CN220029760U - 一种GaN基外延片衬底的回收装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种GaN基外延片衬底的回收装置，包括机架，所述机架的顶部安装有遮罩；所述机架的顶部嵌装有支承转盘，所述支承转盘的内圈转动安装有转筒，所述转筒的顶部固定连接有打磨盘，所述遮罩的顶部分别安装有伸缩气缸和气泵，所述伸缩气缸的活塞杆贯穿所述遮罩；本实用新型使用时，操作人员通过启动气泵，使管体以及软管产生负压，利用进风孔持续抽取外部空气，此时，将GaN基外延片对衬底设置在安装槽底部，利用进风孔抽取空气时产生的负压将其吸附在安装槽内部，方便衬底的安装，此时启动伸缩气缸向下驱动圆盘移动，直至安装槽中的衬底贴合接触打磨盘后，启动电机驱动齿轮和齿圈啮合传动，实现打磨盘的转动。

Description

一种GaN基外延片衬底的回收装置

技术领域

本实用新型涉及(技术领域)技术领域，具体地，涉及一种GaN基外延片衬底的回收装置。

背景技术

GaN基外延片衬底指的是一种用于生长氮化镓(GaN)晶体的基底材料。在光电子和半导体行业中，GaN基外延片衬底常用作制造高性能光电器件和功率器件的基板，常用的GaN基外延片衬底材料包括蓝宝石和碳化硅。这些材料具有优异的热稳定性和化学稳定性，并且材质具有一定的价值，因此，该类型外延片的衬底通常需要进行单独的回收利用。

然而，现有的GaN基外延片衬底的回收装置通常会将衬底表面的生长层进行打磨祛除，单独回收保留衬底，但是传统的打磨方式需要将衬底手动安装在打磨槽，然而厚度较小的外延片衬底在安装时很容易发生脱离现象，影响安装速度，并在打磨后，该厚度的衬底操作人员难以手动取出，从而影响衬底的回收效率。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本实用新型的一个目的在于提出一种GaN基外延片衬底的回收装置，该GaN基外延片衬底的回收装置可以利用气泵使进风孔产生负压，自动吸附衬底吸附贴合在安装槽中，提高安装效率，并在打磨后关闭气泵自动排出衬底，提高回收效率。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种GaN基外延片衬底的回收装置，包括机架，所述机架的顶部安装有遮罩；所述机架的顶部嵌装有支承转盘，所述支承转盘的内圈转动安装有转筒，所述转筒的顶部固定连接有打磨盘，所述遮罩的顶部分别安装有伸缩气缸和气泵，所述伸缩气缸的活塞杆贯穿所述遮罩，且固定连接有圆盘，所述圆盘的底部按圆周分布安装有多个安装槽，所述安装槽的内部设有进风孔，所述气泵的进风孔连通有管体，所述管体的内部连通有数量与所述进风孔数量相匹配的软管，所述软管的端部连通于所述进风孔的内部。

优选的，所述机架的内部安装有电机，所述转筒的外壁固定连接有齿圈，所述电机的转动轴通过齿轮与所述齿圈啮合传动。

优选的，所述机架的顶部且位于所述遮罩的内部安装有环形底座。

优选的，所述环形底座为中空状，且所述环形底座的内壁连通有多个出水管，所述环形底座的外壁连通有进水管。

优选的，所述遮罩的外壁嵌装有观察窗。

优选的，所述安装槽的槽深小于0.5CM。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型能够利用气泵使进风孔产生负压，自动吸附靠近安装槽的衬底吸附贴合在安装槽中，在衬底表面的生长层在打磨去除后，关闭气泵能够使进风孔负压状态消失，使衬底从安装槽中自动脱离，使本实用新型能够对GaN基外延片衬底的打磨回收进行快速安装，并在打磨后自动排出衬底，提高回收效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例的GaN基外延片衬底的回收装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的GaN基外延片衬底的回收装置的剖面结构示意图；

图3为本实用新型实施例的GaN基外延片衬底的回收装置中安装槽和进风孔的结构示意图；

图4为本实用新型实施例的GaN基外延片衬底的回收装置中转筒和齿圈的结构示意图。

图中：1、机架；2、环形底座；3、出水管；4、伸缩气缸；5、圆盘；6、软管；7、管体；8、气泵；9、遮罩；10、观察窗；11、打磨盘；12、齿圈；13、转筒；14、电机；15、安装槽；16、进水管；17、进风孔；18、支承转盘。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-图2，本实用新型的实施例提供了一种GaN基外延片衬底的回收装置，包括：机架1、遮罩9和打磨盘11。

其中，如图1、图2和图4所示，机架1的顶部安装有遮罩9；机架1的顶部嵌装有支承转盘18，支承转盘18的内圈转动安装有转筒13，转筒13的顶部固定连接有打磨盘11，机架1的内部安装有电机14，转筒13的外壁固定连接有齿圈12，电机14的转动轴通过齿轮与齿圈12啮合传动。

使用时，启动电机14驱动齿轮和齿圈12啮合传动，实现打磨盘11的转动，利用打磨盘11的转动对安装槽15中的衬底表面生长层进行打磨。

进一步的，机架1的顶部且位于遮罩9的内部安装有环形底座2，环形底座2为中空状，且环形底座2的内壁连通有多个出水管3，环形底座2的外壁连通有进水管16，环形底座2能够在衬底打磨时，减少碎屑地向外散布，并通过外部水源向进水管16输送，并通过出水管3输出至打磨盘11表面，从而减少打磨时的粉尘以及温度。

其中，如图1-图3所示，遮罩9的顶部分别安装有伸缩气缸4和气泵8，伸缩气缸4的活塞杆贯穿遮罩9，且固定连接有圆盘5，圆盘5的底部按圆周分布安装有多个安装槽15，安装槽15的内部设有进风孔17，气泵8的进风孔连通有管体7，管体7的内部连通有数量与进风孔17数量相匹配的软管6，软管6的端部连通于进风孔17的内部。

使用时，操作人员通过启动气泵8，使管体7以及软管6产生负压，利用进风孔17持续抽取外部空气，此时，将GaN基外延片对衬底设置在安装槽15底部，利用进风孔17抽取空气时产生的负压将其吸附在安装槽15内部。

此外，在衬底表面的生长层在打磨去除后，关闭气泵8能够使进风孔17负压状态消失，使衬底从安装槽15中自动脱离。

如图1所示，遮罩9的外壁嵌装有观察窗10，操作人员能够通过观察窗10对遮罩9内部打磨情况进行观察。

具体的，安装槽15的槽深小于0.5CM，小于0.5CM的安装槽15能够适配常规衬底的厚度。

根据上述技术方案对本方案工作步骤进行总结梳理：本实用新型使用时，操作人员通过启动气泵8，使管体7以及软管6产生负压，利用进风孔17持续抽取外部空气，此时，将GaN基外延片对衬底设置在安装槽15底部，利用进风孔17抽取空气时产生的负压将其吸附在安装槽15内部，方便衬底的安装，此时启动伸缩气缸4向下驱动圆盘5移动，直至安装槽15中的衬底贴合接触打磨盘11后，启动电机14驱动齿轮和齿圈12啮合传动，实现打磨盘11的转动，利用打磨盘11的转动对安装槽15中的衬底表面生长层进行打磨。

本实用新型能够利用气泵8使进风孔17产生负压，自动吸附靠近安装槽15的衬底吸附贴合在安装槽15中，在衬底表面的生长层在打磨去除后，关闭气泵8能够使进风孔17负压状态消失，使衬底从安装槽15中自动脱离，方便衬底的排放。

本实用新型中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种GaN基外延片衬底的回收装置，包括机架(1)，所述机架(1)的顶部安装有遮罩(9)，其特征在于：

所述机架(1)的顶部嵌装有支承转盘(18)，所述支承转盘(18)的内圈转动安装有转筒(13)，所述转筒(13)的顶部固定连接有打磨盘(11)，所述遮罩(9)的顶部分别安装有伸缩气缸(4)和气泵(8)，所述伸缩气缸(4)的活塞杆贯穿所述遮罩(9)，且固定连接有圆盘(5)，所述圆盘(5)的底部按圆周分布安装有多个安装槽(15)，所述安装槽(15)的内部设有进风孔(17)，所述气泵(8)的进风孔连通有管体(7)，所述管体(7)的内部连通有数量与所述进风孔(17)数量相匹配的软管(6)，所述软管(6)的端部连通于所述进风孔(17)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种GaN基外延片衬底的回收装置，其特征在于：所述机架(1)的内部安装有电机(14)，所述转筒(13)的外壁固定连接有齿圈(12)，所述电机(14)的转动轴通过齿轮与所述齿圈(12)啮合传动。

3.根据权利要求1所述的一种GaN基外延片衬底的回收装置，其特征在于：所述机架(1)的顶部且位于所述遮罩(9)的内部安装有环形底座(2)。

4.根据权利要求3所述的一种GaN基外延片衬底的回收装置，其特征在于：所述环形底座(2)为中空状，且所述环形底座(2)的内壁连通有多个出水管(3)，所述环形底座(2)的外壁连通有进水管(16)。

5.根据权利要求1所述的一种GaN基外延片衬底的回收装置，其特征在于：所述遮罩(9)的外壁嵌装有观察窗(10)。

6.根据权利要求1所述的一种GaN基外延片衬底的回收装置，其特征在于：所述安装槽(15)的槽深小于0.5CM。