CN220041780U - 遮光装置及激光退火系统 - Google Patents
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- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 92
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 claims description 9
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 241001272720 Medialuna californiensis Species 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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Abstract
本实用新型涉及半导体设备技术领域,提供一种遮光装置及激光退火系统,遮光装置结构简单,稳定性强,不需控制遮光环升降,而只是控制各遮光部件对合或张开即可。而且,由于该遮光装置中所有遮光部件均处于同一平面,各遮光部件是否同步运动并不会对晶圆产生影响,因此运动控制部件对所有遮光部件的控制并不需要同步进行。此外,由于可以通过所有遮光部件张开时围成的内部区域将晶圆放置在载台上,载台与遮光部件所处的平面之间不需要具有很大距离,如此可以改善激光光源与晶圆之间的光路与晶圆表面不垂直的情况带来的遮光偏差,提升对晶圆边缘的遮光精度和效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体设备技术领域,尤其涉及一种遮光装置及激光退火系统。
背景技术
目前,在半导体设备领域,当晶圆需要进行激光退火工序时,需要利用激光对晶圆表面进行照射,以激活晶圆内部的注入离子。由于晶圆的边缘结构强度较弱,当激光照射到晶圆边缘时,由于突发的热应力变形,晶圆容易出现碎片,所以需要遮光环对晶圆边缘进行保护。
现有的技术方案中,主要采用垂直升降式遮光环结构以及固定支撑式遮光环结构。垂直升降式遮光环结构如图1所示,包括遮光环1、支撑柱(PIN)升降结构2和遮光环升降结构3,支撑柱升降结构2用于承载晶圆4并将晶圆4放置在载台5上,遮光环升降结构3用于控制遮光环1的升降。在支撑柱升降结构2将晶圆4放置在载台5的过程中遮光环升降结构3控制遮光环1升起,晶圆4吸附在载台5上之后支撑柱升降结构2下降或停止升降。由于该结构中支撑柱升降结构2和遮光环升降结构3均需要运动,支撑柱升降结构2和遮光环升降结构3中各升降部件需要有对应的驱动部件,结构复杂,且为避免发生碎片,对各驱动部件的同步性要求较高。
固定支撑式遮光环结构如图2所示,包括遮光环固定支撑结构6,遮光环固定支撑结构6用于将遮光环1固定支撑在载台5上,机械手7在遮光环1与载台5之间将晶圆4传送至载台5上。该结构中,遮光环1与载台5之间的距离需要足够大以保证机械手7能够将晶圆4顺利传送至载台5上,在对晶圆4进行激光退火工序时,极容易因激光光源与晶圆之间的光路与晶圆表面不垂直,导致遮光环1对晶圆边缘的遮光效果有偏差。
基于此,现急需提供一种新的遮光装置。
实用新型内容
本实用新型提供一种遮光装置及激光退火系统,用以解决现有技术中存在的缺陷。
本实用新型提供一种遮光装置,包括:运动控制部件及位置可动且处于同一平面的多个遮光部件,所有所述遮光部件对合时为环状结构,所述环状结构的内径小于晶圆直径;
所有所述遮光部件张开时围成的内部区域大于晶圆的幅面;
所有所述遮光部件均与所述运动控制部件连接,所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所有所述遮光部件均与所述运动控制部件可拆卸连接。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所有所述遮光部件对合时得到的环状结构的内径可调。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所有所述遮光部件均为扇环状结构。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所述运动控制部件包括一个或多个;
每个所述运动控制部件与一个或多个所述遮光部件连接;
所有所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所述运动控制部件包括驱动部件以及与所述驱动部件连接的一个或多个运动部件,且每个所述运动部件均与一个所述遮光部件连接;
所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件运动。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件直线运动或旋转运动。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的位置感应器;
所述位置感应器被配置为感应对应的所述运动部件的运动位置。
根据本实用新型提供的一种遮光装置,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的保护结构;
所述保护结构用于限制对应的所述运动部件的运动位置在极限范围内。
本实用新型还提供一种激光退火系统,包括:载台、激光光源以及上述的遮光装置;
所述载台设置于所述环状结构的正下方,且所述载台与所述环状结构的中心在一条竖直线上,所述载台用于承载晶圆;
所述遮光装置用于在所有所述遮光部件对合时,对所述晶圆的边缘进行遮光;
所述激光光源设置于所述环状结构的正上方,且所述激光光源用于发出激光对所述晶圆进行退火。
根据本实用新型提供的一种激光退火系统,所述载台与所述平面之间的垂直距离在预设范围内。
本实用新型提供的遮光装置及激光退火系统,遮光装置包括:运动控制部件及位置可动且处于同一平面的多个遮光部件,通过运动控制部件控制所有遮光部件对合,可以实现对位于所有遮光部件对合时得到的环状结构下方的晶圆边缘的遮挡,通过运动控制部件控制所有遮光部件张开,可以实现晶圆无接触地穿过内部区域,如此可以保证在对晶圆进行退火加工之前将晶圆穿过内部区域放置在载台上,并通过所有遮光部件对合时得到的环状结构对晶圆边缘进行遮挡。该遮光装置结构简单,稳定性强,不需控制遮光环升降,而只是控制各遮光部件对合或张开即可。而且,由于该遮光装置中所有遮光部件均处于同一平面,各遮光部件是否同步运动并不会对晶圆产生影响,因此运动控制部件对所有遮光部件的控制并不需要同步进行,如此不仅可以避免晶圆碎片情况的发生,还可以降低对运动控制部件的控制难度。此外,由于可以通过所有遮光部件张开时围成的内部区域将晶圆放置在载台上,因此载台与遮光部件所处的平面之间不需要具有很大距离,如此可以改善激光光源与晶圆之间的光路与晶圆表面不垂直的情况带来的遮光偏差,提升对晶圆边缘的遮光精度和效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中的垂直升降式遮光环结构示意图;
图2是现有技术中的固定支撑式遮光环结构示意图;
图3是本实用新型提供的遮光装置中所有遮光部件对合时的结构示意图之一;
图4是本实用新型提供的遮光装置中所有遮光部件张开时的结构示意图;
图5是本实用新型提供的遮光装置中所有遮光部件对合时的结构示意图之二;
图6是本实用新型提供的遮光装置中每个遮光部件沿弧线旋转往返运动的示意图;
图7是本实用新型提供的激光退火系统的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型中的附图,对本实用新型中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
由于现有的垂直升降式遮光环结构以及固定支撑式遮光环结构均存在不可避免的技术问题,为此本实用新型实施例中提供了一种遮光装置,可以用以解决上述两种遮光环结构中存在的技术问题。
本实用新型实施例中提供了一种遮光装置,包括:运动控制部件位置可动且处于同一平面的多个遮光部件,所有所述遮光部件对合时为环状结构,所述环状结构的内径小于晶圆直径;
所有所述遮光部件张开时围成的内部区域大于晶圆的幅面;
所有所述遮光部件均与所述运动控制部件连接,所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
具体地,本实用新型实施例中提供的遮光装置可以包括运动控制部件以及多个遮光部件。遮光部件的个数可以根据需要进行设定,只要是大于等于两个即可,既可以是奇数个,也可以是偶数个,例如可以是2个、3个、4个、5个、6个、8个等,此处不作具体限定。
所有遮光部件的位置均可动且均处于同一平面上,所有遮光部件对合时可以构成环状结构,该环状结构的内径小于晶圆直径,如此可以保证该环状结构实现晶圆边缘的遮光功能。
所有遮光部件张开时围成的内部区域大于晶圆的幅面,如此可以保证晶圆与所有遮光部件无接触地穿过内部区域,并通过载台承载。
所有遮光部件均与运动控制部件连接,运动控制部件被配置为控制所有遮光部件对合或张开。运动控制部件可以包括一个或多个,若运动控制部件包括一个,则利用该运动控制部件实现对所有遮光部件对合或张开的控制,若运动控制部件包括多个,则利用多个运动控制部件共同实现对所有遮光部件的控制。
图3为所有遮光部件对合时遮光装置的结构示意图之一,图4为所有遮光部件张开时遮光装置的结构示意图,图3和图4中均仅给出了遮光装置包括2个遮光部件8和1个运动控制部件9的情况。
图3中,运动控制部件9控制所有遮光部件8对合时得到的环状结构,可以遮挡下方晶圆4的边缘。图4中,运动控制部件9控制所有遮光部件张开时围成的内部区域大于晶圆4的幅面,如此可以保证晶圆4与所有遮光部件8无接触地穿过内部区域,并通过载台5承载。
本实用新型实施例中提供的遮光装置,包括:运动控制部件及位置可动且处于同一平面的多个遮光部件,通过运动控制部件控制所有遮光部件对合,可以实现对位于所有遮光部件对合时得到的环状结构下方的晶圆边缘的遮挡,通过运动控制部件控制所有遮光部件张开,可以实现晶圆无接触地穿过内部区域,如此可以保证在对晶圆进行退火加工之前将晶圆穿过内部区域放置在载台上,并通过所有遮光部件对合时得到的环状结构对晶圆边缘进行遮挡。该遮光装置结构简单,稳定性强,不需控制遮光环升降,而只是控制各遮光部件对合或张开即可。而且,由于该遮光装置中所有遮光部件均处于同一平面,各遮光部件是否同步运动并不会对晶圆产生影响,因此运动控制部件对所有遮光部件的控制并不需要同步进行,如此不仅可以避免晶圆碎片情况的发生,还可以降低对运动控制部件的控制难度。此外,由于可以通过所有遮光部件张开时围成的内部区域将晶圆放置在载台上,因此载台与遮光部件所处的平面之间不需要具有很大距离,如此可以改善激光光源与晶圆之间的光路与晶圆表面不垂直的情况带来的遮光偏差,提升对晶圆边缘的遮光精度和效果。
虽然晶圆在进行激光退火工序时,为避免晶圆出现碎片,通常需要对晶圆边缘进行保护,但是晶圆有时也需要低能量的激光退火,此时热应力小,晶圆并不容易出现碎片,因此可以不对晶圆边缘进行遮光。但是现有的遮光环结构均无法达到不对晶圆边缘进行遮光的效果。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所有所述遮光部件均与所述运动控制部件可拆卸连接。
具体地,本实用新型实施例中,各遮光部件8可以均可以与运动控制部件9可拆卸连接,以便于用户针对不需要进行边缘遮光的晶圆,卸下所有遮光部件8,避免所有遮光部件8对合时对晶圆边缘进行遮光,而针对需要进行边缘遮光的晶圆,通过运动控制部件9控制所有遮光部件8对合,即可通过所有遮光部件8对合时得到的环状结构。
可以理解的是,在晶圆4放置在载台5上之后,通过运动控制部件9控制所有遮光部件8张开,也可以避免所有遮光部件8对晶圆边缘的遮光效果。
本实用新型实施例中,通过设置所有遮光部件均与运动控制部件可拆卸连接,可以使用户根据晶圆边缘是否需要遮光选择是否将所有遮光部件与运动控制部件连接,如此可以适用于不同的应用场景,满足用户的不同需求,进而提升用户体验。而且,还可以通过对遮光部件的拆卸实现对遮光部件的及时维护更新。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所有所述遮光部件对合时得到的环状结构的内径可调。
具体地,在所有遮光部件均与运动控制部件可拆卸连接的基础上,各遮光部件8对合时得到的环状结构的内径可调。也就是说,用户可以根据遮光区域大小的需求,选取对合时能够得到合适内径的环状结构的各遮光部件,以便于用户通过更换各遮光部件8实现对遮光区域大小的调整。同时,针对于不同尺寸的晶圆,用户也可以选取对合时能够得到合适内径的环状结构的各遮光部件,以便于用户通过更换各遮光部件8实现对不同尺寸的晶圆的遮光功能。
本实用新型实施例中,通过设置所有遮光部件对合时得到的环状结构的内径可调,可以使用户通过更换对合时能够得到合适内径的环状结构的各遮光部件,满足遮光区域大小的需求,以及针对于不同尺寸的晶圆的遮光需求,如此可以适用于不同的应用场景,满足用户的不同需求,进而提升用户体验。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所有所述遮光部件均为扇环状结构。
具体地,如图3和图4所示,遮光装置中的遮光部件可以包括两个,两个遮光部件均为扇环状结构,且完全相等。此处,该扇环状结构是半月式结构。如此在通过运动控制部件控制所有遮光部件对合时可以得到环状结构,进而实现对下方的晶圆边缘的遮挡功能。
图5为所有遮光部件对合时遮光装置的结构示意图之二,图5中仅给出了遮光装置包括4个遮光部件8和2个运动控制部件9的情况。图5中4个遮光部件8也为扇环状结构,且完全相等。如此在通过运动控制部件控制所有遮光部件对合时可以得到环状结构,进而实现对下方的晶圆边缘的遮挡功能。
可以理解的是,图5中也可以通过一个运动控制部件9实现对4个遮光部件8的控制。进而,当遮光部件8超过4个时,也可以通过一个运动控制部件9进行控制,此处不对运动控制部件9的个数作具体限定。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所述运动控制部件包括一个或多个;
每个所述运动控制部件分别与一个或多个所述遮光部件连接;
所有所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
具体地,遮光装置中的运动控制部件9可以包括一个或多个,运动控制部件9包括多个时,运动控制部件9与遮光部件8的对应关系可以根据需要进行设置,既可以将一个运动控制部件9配置为控制多个遮光部件8的运动,也可以将一个运动控制部件9配置为控制一个遮光部件8的运动。
如图3和图4中的运动控制部件9为1个,遮光部件8为2个,图5中的运动控制部件为2个,遮光部件8为4个。
每个运动控制部件9均与其控制的一个或多个遮光部件8连接,例如图3、图4以及图5中,每个运动控制部件9分别与两个遮光部件8连接,所有运动控制部件9被配置为同步控制所有遮光部件8对合或张开。
本实用新型实施例中,每个运动控制部件控制一个或多个遮光部件,如此可以降低运动控制部件的负载,提高控制准确性和控制效率。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所述运动控制部件包括驱动部件以及与所述驱动部件连接的一个或多个运动部件,且每个所述运动部件均与一个所述遮光部件连接;
所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件运动。
具体地,如图3、图4和图5所示,每个运动控制部件9均包括驱动部件91以及与驱动部件91连接的两个运动部件92,且每个运动部件均与一个遮光部件8连接。
驱动部件91用于驱动每个运动部件92带动连接的遮光部件8运动,以使所有的遮光部件8对合或张开。
此处,驱动部件91可以包括驱动电机或电磁阀,其型号可以根据需要进行选择,运动部件92可以包括电缸或气缸,其型号也可以根据需要进行选择,此处均不作具体限定。例如,气缸可以采用SMC气缸。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件直线运动或旋转运动。
具体地,由于驱动部件91的驱动原理不同,因此可以驱动每个运动部件92带动连接的遮光部件8沿直线往返运动或旋转往返运动,进而遮光部件8的运动轨迹可以是直线或弧线。
如图3、图4和图5中所示,驱动部件91驱动每个运动部件92带动连接的遮光部件8沿直线往返运动,图中的箭头方向即为遮光部件的运动方向。
如图6所示,驱动部件91驱动每个运动部件92带动连接的遮光部件8沿弧线旋转往返运动,图6中的箭头方向即为遮光部件8的运动方向。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的位置感应器;
所述位置感应器被配置为感应对应的所述运动部件的运动位置。
具体地,每个运动控制部件9还可以包括与每个运动部件92对应的位置感应器,该位置感应器可以设置于驱动部件91的表面或内部,用于感应对应的运动部件92的运动位置,进而确定运动部件92连接的遮光部件8的位置。
此处,位置感应器可以通过感应对应的运动部件92的运动距离而感应其运动位置。
本实用新型实施例中,通过引入位置感应器,可以实时感应到运动部件92的运动位置,进而可以控制运动部件92的运动范围。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的遮光装置,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的保护结构;
所述保护结构用于限制对应的所述运动部件的运动位置在极限范围内。
具体地,每个运动控制部件9还包括与每个运动部件92对应的保护结构,该保护结构用于限制对应的运动部件92的运动位置在极限范围内。此处,极限范围可以包括上限值和下限值,保护结构可以为限制板,可以分别在上限值和下限值的位置设置限制板,当运动部件92运动至保护结构时,则由于保护结构的限制使其无法继续运动,达到对运动部件92的运动位置的限制作用,如此可以保证运动控制部件的安全运动,避免发送损坏。
在下限值的位置设置的限制板可以防止运动部件92带动连接的遮光部件8对合时导致遮光部件8变形或堆叠影响遮光效果,在上限值的位置设置的限制板可以防止连接的遮光部件8张开时影响其他部件的运动。
此处,在下限值的位置设置的限制板以及在上限值的位置设置的限制板均可以位于驱动部件91内部。
如图7所示,在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中还提供了一种激光退火系统,该激光退火系统包括载台5、激光光源10以及上述各实施例中提供的遮光装置11;
载台5设置于环状结构的正下方,且载台5与环状结构的中心在一条竖直线上,载台5用于承载晶圆4;
遮光装置11用于在所有遮光部件8对合时,对晶圆4的边缘进行遮光;
激光光源10设置于环状结构的正上方,且激光光源10用于发出激光对晶圆4进行退火。
具体地,激光退火系统包括由上到下依次设置的激光光源10、遮光装置11以及载台5,且激光光源10的出光点、遮光装置11中所有遮光部件8对合时得到的环状结构的中心以及载台5的中心均在一条竖直线上。
在晶圆4传送至载台5前,位于载台5上方的所有遮光部件8通过运动控制部件9的控制张开,此后可以利用支撑柱升降结构升起承接晶圆4,然后支撑柱升降结构降落至与载台5上表面平行或载台5上表面以下,载台5吸附晶圆4,此后所有遮光部件8通过运动控制部件9的控制对合。
上述过程完成后,激光光源10可以发出激光对晶圆4进行退火。由于所有遮光部件8对合时得到的环状结构的内径小于晶圆4直径,因此遮光装置可以实现对晶圆4边缘的遮光功能,避免晶圆4边缘应力变形而出现碎片。
本实用新型实施例中提供的激光退火系统,其中引入了遮光装置,利用遮光装置中所有遮光部件的对合或张开,实现将晶圆放置到载台上以及对晶圆边缘进行遮光这两个功能,如此可以大大简化系统结构的复杂性,对各驱动部件的同步性要求较低。而且,还可以改善为机械手传送晶圆而保留的遮光环与载台之间的距离过大所引起的光路垂直度问题,可以提升遮光装置对晶圆边缘的遮光精度和效果,进而可以对晶圆实现安全无破坏地激光退火工艺。
在上述实施例的基础上,本实用新型实施例中提供的激光退火系统,所述载台与所述平面之间的垂直距离在预设范围内。
具体地,激光退火系统中,可以将载台5与遮光装置11中所有遮光部件8所处的平面之间的垂直距离限定在预设范围内,使遮光装置11中所有遮光部件8对合时得到的环状结构贴近载台5上吸附的晶圆4,且与晶圆4之间存在一定距离,如此可以进一步降低光路垂直度问题对遮光装置11对晶圆4边缘的遮光效果的影响。
以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性的劳动的情况下,即可以理解并实施。
通过以上的实施方式的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到各实施方式可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件。基于这样的理解,上述技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品可以存储在计算机可读存储介质中,如ROM/RAM、磁碟、光盘等,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机,服务器,或者网络设备等)执行各个实施例或者实施例的某些部分所述的方法。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (11)
1.一种遮光装置,其特征在于,包括:运动控制部件及位置可动且处于同一平面的多个遮光部件,所有所述遮光部件对合时为环状结构,所述环状结构的内径小于晶圆直径;
所有所述遮光部件张开时围成的内部区域大于晶圆的幅面;
所有所述遮光部件均与所述运动控制部件连接,所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
2.根据权利要求1所述的遮光装置,其特征在于,所有所述遮光部件均与所述运动控制部件可拆卸连接。
3.根据权利要求2所述的遮光装置,其特征在于,所有所述遮光部件对合时得到的环状结构的内径可调。
4.根据权利要求1所述的遮光装置,其特征在于,所有所述遮光部件均为扇环状结构。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的遮光装置,其特征在于,所述运动控制部件包括一个或多个;
每个所述运动控制部件与一个或多个所述遮光部件连接;
所有所述运动控制部件被配置为控制所有所述遮光部件对合或张开。
6.根据权利要求5所述的遮光装置,其特征在于,所述运动控制部件包括驱动部件以及与所述驱动部件连接的一个或多个运动部件,且每个所述运动部件均与一个所述遮光部件连接;
所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件运动。
7.根据权利要求6所述的遮光装置,其特征在于,所述驱动部件用于驱动每个所述运动部件带动连接的所述遮光部件直线运动或旋转运动。
8.根据权利要求6所述的遮光装置,其特征在于,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的位置感应器;
所述位置感应器被配置为感应对应的所述运动部件的运动位置。
9.根据权利要求6所述的遮光装置,其特征在于,所述运动控制部件还包括与每个所述运动部件对应的保护结构;
所述保护结构用于限制对应的所述运动部件的运动位置在极限范围内。
10.一种激光退火系统,其特征在于,包括:载台、激光光源以及如权利要求1-9中任一项所述的遮光装置;
所述载台设置于所述环状结构的正下方,且所述载台与所述环状结构的中心在一条竖直线上,所述载台用于承载晶圆;
所述遮光装置用于在所有所述遮光部件对合时,对所述晶圆的边缘进行遮光;
所述激光光源设置于所述环状结构的正上方,且所述激光光源用于发出激光对所述晶圆进行退火。
11.根据权利要求10所述的激光退火系统,其特征在于,所述载台与所述平面之间的垂直距离在预设范围内。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320700621.5U CN220041780U (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 遮光装置及激光退火系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320700621.5U CN220041780U (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 遮光装置及激光退火系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN220041780U true CN220041780U (zh) | 2023-11-17 |
Family
ID=88726319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202320700621.5U Active CN220041780U (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 遮光装置及激光退火系统 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN220041780U (zh) |
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2023
- 2023-03-31 CN CN202320700621.5U patent/CN220041780U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |