CN219917087U - 一种晶片生产用气动下蜡装置 - Google Patents

一种晶片生产用气动下蜡装置 Download PDF

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高翔
贾松松
王鑫
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Abstract

本实用新型涉及晶片生产技术领域,公开了一种晶片生产用气动下蜡装置,所述导轨架的轨道前后端呈两两对称形式对称贯通卡合有两组导向滑扣,所述气动吸附组件包括贯通安装在两组导向滑扣内部的两组吸盘机构,每组吸盘机构的数量均为两个,且相邻的两个吸盘机构通过汇流软管导通,所述汇流软管的进气端与负压软管连通,且负压软管的进气端与三通阀连通。本实用新型取代了传统采用人工手动刮取对铜抛后的晶片进行下蜡的方式,通过利用把手架组件的手持操控,以及气动吸附组件的负压吸料,能够以吸料取放的方式,对晶片进行下蜡取料工作,其一方面具有简单便捷的操控性能,另一方面具有安全稳定的操控性能。

Description

一种晶片生产用气动下蜡装置
技术领域
本实用新型涉及晶片生产技术领域,特别涉及一种晶片生产用气动下蜡装置。
背景技术
蓝宝石晶体作为一种重要的技术晶体,已被广泛地应用于科学技术、国防与民用工业、电子技术的许多领域;比如透红外窗口材料,微电子领域的衬底基片,激光基质、光学元件及其它用途等,而在在蓝宝石晶片生产制造过程中,其主要经过切片、双面研磨、铜抛和CMP抛光等工序,在铜抛过程中,首先要用石蜡将晶片贴在陶瓷盘表面,然后到抛光机台上进行单面抛光,抛光完后需加热将石蜡融化,从而将晶片从陶瓷盘上取下。
在晶片下蜡过程中,虽然石蜡已被加热融化,但晶片表面与陶瓷盘表面仍然贴合非常紧密,因此通常需要用雅阁力板将晶片一片一片的推到陶瓷盘边缘,再将晶片取下,然而由于陶瓷盘表面温度较高,约150℃手工操作取片很容易造成烫伤,且在用雅阁力板向外推时,如果用力过大,容易造成晶片崩边,且易将晶片推出盘面而摔坏,另外一片一片的操作,效率也非常低。为此,本领域技术人员提供了一种晶片生产用气动下蜡装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种晶片生产用气动下蜡装置,可以有效解决背景技术中现有蓝宝石晶片在铜抛后下蜡不便的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种晶片生产用气动下蜡装置,包括把手架组件和气动吸附组件;
所述把手架组件包括导轨架,所述导轨架的支架中部安装有把手,且导轨架的轨道中部转动连接有传动丝杆,所述导轨架的轨道前后端呈两两对称形式对称贯通卡合有两组导向滑扣,每组导向滑扣的数量均为两个,且每组导向滑扣的套管中部均套设有安装轴套,所述传动丝杆的轴杆外部对称套设有两组传动丝套,且两组传动丝套的轴套两侧均设置有与安装轴套相固定连接的传动支臂;
所述气动吸附组件包括贯通安装在两组导向滑扣内部的两组吸盘机构,每组吸盘机构的数量均为两个,且相邻的两个吸盘机构通过汇流软管导通,所述汇流软管的进气端与负压软管连通,且负压软管的进气端与三通阀连通。
作为本实用新型再进一步的方案:所述导轨架的导轨前后端呈两两对称形式开设有与两组导向滑扣相对应的两组导向滑槽。
作为本实用新型再进一步的方案:所述传动丝杆的一端输出端安装有调节手柄,且传动丝杆以中线为界,中线的两侧分别设置有相互对称排列的正、反丝牙,所述传动丝杆通过正、反丝牙与两组传动丝套对称套接。
作为本实用新型再进一步的方案:所述汇流软管与负压软管均为PE软管。
作为本实用新型再进一步的方案:所述吸盘机构包括负压吸管,所述负压吸管的管道底部安装有负压吸盘,且负压吸盘的盘面沿其周向排布开设有与负压吸管相导通的多组负压通孔。
作为本实用新型再进一步的方案:多组所述负压通孔相对于负压吸盘的盘面呈环形对称排列。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
1.本实用新型取代了传统采用人工手动刮取对铜抛后的晶片进行下蜡的方式,通过利用把手架组件的手持操控,以及气动吸附组件的负压吸料,能够以吸料取放的方式,对晶片进行下蜡取料工作,其一方面具有简单便捷的操控性能,只需将吸盘机构放置在晶片上,即可对晶片进行下蜡工作,另一方面具有安全稳定的操控性能,能够避免高温滴蜡烫伤工作人员,提高其操控安全性。
2.本实用新型在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的晶片进行下蜡工作时,通过利用把手架组件对气动吸附组件吸料方位的预调节,能够对不同大小的晶片进行负压吸料工作,提高其气动下蜡灵活性、多功能性。
附图说明
图1为本实用新型一种晶片生产用气动下蜡装置的结构示意图;
图2为本实用新型一种晶片生产用气动下蜡装置中把手架组件的结构示意图;
图3为本实用新型一种晶片生产用气动下蜡装置中吸盘机构的结构示意图;
图4为本实用新型一种晶片生产用气动下蜡装置图3中负压吸盘的结构示意图。
图中:1、导轨架;2、把手;3、导向滑槽;4、导向滑扣;5、吸盘机构;51、负压吸管;52、负压吸盘;53、负压通孔;6、汇流软管;7、负压软管;8、三通阀;9、传动丝杆;10、传动丝套;11、调节手柄;12、传动支臂;13、安装轴套。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
请参照图1-4所示,一种晶片生产用气动下蜡装置,包括把手架组件和气动吸附组件,把手架组件包括导轨架1,导轨架1的支架中部安装有把手2,且导轨架1的轨道中部转动连接有传动丝杆9,导轨架1的轨道前后端呈两两对称形式对称贯通卡合有两组导向滑扣4,每组导向滑扣4的数量均为两个,且每组导向滑扣4的套管中部均套设有安装轴套13,导轨架1的导轨前后端呈两两对称形式开设有与两组导向滑扣4相对应的两组导向滑槽3,在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的蓝宝石晶片进行下蜡工作时,通过利用导向滑扣4与导向滑槽3的导向组合,能够对吸盘机构5的吸料间距方位进行调控,使其与不同大小的晶片相匹配,以提高气动下蜡装置的灵活使用性。
传动丝杆9的轴杆外部对称套设有两组传动丝套10,且两组传动丝套10的轴套两侧均设置有与安装轴套13相固定连接的传动支臂12,传动丝杆9的一端输出端安装有调节手柄11,且传动丝杆9以中线为界,中线的两侧分别设置有相互对称排列的正、反丝牙,传动丝杆9通过正、反丝牙与两组传动丝套10对称套接,在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的蓝宝石晶片进行下蜡工作过程中,工作人员根据陶瓷盘上蓝宝石晶片的大小,对相邻的两组吸盘机构5的吸料间距进行调节,继而拧动调节手柄11,带动传动丝杆9转动,传动丝杆9在转动过程中,通过其相互对称排列的正、反丝牙,将旋转推力转化为水平推力,推动两组传动丝套10沿水平方向对称滑动,继而在安装轴套13与传动支臂12的臂力传动下,推动两组吸盘机构5沿导向滑槽3对称滑动,对其间距进行调节,以使其对陶瓷盘上相对应的晶片进行负压取料,进一步的在调节完毕后,工作人员手持把手2,控制气动下蜡装置移动,将吸盘机构5贴合在晶片的板面上,对其进行负压吸附取料工作。
气动吸附组件包括贯通安装在两组导向滑扣4内部的两组吸盘机构5,每组吸盘机构5的数量均为两个,且相邻的两个吸盘机构5通过汇流软管6导通,汇流软管6的进气端与负压软管7连通,且负压软管7的进气端与三通阀8连通,汇流软管6与负压软管7均为PE软管,在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的蓝宝石晶片进行下蜡工作过程中,事先将三通阀8与负压泵设备连通,继而利用负压泵设备的负压作用,将负压力依次通过三通阀8、负压软管7、汇流软管6传递至吸盘机构5的负压吸盘52内,利用负压吸盘52的负压吸力,对晶片进行负压吸料工作,将晶片直接从陶瓷盘上负压取下,其一方面具有简单便捷的操控性能,只需将吸盘机构5放置在晶片上,即可对晶片进行下蜡工作,另一方面具有安全稳定的操控性能,能够避免高温滴蜡烫伤工作人员,提高其操控安全性。
吸盘机构5包括负压吸管51,负压吸管51的管道底部安装有负压吸盘52,且负压吸盘52的盘面沿其周向排布开设有与负压吸管51相导通的多组负压通孔53,多组负压通孔53相对于负压吸盘52的盘面呈环形对称排列,在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的蓝宝石晶片进行下蜡工作过程中,通过在负压吸盘52上开设多组与负压吸管51相导通的负压通孔53,能够使负压吸盘52对蓝宝石晶片进行多点式负压吸料,提高负压吸盘52的负压吸料稳定性。
本实用新型的工作原理为:在利用气动下蜡装置对陶瓷盘上的蓝宝石晶片进行下蜡工作过程中,工作人员根据陶瓷盘上蓝宝石晶片的大小,对相邻的两组吸盘机构5的吸料间距进行调节,继而拧动调节手柄11,带动传动丝杆9转动,传动丝杆9在转动过程中,通过其相互对称排列的正、反丝牙,将旋转推力转化为水平推力,推动两组传动丝套10沿水平方向对称滑动,继而在安装轴套13与传动支臂12的臂力传动下,推动两组吸盘机构5沿导向滑槽3对称滑动,对其间距进行调节,以使其对陶瓷盘上相对应的晶片进行负压取料,进一步的在调节完毕后,工作人员手持把手2,控制气动下蜡装置移动,将吸盘机构5贴合在晶片的板面上,对其进行负压吸附取料工作,且在对晶片进行负压取料时,事先将三通阀8与负压泵设备连通,继而利用负压泵设备的负压作用,将负压力依次通过三通阀8、负压软管7、汇流软管6传递至吸盘机构5的负压吸盘52内,利用负压吸盘52的负压吸力,对晶片进行负压吸料工作,将晶片直接从陶瓷盘上负压取下即可。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,包括把手架组件和气动吸附组件;
所述把手架组件包括导轨架(1),所述导轨架(1)的支架中部安装有把手(2),且导轨架(1)的轨道中部转动连接有传动丝杆(9),所述导轨架(1)的轨道前后端呈两两对称形式对称贯通卡合有两组导向滑扣(4),每组导向滑扣(4)的数量均为两个,且每组导向滑扣(4)的套管中部均套设有安装轴套(13),所述传动丝杆(9)的轴杆外部对称套设有两组传动丝套(10),且两组传动丝套(10)的轴套两侧均设置有与安装轴套(13)相固定连接的传动支臂(12);
所述气动吸附组件包括贯通安装在两组导向滑扣(4)内部的两组吸盘机构(5),每组吸盘机构(5)的数量均为两个,且相邻的两个吸盘机构(5)通过汇流软管(6)导通,所述汇流软管(6)的进气端与负压软管(7)连通,且负压软管(7)的进气端与三通阀(8)连通。
2.根据权利要求1所述的一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,所述导轨架(1)的导轨前后端呈两两对称形式开设有与两组导向滑扣(4)相对应的两组导向滑槽(3)。
3.根据权利要求1所述的一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,所述传动丝杆(9)的一端输出端安装有调节手柄(11),且传动丝杆(9)以中线为界,中线的两侧分别设置有相互对称排列的正、反丝牙,所述传动丝杆(9)通过正、反丝牙与两组传动丝套(10)对称套接。
4.根据权利要求1所述的一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,所述汇流软管(6)与负压软管(7)均为PE软管。
5.根据权利要求1所述的一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,所述吸盘机构(5)包括负压吸管(51),所述负压吸管(51)的管道底部安装有负压吸盘(52),且负压吸盘(52)的盘面沿其周向排布开设有与负压吸管(51)相导通的多组负压通孔(53)。
6.根据权利要求5所述的一种晶片生产用气动下蜡装置,其特征在于,多组所述负压通孔(53)相对于负压吸盘(52)的盘面呈环形对称排列。
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