CN220179636U - 一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，涉及陶瓷加工技术领域，包括支撑板。它能够通过转动输送装置、升降机构、喷釉机构、转动机构的配合，可以提前将陶胚放置在置物板的上方，然后启动转动输送装置，控制转动输送装置定距间断移动，且每次都是升降机构停在喷釉机构的下方，接着通过控制升降机构启动并将陶胚升至喷釉机构的内部，然后启动转动机构，进而带动喷头转动，然后开启泵，从而可快速对陶胚进行喷釉，依次循环进行，解决了上述装置在喷釉完成时，需要取下陶瓷，然后更换陶胚继续进行喷釉加工，此次过程浪费大量作业时间，使喷釉作业效率减缓的问题，实现了本装置使用的高效性。

Description

一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷加工技术领域，具体是一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置。

背景技术

釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料和原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点，基于上述，现有的陶瓷上釉装置还存在以下缺陷：现有的陶瓷上釉装置结构简单，上釉过程不够细致，容易造成陶瓷上釉不均匀的现象；再者是，现有的陶瓷上釉装置功能单一，不能够针对不同的陶瓷做出合理的调整，适用性较差。

根据专利号CN213055299U的中国专利公开了一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括箱体；所述箱体包括储料箱、抽料管和压力泵，所述箱体内部焊接有一个储料箱，且箱体内部还螺栓连接有一台压力泵，并且储料箱通过抽料管与压力泵相连接；所述箱体内滑动连接有一条喷釉臂，且箱体内焊接有一个上釉台。

采用上述方案，改进了上釉喷釉臂与上釉台，通过改进可使上釉更加均匀，具体如下：启动螺栓连接在箱体内部的电机，使电机带动转动连接在上釉台上的带轮B进行旋转，进而使支架上的陶瓷一同转动，然后启动螺栓连接在箱体内部的压力泵，压力泵启动后通过抽料管与送料管将储料箱内的釉浆输送到喷头上，从而达到对陶瓷进行均匀上釉的作用，但是上述装置在喷釉完成时，需要取下陶瓷，然后更换陶胚继续进行喷釉加工，此次过程浪费大量作业时间，使喷釉作业效率减缓，为此我们提出一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了弥补现有技术的不足，提供了陶瓷瓦加工用均匀上釉装置。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，包括支撑板，所述支撑板的下表面固定连接有两组相互对称的支撑腿，两组所述支撑腿的底端均固定连接有垫片，所述支撑板的上方安装有转动输送装置，所述转动输送装置的上方设置有一组等距排列的升降机构，所述支撑板的上表面固定连接有支撑杆，所述支撑杆的正面固定连接有连接板，所述连接板的上表面安装有储釉箱，所述连接板的下方设置有喷釉机构，所述连接板的下方设置有转动机构。

进一步的，所述升降机构包括升降框、第一伺服电机，所述升降框的下表面与转动输送装置转动盘的上表面固定连接，所述升降框的下表面开设有升降腔，所述升降腔的内侧壁滑动连接有升降柱，所述升降柱的顶端固定连接有置物板。

进一步的，所述升降柱的底端开设有螺纹孔，所述螺纹孔的内侧壁螺纹连接有螺纹杆，所述第一伺服电机安装于转动输送装置转动盘的上表面，所述第一伺服电机的输出端与螺纹杆的底端固定连接。

进一步的，所述喷釉机构包括固定盘、第一连通管，所述固定盘的上表面固定连接有两个相互对称的连接柱，两个所述连接柱的顶端均与连接板的下表面固定连接，所述第一连通管的底端贯穿连接板的下表面，且与储釉箱的下表面连通连接，所述第一连通管的底端安装有旋转连通件。

进一步的，所述旋转连通件的输出端连通连接有第二连接管。所述第二连接管的底端贯穿固定盘的上表面，且安装有泵，所述泵的输出端连通连接有两个相互对称的喷釉杆，两个所述喷釉杆相互靠近的一侧面均安装有一组等距排列的喷头。

进一步的，所述转动机构包括第二伺服电机，所述第二伺服电机安装于连接板的下表面，所述第二伺服电机的输出端固定连接有转动柱，所述转动柱的底端固定连接有第一转动齿轮。

进一步的，所述第一转动齿轮的外表面啮合连接有第二转动齿轮所述第二转动齿轮的上表面开设有通孔，所述通孔的内侧壁与第二连接管的外表面固定连接。

与现有技术相比，该陶瓷瓦加工用均匀上釉装置具备如下有益效果：

1、本实用新型通过转动输送装置、升降机构、喷釉机构、转动机构的配合，可以提前将陶胚放置在置物板的上方，然后启动转动输送装置，控制转动输送装置定距间断移动，且每次都是升降机构停在喷釉机构的下方，接着通过控制升降机构启动并将陶胚升至喷釉机构的内部，然后启动转动机构，进而带动喷头转动，然后开启泵，从而可快速对陶胚进行喷釉，依次循环进行，解决了上述装置在喷釉完成时，需要取下陶瓷，然后更换陶胚继续进行喷釉加工，此次过程浪费大量作业时间，使喷釉作业效率减缓的问题，实现了本装置使用的高效性。

2、本实用新型通过设置垫片，可以通过垫片的弹性作用，进而减缓本装置作业时产生的晃动，防止陶胚移位使喷釉无法均匀喷涂，实现了本装置使用的安全性。

附图说明

图1为本实用新型的立体正视结构示意图；

图2为本实用新型升降装置的立体结构拆分图；

图3为本实用新型喷釉装置的立体结构示意图；

图4为本实用新型转动机构的立体结构拆分图。

图中：1、支撑板；2、支撑腿；3、垫片；4、转动输送装置；5、升降机构；501、升降框；502、升降腔；503、升降柱；504、置物板；505、螺纹孔；506、螺纹杆；507、第一伺服电机；6、支撑杆；7、连接板；8、储釉箱；9、喷釉机构；901、固定盘；902、连接柱；903、第一连通管；904、旋转连通件；905、第二连接管；906、泵；907、喷釉杆；908、喷头；10、转动机构；1001、第二伺服电机；1002、转动柱；1003、第一转动齿轮；1004、第二转动齿轮；1005、通孔。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。

本实施例提供了一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，该上釉装置用于在陶瓷瓦的加工过程中对陶胚进行喷釉，通过转动输送装置4、升降机构5、喷釉机构9、转动机构10的配合，可以提前将陶胚放置在置物板504的上方，然后启动转动输送装置4，控制转动输送装置4定距间断移动，且每次都是升降机构5停在喷釉机构9的下方，接着通过控制升降机构5启动并将陶胚升至喷釉机构9的内部，然后启动转动机构10，进而带动喷头908转动，然后开启泵906，使得该装置的喷釉效果更加理想，能够保证本装置喷釉作业的高效性。

参见图1～图4，一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，包括支撑板1，支撑板1的下表面固定连接有两组相互对称的支撑腿2，两组支撑腿2的底端均固定连接有垫片3，支撑板1的上方安装有转动输送装置4，转动输送装置4的上方设置有一组等距排列的升降机构5。

此处垫片3的材质优选为橡胶。

升降机构5包括升降框501、第一伺服电机507，升降框501的下表面与转动输送装置4转动盘的上表面固定连接，升降框501的下表面开设有升降腔502，升降腔502的内侧壁滑动连接有升降柱503，升降柱503的顶端固定连接有置物板504。

此处置物板504在使用时根据瓦片的形状加设限位装置，防止瓦片掉落。

升降柱503的底端开设有螺纹孔505，螺纹孔505的内侧壁螺纹连接有螺纹杆506，第一伺服电机507安装于转动输送装置4转动盘的上表面，第一伺服电机507的输出端与螺纹杆506的底端固定连接。

此处螺纹孔505的孔径与螺纹杆506的直径一致。

通过启动第一伺服电机507，进而带动螺纹杆506在螺纹孔505的内部转动，且使螺纹孔505在升降腔502的内部向上移动，同时带动置物板504向上移动，同时带动向上移动，且使陶胚移动至喷釉机构9的内部，实现了本装置快速升降陶胚的目的。

支撑板1的上表面固定连接有支撑杆6，支撑杆6的正面固定连接有连接板7，连接板7的上表面安装有储釉箱8，连接板7的下方设置有喷釉机构9。

喷釉机构9包括固定盘901、第一连通管903，固定盘901的上表面固定连接有两个相互对称的连接柱902，两个连接柱902的顶端均与连接板7的下表面固定连接，第一连通管903的底端贯穿连接板7的下表面，且与储釉箱8的下表面连通连接，第一连通管903的底端安装有旋转连通件904。

旋转连通件904的输出端连通连接有第二连接管905。第二连接管905的底端贯穿固定盘901的上表面，且安装有泵906，泵906的输出端连通连接有两个相互对称的喷釉杆907，两个喷釉杆907相互靠近的一侧面均安装有一组等距排列的喷头908。

通过启动泵906，进而将储釉箱8内部的釉液抽入第一连通管903的内部，通过第一连通管903将釉液输入旋转连通件904的内部，通过旋转连通件904将釉液输入第二连接管905的内部，最后从喷头908喷出，实现了本装置快速对陶胚喷釉的目的。

连接板7的下方设置有转动机构10。

转动机构10包括第二伺服电机1001，第二伺服电机1001安装于连接板7的下表面，第二伺服电机1001的输出端固定连接有转动柱1002，转动柱1002的底端固定连接有第一转动齿轮1003。

第一转动齿轮1003的外表面啮合连接有第二转动齿轮1004第二转动齿轮1004的上表面开设有通孔1005，通孔1005的内侧壁与第二连接管905的外表面固定连接。

此处第二转动齿轮1004处于固定盘901的下方，处于泵906的上方。

通过启动第二伺服电机1001，进而带动转动柱1002转动，同时带动第一转动齿轮1003转动，同时带动第二转动齿轮1004转动，从而带动喷头908转动，实现了本装置带动喷头908转动作业的目的。

工作原理：在使用本装置时，首先将陶胚放置在置物板504的上方，然后启动转动输送装置4，控制转动输送装置4定距间断移动，且每次都是升降机构5停在喷釉机构9的下方，然后通过启动第一伺服电机507，进而带动螺纹杆506在螺纹孔505的内部转动，且使螺纹孔505在升降腔502的内部向上移动，同时带动置物板504向上移动，同时带动向上移动，且使陶胚移动至喷釉机构9的内部，实现了本装置快速升降陶胚的目的，通过启动第二伺服电机1001，进而带动转动柱1002转动，同时带动第一转动齿轮1003转动，同时带动第二转动齿轮1004转动，从而带动喷头908转动，实现了本装置带动喷头908转动作业的目的，通过启动泵906，进而将储釉箱8内部的釉液抽入第一连通管903的内部，通过第一连通管903将釉液输入旋转连通件904的内部，通过旋转连通件904将釉液输入第二连接管905的内部，最后从喷头908喷出，实现了本装置快速对陶胚喷釉的目的。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，包括支撑板(1)，其特征在于：所述支撑板(1)的下表面固定连接有两组相互对称的支撑腿(2)，两组所述支撑腿(2)的底端均固定连接有垫片(3)，所述支撑板(1)的上方安装有转动输送装置(4)，所述转动输送装置(4)的上方设置有一组等距排列的升降机构(5)，所述支撑板(1)的上表面固定连接有支撑杆(6)，所述支撑杆(6)的正面固定连接有连接板(7)，所述连接板(7)的上表面安装有储釉箱(8)，所述连接板(7)的下方设置有喷釉机构(9)，所述连接板(7)的下方设置有转动机构(10)。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述升降机构(5)包括升降框(501)、第一伺服电机(507)，所述升降框(501)的下表面与转动输送装置(4)转动盘的上表面固定连接，所述升降框(501)的下表面开设有升降腔(502)，所述升降腔(502)的内侧壁滑动连接有升降柱(503)，所述升降柱(503)的顶端固定连接有置物板(504)。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述升降柱(503)的底端开设有螺纹孔(505)，所述螺纹孔(505)的内侧壁螺纹连接有螺纹杆(506)，所述第一伺服电机(507)安装于转动输送装置(4)转动盘的上表面，所述第一伺服电机(507)的输出端与螺纹杆(506)的底端固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述喷釉机构(9)包括固定盘(901)、第一连通管(903)，所述固定盘(901)的上表面固定连接有两个相互对称的连接柱(902)，两个所述连接柱(902)的顶端均与连接板(7)的下表面固定连接，所述第一连通管(903)的底端贯穿连接板(7)的下表面，且与储釉箱(8)的下表面连通连接，所述第一连通管(903)的底端安装有旋转连通件(904)。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述旋转连通件(904)的输出端连通连接有第二连接管(905)，所述第二连接管(905)的底端贯穿固定盘(901)的上表面，且安装有泵(906)，所述泵(906)的输出端连通连接有两个相互对称的喷釉杆(907)，两个所述喷釉杆(907)相互靠近的一侧面均安装有一组等距排列的喷头(908)。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述转动机构(10)包括第二伺服电机(1001)，所述第二伺服电机(1001)安装于连接板(7)的下表面，所述第二伺服电机(1001)的输出端固定连接有转动柱(1002)，所述转动柱(1002)的底端固定连接有第一转动齿轮(1003)。

7.根据权利要求6所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述第一转动齿轮(1003)的外表面啮合连接有第二转动齿轮(1004)所述第二转动齿轮(1004)的上表面开设有通孔(1005)，所述通孔(1005)的内侧壁与第二连接管(905)的外表面固定连接。