CN219958070U - 一种用于接触式曝光机的辅助工具 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种用于接触式曝光机的辅助工具，属于量子芯片加工装置技术领域。一种用于接触式曝光机的辅助工具，所述接触式曝光机包括用于承载晶圆的载片台以及位于所述载片台上方的掩膜版，所述辅助工具包括保护框，所述保护框的内侧形成有保护区，且所述保护框上设有供所述晶圆进出所述保护区的开口，当所述载片台在垂直方向上进行定位时，所述保护框先于所述晶圆与所述掩膜版接触。通过上述设计，在曝光前将辅助工具放置在载台上，可以在进行机台垂直方向上定位时，防止掩膜版直接接触到晶圆，避免因接触而造成掩膜版或晶圆污染，影响最终曝光质量。
Description
技术领域
本申请属于量子芯片加工装置技术领域，特别是涉及一种用于接触式曝光机的辅助工具。
背景技术
光刻是利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的晶圆曝光，光刻胶会发生性质变换，从而使光罩上的图形转移到晶圆上。
目前，大部分曝光工艺使用的是接触式曝光机。接触式曝光机主要包括载片台和掩膜版，晶圆放置在载片台上，掩膜版位于载片台上方。
接触式曝光机在进行曝光之前，载片台必须在竖直方向上进行定位，定位过程中载片台上的晶圆会与掩膜版接触，这会给晶圆或掩膜版带来损伤和污染，影响到最终的曝光质量。
实用新型内容
本申请的目的是提供一种用于接触式曝光机的辅助工具，以解决现有技术中机台定位下降高度时掩膜版与晶圆接触而导致晶圆损伤和污染的问题，使用该辅助工具，能够在不损伤、污染晶圆的情况下完成机台定位。
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种用于接触式曝光机的辅助工具，所述接触式曝光机包括用于承载晶圆4的载片台5以及位于所述载片台5上方的掩膜版6，所述辅助工具包括保护框1，所述保护框1的内侧形成有保护区，且所述保护框1上设有供所述晶圆4进出所述保护区的开口，当所述载片台5在垂直方向上进行定位时，所述保护框1先于所述晶圆4与所述掩膜版6接触。
优选的，所述保护框1的形状为圆弧形。
优选的，所述保护框1放置在所述载片台5上时，所述保护框1在垂直于所述载片台5表面方向上的高度大于所述晶圆4的高度。
优选的，所述辅助工具还包括握杆2，所述握杆2连接所述保护框1远离开口的外侧面。
优选的，所述保护框1远离载片台5的表面上设置有多个凸起，所述多个凸起在垂直于所述载片台5表面方向上的最高点位于同一个平面。
优选的，所述凸起为金属球3。
优选的，所述金属球3的数量为三颗。
优选的，所述三颗金属球3中的两颗对应于保护框1的两端设置，另一颗对应于所述保护框1的中心设置。
优选的，所述三颗金属球3球心所在的平面与所述保护框1的表面平行。
本申请还提供一种接触式曝光机，用于对所述晶圆4进行曝光，包括前述任一项所述的用于接触式曝光机的辅助工具，以及载片台5和掩膜版6。
与现有技术相比，本申请提供的用于接触式曝光机的辅助工具用于放置在载片台上，当接触式曝光机的载片台在垂直方向上进行定位时，辅助工具先于载片台上的晶圆与载片台上方的掩膜版进行接触，进而防止掩膜版直接接触到晶圆，避免因掩膜版与晶圆直接接触而造成掩膜版或晶圆污染，影响最终曝光质量，并且该辅助工具可随时从载片台上抽离，便于灵活控制后续的曝光模式，达到预期的曝光效果。
附图说明
图1为本申请提供的辅助工具放置在接触式曝光机的载片台上时的侧视结构示意图；
图2为本申请提供的辅助工具增设金属球放置在接触式曝光机的载片台上时的侧视结构示意图。
图3为本申请提供的辅助工具增设金属球放置在接触式曝光机的载片台上时的俯视结构示意图；
附图标记说明：1－保护框，2－握杆，3－金属球，4－晶圆，5－载片台，6－掩膜版。
具体实施方式
下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
请参考图1和图3，本实用新型提供一种用于接触式曝光机的辅助工具，所述接触式曝光机包括用于承载晶圆4的载片台5以及位于所述载片台5上方的掩膜版6，所述辅助工具包括保护框1，所述保护框1的内侧形成有保护区，且所述保护框1上设有供所述晶圆4进出所述保护区的开口，当所述载片台5在垂直方向上进行定位时，所述保护框1先于所述晶圆4与所述掩膜版6接触。
载片台5在垂直方向上进行定位是接触式曝光机进行正式曝光前的一个必要步骤。现有的接触式曝光机在定位过程中，载片台5会上升，直至晶圆4与掩膜版6接触。本实施例中，辅助工具与晶圆4均放置在载片台上，且保护框1与晶圆4相间隔，不会接触晶圆4，在载片台5定位过程中，保护框1会先于晶圆4与掩膜版6接触，避免在正式曝光之前晶圆4与掩膜版6接触，防止接触给晶圆4带来损伤和污染，影响最终曝光质量。
前述接触式曝光机在正式曝光前进行定位，保护框1仅用于避免定位时掩膜版6与晶圆4直接接触，定位结束后，需抽离保护框1，后续曝光才能正常进行，因此，保护框1设有供晶圆4进出保护区的开口，可在抽离保护框1时不触碰晶圆4。
请参考图3，保护框1为圆弧形。
目前大多数晶圆4的形状为近圆形，所以本实施例提供一种圆弧形保护框1，事实上保护框1的尺寸、形状可根据实际的晶圆4大小、形状进行更换设计。
具体地，保护框1放置在所述载片台5上时，保护框1在垂直于载片台5表面方向上的高度大于晶圆4的高度。
保护框1是本实施例防止晶圆4与掩膜版6接触的关键部件，因此设置保护框1在垂直于载片台5表面方向上的高度大于晶圆4的高度，当载片台5沿竖直方向上移动定位时，晶圆4与保护框1随着载片台5向上升起，保护框1先于晶圆4与上方的掩膜版6进行接触，且机台设置有一个判断是否接触的力，当保护框1与掩膜版6之间压力达到设定值时，则设备判定接触，机台的定位完成。
辅助工具还包括握杆2，握杆2连接保护框1远离开口的外侧面。
保护框1的一面接触载片台5，另一面接触掩膜版6，在机台进行定位前后，按需拿取辅助工具，如直接用工具或手移动辅助工具，则很容易损伤或污染到掩膜版6，提高掩膜版6清洗成本；在本实施例中，辅助工具还可以包括有握杆2，握杆2与保护框1的外侧侧壁固定连接，如此设计可避免手或工具污染保护框1，导致间接污染掩膜版，还可以防止拿取工具损伤掩膜版6。
请参考图2和图3，保护框1远离载片台5的表面上设置有多个凸起，且多个凸起在垂直于载片台5表面方向上的最高点位于同一个平面。
在机台进行Z轴定位时，除了晶圆4以外，接触也会给掩膜版6带来损伤或污染，而保护框1与掩膜版6所接触带来的损伤或污染是不可忽视的，因此本实施例在保护框1与掩膜版6接触的平面上设置若干凸起，且多个凸起在垂直于载片台5表面方向上的最高点位于同一个平面，在机台进行定位时，多个凸起同时与掩膜版6相接触，由于接触面积减少，从而减少保护框1对掩膜版6的损伤和污染。
具体地，凸起为金属球3。
金属球3的数量为三颗。
需要特别说明的是，就凸起的材质和数量而言，凸起可以是采用金属或者非金属都可，且凸起的数量可以为大于零的任何自然数，在不同的使用场景中，凸起的材料和数量可以任意选择，并不以上述示例为限。
进一步地，三颗金属球3中的两颗对应于保护框1的两端设置，另一颗对应于保护框1的中心设置。
前述保护框1为圆弧形，两端点连线，其线段中垂面与圆弧的交点即为保护框1的中心。
具体地，三颗金属球3的球心所在的平面与保护框1的平面相平行。
由于掩膜版6是由机台通过吸嘴负压吸取在机臂上，掩膜版6本身与机台不存在良好的刚性结构，本实施例设置凸起为金属球3，且金属球3的数量为三颗，利用三点成面的原理，三颗金属球3分别与掩膜版6等压接触。
通过设置三颗金属球3的球心所在的平面与保护框1的平面平行，则可以实现载片台5的表面、保护框1的表面、金属球3的球心面和掩膜版6表面互相平行，使得机台在定位时，金属球3与掩膜版6接触且受力均匀，避免掩膜版6角度发生偏差。
本申请的另外一种实施例提供了一种接触式曝光机，包括：如上述的用于接触式曝光机的辅助工具以及载片台5和掩膜版6。
示例性的，晶圆4和辅助工具放置在载片台5上。具体实施时，在正式曝光前进行机台定位，载片台5带动晶圆4和辅助工具向掩膜版6方向竖直上升，由于辅助工具在竖直方向上的高度大于晶圆4的高度，辅助工具上的凸起会先于晶圆4接触到掩膜版6，在定位完成后，取下辅助工具，进行掩膜版6与晶圆4之间对准，对准步骤完成后进行正式曝光，利用光刻机发出的光通过具有图形的掩膜版6对涂有光刻胶的晶圆4曝光，光刻胶会发生性质变换，从而使掩膜版6上的图形复制到晶圆4上完成曝光。
通过上述方式，防止掩膜版6直接接触到晶圆4，避免因接触而造成掩膜版6或晶圆4污染，影响最终曝光质量。
以上依据图式所示的实施例详细说明了本申请的构造、特征及作用效果，以上所述仅为本申请的较佳实施例，但本申请不以图面所示限定实施范围，凡是依照本申请的构想所作的改变，或修改为等同变化的等效实施例，仍未超出说明书与图示所涵盖的精神时，均应在本申请的保护范围内。
Claims (10)
1.一种用于接触式曝光机的辅助工具，所述接触式曝光机包括用于承载晶圆(4)的载片台(5)以及位于所述载片台(5)上方的掩膜版(6)，其特征在于，所述辅助工具包括保护框(1)，所述保护框(1)的内侧形成有保护区，且所述保护框(1)上设有供所述晶圆(4)进出所述保护区的开口，当所述载片台(5)在垂直方向上进行定位时，所述保护框(1)先于所述晶圆(4)与所述掩膜版(6)接触。
2.根据权利要求1所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述保护框(1)的形状为圆弧形。
3.根据权利要求1所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述保护框(1)放置在所述载片台(5)上时，所述保护框(1)在垂直于所述载片台(5)表面方向上的高度大于所述晶圆(4)的高度。
4.根据权利要求1所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述辅助工具还包括握杆(2)，所述握杆(2)连接所述保护框(1)远离开口的外侧面。
5.根据权利要求1所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述保护框(1)远离载片台(5)的表面上设置有多个凸起，所述多个凸起在垂直于所述载片台(5)表面方向上的最高点位于同一个平面。
6.根据权利要求5所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述凸起为金属球(3)。
7.根据权利要求6所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述金属球(3)的数量为三颗。
8.根据权利要求7所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述三颗金属球(3)中的两颗对应于保护框(1)的两端设置，另一颗对应于所述保护框(1)的中心设置。
9.根据权利要求7所述的用于接触式曝光机的辅助工具，其特征在于，所述三颗金属球(3)球心所在的平面与所述保护框(1)的表面平行。
10.一种接触式曝光机，用于对所述晶圆(4)进行曝光，其特征在于，包括权利要求1－9任一项所述的用于接触式曝光机的辅助工具，以及载片台(5)和掩膜版(6)。
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