述第二显影仓连接；第一水洗槽，与所述新液洗槽连接；第二水洗槽，与所述第一水洗槽连接；第三水洗槽，与所述第二水洗槽连接；第四水洗槽，与所述第三水洗槽连接；第五水洗槽，与所述第四水洗槽连接；第一循环水洗槽，与所述第五水洗槽连接；第二循环水洗槽，与所述第一循环水洗槽连接；吹干仓，与所述第二循环水洗槽连接；烘干仓，与所述吹干仓连接。本实用新型不仅减少了水洗槽的数量，而且能够保证电路板表面的透明残膜清除干净。

Description

一种无透明残膜残留的显影设备

技术领域

本实用新型涉及电路板显影设备技术领域，尤其是涉及一种无透明残膜残留的显影设备。

背景技术

现有的电路板显影设备中，为了能够避免电路板清洗不干净，通常设计超过10槽以上(常见为12—15槽)的水洗槽，耗电量大(1个水洗槽要用1台泵浦)，滤芯耗用量大(1个水洗槽至少使用4支滤芯，至少2—3天更换1次)，耗水量大(每个进水点15—20升/分钟进水量)。

使用普通喷嘴(喷压2-3Kg/cm²)，以90度方向上下喷冲板面，为了防止下方喷嘴因压力过大将电路板掀起，因此需要上压滚轮来压制，同时也会在生产中造成透明残膜(SCUM)粘附到压滚轮后，再反向粘附到电路板表面，无法确保透明残膜(SCUM)能被清洗干净，且肉眼无法观察到，导致清除板面上的透明残膜(SCUM)效果差。

因此，如何在减少水洗槽的情况下，也能保证电路板表面的透明残膜清洗干净，是我们亟待解决的问题。

实用新型内容

鉴于以上问题，本实用新型提供了一种无透明残膜残留的显影设备，不仅减少了水洗槽的数量，而且能够保证电路板表面的透明残膜清除干净。

为了实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供的技术方案如下：

一种无透明残膜残留的显影设备，所述显影设备包括：

入料机构；

第一显影仓，与所述入料结构连接；

第二显影仓，与所述第一显影仓连接；

新液洗槽，与所述第二显影仓连接；

第一水洗槽，与所述新液洗槽连接；

第二水洗槽，与所述第一水洗槽连接；

第三水洗槽，与所述第二水洗槽连接；

第四水洗槽，与所述第三水洗槽连接；

第五水洗槽，与所述第四水洗槽连接；

第一循环水洗槽，与所述第五水洗槽连接；

第二循环水洗槽，与所述第一循环水洗槽连接；

吹干仓，与所述第二循环水洗槽连接；

烘干仓，与所述吹干仓连接；

出料机构，与所述烘干仓连接；

滚轮输送单元，输送曝光后的电路板依次经过所述入料机构、所述第一显影仓、所述第二显影仓、所述新液洗槽、所述第一水洗槽、所述第二水洗槽、所述第三水洗槽、所述第四水洗槽、所述第五水洗槽、所述第一循环水洗槽、所述第二循环水洗槽、所述吹干仓、所述烘干仓和所述出料机构；

喷洗机构；

添加槽。

作为优选，所述新液洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第一水洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第二水洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第三水洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第四水洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第五水洗槽内部设有所述喷洗机构，所述第一循环水洗槽设有所述喷洗机构，所述第二循环水洗槽设有所述喷洗机构。

作为优选，所述喷洗机构包括多个二流体喷嘴和调节支架，所述二流体喷嘴设置于所述调节支架上。

作为优选，所述二流体喷嘴与水平方向的夹角为55°—65°。

作为优选，所述滚轮输送单元包括水平轮片式滚轮和上压轮片式滚轮，所述上压轮片式滚轮依次等间距设置。

作为优选，所述上压轮片式滚轮与曝光后电路板的板面的距离为3—8mm。

作为优选，所述添加槽与所述新液洗槽连接，所述第二循环水洗槽的侧边设有进水口。

作为优选，所述第一显影仓和所述第二显影仓内设有显影过滤机装置。

作为优选，所述第一循环水洗槽和所述第二循环水洗槽内设有循环水洗过滤装置。

本实用新型具有以下积极效果：

1.本实用新型通过新液洗槽、第一水洗槽、第二水洗槽、第三水洗槽、第四水洗槽、第五水洗槽、第一循环水洗槽和第二循环水洗槽，对曝光后的电路板进行喷洗，减少了水洗槽，节约了电量和水量，降低了生产成本。

2.本实用新型采用喷洗机构对电路板进行喷洗，能够保证电路板表面的透明残膜清理干净，不影响后续工艺。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型剖视图；

图3为图2中A处的结构放大示意图；

图4为本实用新型添加槽结构示意图。

图中标号说明：1—入料机构，2—第一显影仓，3—第二显影仓，4—新液洗槽，5—第一水洗槽，6—第二水洗槽，7—第三水洗槽，8—第四水洗槽，9—第五水洗槽，10—第一循环水洗槽，11—第二循环水洗槽，12—吹干仓，13—烘干仓，14—出料机构，15—滚轮输送单元，151—上压轮片式滚轮，152—水平轮片式滚轮，16—喷洗机构，161—二流体喷嘴，162—调节支架，17—添加槽，18—显影过滤机装置，19—循环水洗过滤装置。

具体实施方式

为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施方式。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本申请的公开内容理解的更加透彻全面。

实施例：如图1或图2或图4所示，一种无透明残膜残留的显影设备，所述显影设备包括：

入料机构1；

第一显影仓2，与所述入料结构1连接；

第二显影仓3，与所述第一显影仓2连接；

新液洗槽4，与所述第二显影仓3连接；

第一水洗槽5，与所述新液洗槽4连接；

第二水洗槽6，与所述第一水洗槽5连接；

第三水洗槽7，与所述第二水洗槽6连接；

第四水洗槽8，与所述第三水洗槽7连接；

第五水洗槽9，与所述第四水洗槽8连接；

第一循环水洗槽10，与所述第五水洗槽9连接；

第二循环水洗槽11，与所述第一循环水洗槽10连接；

吹干仓12，与所述第二循环水洗槽11连接；

烘干仓13，与所述吹干仓12连接；

出料机构14，与所述烘干仓13连接；

滚轮输送单元15，输送曝光后的电路板依次经过所述入料机构1、所述第一显影仓2、所述第二显影仓3、所述新液洗槽4、所述第一水洗槽5、所述第二水洗槽6、所述第三水洗槽7、所述第四水洗槽8、所述第五水洗槽9、所述第一循环水洗槽10、所述第二循环水洗槽11、所述吹干仓12、所述烘干仓13和所述出料机构14；

喷洗机构16；

添加槽17。

在本实施例中，所述新液洗槽4内部设有所述喷洗机构16，所述第一水洗槽5内部设有所述喷洗机构16，所述第二水洗槽6内部设有所述喷洗机构16，所述第三水洗槽7内部设有所述喷洗机构16，所述第四水洗槽8内部设有所述喷洗机构16，所述第五水洗槽9内部设有所述喷洗机构16，所述第一循环水洗槽10设有所述喷洗机构16，所述第二循环水洗槽11设有所述喷洗机构16。

在本实施例中，如图3所示，所述喷洗机构16包括多个二流体喷嘴161和调节支架162，所述二流体喷嘴161设置于所述调节支架162上。

在本实施例中，所述二流体喷嘴161与水平方向的夹角为55°—65°。

在本实施例中，所述滚轮输送单元15包括水平轮片式滚轮152和上压轮片式滚轮151，所述上压轮片式滚轮151依次等间距设置。

在本实施例中，所述上压轮片式滚轮151与曝光后电路板的板面的距离为3—8mm。

在本实施例中，所述添加槽17与所述新液洗槽4连接，所述第二循环水洗槽11的侧边设有进水口。

在本实施例中，所述第一显影仓2和所述第二显影仓3内设有显影过滤机装置18。

在本实施例中，所述第一循环水洗槽10和所述第二循环水洗槽11内设有循环水洗过滤装置19。

所述新液洗槽4内部，所述第一水洗槽5内部，所述第二水洗槽6内部，所述第三水洗槽7内部，所述第四水洗槽8内部，所述第五水洗槽9内部不装设过滤装置。

清洗水进水由所述第二循环水洗槽11侧边进水，溢流至所述第一循环水洗槽10，并通过泵浦将所述第一循环水洗槽10内的水输送至所述第一水洗槽5内部的所述喷洗机构16，所述第二水洗槽6内部的所述喷洗机构16，所述第三水洗槽7内部的所述喷洗机构16，所述第四水洗槽8内部的所述喷洗机构16，所述第五水洗槽9内部的所述喷洗机构16，所述第一水洗槽5内部的含SCNM废水直接排放，不再使用，所述第二水洗槽6内部的含SCNM废水直接排放，不再使用，所述第三水洗槽7内部的含SCNM废水直接排放，不再使用，所述第四水洗槽8内部的含SCNM废水直接排放，不再使用，所述第五水洗槽9内部的含SCNM废水直接排放，不再使用。

工作原理：将曝光后的电路板放入显影设备的入料机构1中，经过滚轮输送单元15，进入第一显影仓2进行显影操作，然后再进入第二显影仓3进行显影操作，再将显影后的电路板经过新液洗槽4进行喷洗，除掉部分透明残膜残留，然后再经过第一水洗槽5、第二水洗槽6、第三水洗槽7、第四水洗槽8和第五水洗槽9进行喷洗，除掉剩余的透明残膜残留，再经过第一循环水洗槽10和第二循环水洗槽11进行喷洗，得到无透明残膜残留的电路板，再对无透明残膜残留的电路板进行吹干仓12进行吹干，再经过烘干仓13进行烘干，通过出料机构14，完成操作。

综上所述，本实用新型不仅减少了水洗槽的数量，而且能够保证电路板表面的透明残膜清除干净。

应当理解的是，本申请的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本申请所附权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种无透明残膜残留的显影设备，其特征在于，所述显影设备包括：

入料机构（1）；

第一显影仓（2），与所述入料机构（1）连接；

第二显影仓（3），与所述第一显影仓（2）连接；

新液洗槽（4），与所述第二显影仓（3）连接；

第一水洗槽（5），与所述新液洗槽（4）连接；

第二水洗槽（6），与所述第一水洗槽（5）连接；

第三水洗槽（7），与所述第二水洗槽（6）连接；

第四水洗槽（8），与所述第三水洗槽（7）连接；

第五水洗槽（9），与所述第四水洗槽（8）连接；

第一循环水洗槽（10），与所述第五水洗槽（9）连接；

第二循环水洗槽（11），与所述第一循环水洗槽（10）连接；

吹干仓（12），与所述第二循环水洗槽（11）连接；

烘干仓（13），与所述吹干仓（12）连接；

出料机构（14），与所述烘干仓（13）连接；

滚轮输送单元（15），输送曝光后的电路板依次经过所述入料机构（1）、所述第一显影仓（2）、所述第二显影仓（3）、所述新液洗槽（4）、所述第一水洗槽（5）、所述第二水洗槽（6）、所述第三水洗槽（7）、所述第四水洗槽（8）、所述第五水洗槽（9）、所述第一循环水洗槽（10）、所述第二循环水洗槽（11）、所述吹干仓（12）、所述烘干仓（13）和所述出料机构（14）；

喷洗机构（16）；

添加槽（17）。

2.根据权利要求1所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述新液洗槽（4）内部设有所述喷洗机构（16），所述第一水洗槽（5）内部设有所述喷洗机构（16），所述第二水洗槽（6）内部设有所述喷洗机构（16），所述第三水洗槽（7）内部设有所述喷洗机构（16），所述第四水洗槽（8）内部设有所述喷洗机构（16），所述第五水洗槽（9）内部设有所述喷洗机构（16），所述第一循环水洗槽（10）设有所述喷洗机构（16），所述第二循环水洗槽（11）设有所述喷洗机构（16）。

3.根据权利要求2所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述喷洗机构（16）包括多个二流体喷嘴（161）和调节支架（162），所述二流体喷嘴（161）设置于所述调节支架（162）上。

4.根据权利要求3所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述二流体喷嘴（161）与水平方向的夹角为55°—65°。

5.根据权利要求1所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述滚轮输送单元（15）包括水平轮片式滚轮（152）和上压轮片式滚轮（151），所述上压轮片式滚轮（151）依次等间距设置。

6.根据权利要求5所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述上压轮片式滚轮（151）与曝光后电路板的板面的距离为3—8mm。

7.根据权利要求1所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述添加槽（17）与所述新液洗槽（4）连接，所述第二循环水洗槽（11）的侧边设有进水口。

8.根据权利要求1所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述第一显影仓（2）和所述第二显影仓（3）内设有显影过滤机装置（18）。

9.根据权利要求2所述的无透明残膜残留的显影设备，其特征在于：所述第一循环水洗槽（10）和所述第二循环水洗槽（11）内设有循环水洗过滤装置（19）。